Sputtering of thin films
Naprševanje tankih plasti

tab1

1. PDF datoteka (933 kB)

1. TXT datoteka (22 kB)

Izvoz v EndNote (RIS format)

Avtor(ji)

Musil, Jindrich (avtor)

Jezik

angleški

Vir

Kovine zlitine tehnologije

Leto

1997

Številčenje

letnik 31, številka 1/2

Vsebina

naparevanje naprševanje tanke plasti magnetroni plazma

Založnik

Inštitut za kovinske materiale in tehnologije
Železarna Jesenice
Železarna Ravne
Železarna Štore

Izvor

Narodna in univerzitetna knjižnica

Opombe

Naprševanje in izparevanje trdih snovi sta fizikalna procesa, ki sta osnova današnjih fizikalnih (vakuumskih) postopkov nanašanja (PVD) tankih plasti. Do sredine sedemdestih let je naparevanje prevladovalo v PVD tehnologijah. To pa v glavnem zaradi majhne hitrosti nanašanja in relativno visokega tlaka (> 1 Pa), ki je bil potreben pri naprševanju za vzdrževanje plazme. Do preloma je prišlo leta 1971, ko je Chaplin razvil magnetron. Od takrat naprej je bil razvoj postopkov naprševanja zelo intenziven. V tem prispevku so podani glavni mejniki pri razvoju le-teh. Osvetlili bomo tudi sedanje trende razvoja na tem področju v luči zahtev sodobnih tehnologij za 21 stoletje.

Pravice

pravice pridržane

URN

URN:NBN:SI:DOC-HOZNHQ5H

COBISS ID

Objavljeno

22.07.2011

Metapodatki

tab1

tab1

tab1

tab1

Citiranje

APA:

Musil, Jindrich (1997). Sputtering of thin films, letnik 31, številka 1/2. URN:NBN:SI:DOC-HOZNHQ5H from http://www.dlib.si

MLA:

Musil, Jindrich. Sputtering of thin films. Inštitut za kovinske materiale in tehnologije
Železarna Jesenice
Železarna Ravne
Železarna Štore, 1997.
<http://www.dlib.si/?URN=URN:NBN:SI:DOC-HOZNHQ5H>

Kovine zlitine tehnologije
1992-1999
(Zbirni zapis)

prejšnja

Discontinuous Al-SiC composites formed by a low cost chemically activated infiltration technique
1996
(prejšnja številka)

naslednja

Ročno obločno varjenje s hlajenjem oplaščene elektrode
1997
(naslednja številka)