Osnova analize s povratno sipanimi elektroni (PSE) v vrstičnem elektronskem mikroskopu (SEM) je monotono naraščanje koeficienta povratnega sipanja z atomskim številom vzorca. Kot praktičen primer analize s PSE smo merili debelino vakuumsko napaarjenih tankih plasti Cu na podlagi iz 0,1 mm debele PET (polietilen-tereftalat) - folije. Debeline tankih plasti, izračunane z metodo Monte Carlo, po formuli Hungerja - Rogaschewskega, se dokaj dobro skladajo med seboj in z meritvami tankih plasti Cu na organski podlagi, medtem ko so rezultati po formuli Niedriga in Reuterja bistveno premajhni.

Pravice

URN

URN:NBN:SI:DOC-5MAVQMEL

COBISSID

222122

Objavljeno

16.09.2009

Metapodatki

Citiranje

APA:

Kaker, Henrik, Buhvald, Alojz, Perovnik, Vlado (2000). Meritev debeline tankih plasti v SEM s signalom povratno sipanih elektronov. Materiali in tehnologije, letnik 34, številka 3/4, str. 157-159. URN:NBN:SI:DOC-5MAVQMEL from http://www.dlib.si

MLA:

Kaker, Henrik, Buhvald, Alojz, Perovnik, Vlado. "Meritev debeline tankih plasti v SEM s signalom povratno sipanih elektronov." Materiali in tehnologije letnik 34. številka 3/4 (2000) str. 157-159.
<http://www.dlib.si/?URN=URN:NBN:SI:DOC-5MAVQMEL>

Materiali in tehnologije
2000-
(Zbirni zapis)

Meritev debeline tankih plasti v SEM s signalom povratno sipanih elektronovMeasurements of thin film thickness in SEM with backscattered electrons

Meritev debeline tankih plasti v SEM s signalom povratno sipanih elektronov
Measurements of thin film thickness in SEM with backscattered electrons