Silicidi so zadnjih deset let tema intenzivnih raziskav, predvsem zaradi vse pogostejše uporabe v integriranih vezjih. Med njimi je najpomembnejši ?$TiSi_2$? zaradi nizke električne upornosti, velike stabilnosti in kompatibilnosti s procesom izdelave integriranih vezij. Predstavljeni so modeli napovedovanja nastanka prve faze oziroma zaporedja nastanka faz pri pregrevanju Si-Ti sistema. Na primeru večplastne strukture je prikazan študij rasti titanovega silicida. Nastanek posameznih silicidnih faz smo zasledovali z in-situ meritvijo upornosti, s presevno elektronsko mikroskopijo prerezov (XTEM), z rentgensko difraktografijo in z Augerjevo profilno analizo.

Pravice

URN

URN:NBN:SI:DOC-RB1PYV24

COBISS ID

17108741

Objavljeno

22.07.2011

Metapodatki

Citiranje

APA:

Godec, Matjaž, Panjan, Peter, Cvelbar, Andrej, Navinšek, Boris, Zalar, Anton (1995). Študij rasti titanovega silicida, letnik 29, številka 1/2. URN:NBN:SI:DOC-RB1PYV24 from http://www.dlib.si

MLA:

Godec, Matjaž, Panjan, Peter, Cvelbar, Andrej, Navinšek, Boris, Zalar, Anton. Študij rasti titanovega silicida. Inštitut za kovinske materiale in tehnologije
Železarna Jesenice
Železarna Ravne
Železarna Štore, 1995.
<http://www.dlib.si/?URN=URN:NBN:SI:DOC-RB1PYV24>

Kovine zlitine tehnologije
1992-1999
(Zbirni zapis)

prejšnja

Analiza temperaturnega polja pri indukcijskem segrevanju
1995
(prejšnja številka)