ISSN 0351-9716
OSNOVE ELEKTRONSKE NANOLITOGRAFIJE
Marko Uplaznik, Dragan Mihailovi}
Institut "Jo`ef Stefan", Jamova 39, 1000 Ljubljana
POVZETEK
Elektronska nanolitografija omogo~a izdelavo vezij velikosti do 50 nm. Njihova oblika je lahko poljubna, zato je postopek primeren tako za oblikovanje vezij v eksperimentalne namene kot tudi za visokotehnolo{ko industrijo. Potencialna uporaba je mogo~a na podro~ju informacijske tehnologije, v medicinski diagnostiki in senzoriki.
Basics of Electron Nanolithography
ABSTRACT
The electron nanolithography enables us to produce circuits of the size down to 50 nm. Their shape is totaly arbitrary, that is why this procedure can be used for designing different devices for the experimental use and also in the high technology. The main potential use is possible in the information technology, in medicine diagnostics and in the development of new sensors.
1 UVOD
Litografija1 je precej star postopek tiskanja na papir in v osnovi obsega pisanje na posebej pripravljeno tiskarsko plo{~o. Nanjo naneseno tiskarsko ~rnilo, ki se je prime le na popisanih mestih, ne pa tudi drugje. Tako so dobili na papirju odtisnjen tiskarski vzorec, plo{~o pa so lahko ve~krat uporabili. V splo{nem je ideja litografskih postopkov v tem, da na neki na~in lo~imo med popisanimi in nepopisanimi deli. Podlaga, pisalo in lo~itveni postopek so posebnosti posamezne vrste litografije in so prilagojeni kon~enemu cilju oziroma izdelku.
Modernej{a izvedba tega postopka je zelo raz{irjena fotolitografija, ki jo uporabljajo pri izdelavi mikrovezij. Pisalo je v tem primeru svetloba, podlaga je rezina izbranega materiala, prevle~ena s fotore-sistom (shema a na sliki 1), tj. posebno snovjo, ki spremeni kemijsko strukturo ob osvetlitvi. S kemijskim postopkom razvijanja (shema b na sliki 1) odstranijo osvetljeni del fotoresista in tam izpostavijo rezino. Lo~itevni postopek je napr{itev kovine, saj nekaj snovi pade direktno na rezino, torej tam, kjer so prej pisali, preostali del pa na neosvetljeni del fotoresista. Ko z zadnjim kemijskim postopkom dvigovanja odstranijo ves fotoresist z rezine, ostane na njej le kovina, ki je v neposrednem stiku z njo, saj preostali del odstranijo skupaj s fotoresistom (shema c na sliki 1).
Valovna dol`ina svetlobe, s katero osvetlimo fotoresist, neposredno vpliva na lo~ljivost in s tem na velikost najmanj{ih struktur. Z njenim kraj{anjem se pojavijo te`ave, saj preprosto nimamo na voljo
1 litografija; gr{kega izvora: lythos – kamen, graphein – pisati
uspe{nih opti~nih elementov. Tako se zdi, da je odlo~itev izbire curka elektronov namesto svetlobe zelo primerna. Ne le da je njihova valovna dol`ina neprimerno kraj{a od valovne dol`ine svetlobe, tudi optika je dosegljiva in ne pomeni nepremostljivih te`av. Najmanj{e velikosti struktur so nekaj nano-metrov, zato dodamo predpono nano-, postopek pa imenujemo elektronska nanolitografija. Seveda je treba predvsem kemijski postopek prilagoditi elektronom, zato namesto fotoresista uporabljamo elektronski resist e-resist. Drugi koraki procesa so enaki kot pri fotolitografiji in so natan~neje opisani v naslednjih poglavjih:
1.  pisanje
2.  razvijanje
3.  nana{anje kovine
4.  dvigovanje
2 E-RESIST
E-resisti (3) so polimeri, pri katerih se ob osvetljevanju z elektroni trgajo vezi med monomeri. Nastali radikali se ponovno povezujejo, vendar neurejeno in naklju~no, zato se po re-polimerizaciji pove`ejo v mre`e ali pa ostanejo lo~eni. Ob primerni izbiri monomerov je mo~ dobiti snovi, ki so razli~no topne v nekaterih topilih glede na njihovo polimerno, mono-merno ali mre`no strukturo. Glede na povezovanje radikalov monomerov po osvetlitvi razlikujemo dva tipa resistov: pozitivne in negativne. Pri prvih raztopimo osvetljeni del in na koncu dobimo strukture na njih, pri drugih pa naprotno: osvetljeni deli ostanejo, kovino pa nanesemo povsod drugod, saj odstranimo neosvetljene dele. Izbira ni le stvar okusa, pa~ pa pripomore predvsem k ~asovni zahtevnosti in navsezadnje tudi h kakovosti izdelave.
Ker je bila na{a naloga izdelati majhne vodnike, smo se odlo~ili za pozitivni e-resist, saj je bila povr{ina celotnega vezja precej majhna v primerjavi z
Slika 1: Shema korakov fotolitografije: pisanje (a), razvijanje (b) in kovinski vodnik po dvigovanju (c)
VAKUUMIST 24/1–2 (2004)
13
ISSN 0351-9716
velikostjo ~ipa. Poleg tega so bile bistvo vezja ozke strukture, ki jih najuspe{neje izdelamo s pozitivnimi resisti. Ker s tovrstno litografijo nismo imeli izu{enj, smo izbrali splo{no uporaben pozitivni e-resist, ki je bil dober tako za prvo spoznavanje s postopki kot tudi za dopolnitev znanja. Na predlog proizvajalca (All-resist GmBH, Nem~ija) smo izbrali organski pozitivni e-resist metilmetakrilat (slika 2) oz. polimerno pasto PoliMetilMetAkrilat ali kraj{e PMMA (slika 3).
Spojina ima vse lastnosti, ki smo jih potrebovali pri delu:
•  ob osvetlitvi z elektroni polimeri razpadejo na radikale monomera (slika 3)
•  radikali monomerov se mo~no zamre`ijo
•  v metil-izobutil-ketonu je mre`na struktura zelo dobro topna, polimeri pa precej slab{e
•  oba strukturna tipa sta dobro topna v 1-metil-2-pirolidonu
Za izdelavo vezij je bilo treba osvojiti ve{~ine dela z e-resistom. To je bilo {e posebej te`avno, saj smo obenem preizku{ali pisalnik in kemijske postopke, uspeh pa je bil odvisen od obeh. Posebej poudarimo debelino e-resista, saj je bil ta parameter osnova vsem drugim, zato smo se morali {e posebej potruditi.
3 NANA[ANJE E-RESISTA
Na prvi pogled enostavna naloga se je izkazala za precej zahtevno, saj je proizvajalec priporo~al na-na{anje raztopine e-resista v klorbenzenu z vrte~im se nana{alnikom tankih nanosov. Pri prvih poskusih smo se zato zatekli h kolegom, ki so imeli vse potrebne aparature in dovolj izku{enj, kasneje pa smo spoznali, da smo morali biti sposobni nana{anja e-resista tudi sami, saj je bilo sodelovanje ~asovno preve~ potratno. Tako smo izdelali svoj nana{alnik tankih nanosov, ki je bil dejansko predelava lo~evalne centrifuge.
Naprava je bila v osnovi navpi~no postavljen motor z mizico na vrhu njegove gredi (shema na sliki 4). Na plo{~ico, ki smo jo pritrdili na mizico, smo kapnili nekaj kapljic raztopine resista in vklju~ili motor. Centrifugalna sila je nato razvlekla kapljevino po celotni povr{ini in prese`ek potisnila ~ez rob. Na plo{~ici je tako ostal tanek in precej enakomeren sloj e-resista. Da je bil postopek uspe{en in ponovljiv, je naprava morala ustrezati nekaterim zahtevam:
Slika 2: Kemijska struktura monomera PMMA 14
Slika 3: Depolimerizacija polimera PMMA
•  dovolj zmogljiv motor (2000 r/min – 6000 r/min)
•  motor je moral imeti primeren program po~asnega pospe{evanja in zaviranja
•  ozra~je okoli mizice je moralo biti izolirano od okolice, da smo prepre~ili nastajanje turbulentnih tokov in obenem ulovili odve~ni e-resist s plo{~i-ce.
Primerno zmogljivost in program vrtenja je imela centrifuga `e vgrajeno. Tretjo zahtevo smo izpolnili z dodatnim plasti~nim pokrovom, ki je poleg na{tetega zagotavljal {e varnostno za{~ito.
Debeline nanosov pri razli~nih frekvencah vrtenja in za razli~ne koncentracije e-resista nam je sporo~il `e proizvajalec. Ti podatki so nam bili zgolj za oceno, saj smo morali vse postopke prilagoditi na{im nanosom, ki pa so bili kljub vsemu blizu predvidenim. Izbrali smo frekvenco 4000 min–1 za nana{anje 5-odstotne raztopine e-resista, kar je pomenilo debelino okoli 500 nm. Po nana{anju je bilo treba plo{~ico su{iti nekaj minut pri 60 °C, da je izhlapelo topilo, in nato {e eno uro pri temperaturi 150 °C – 160 °C, da se je e-resist strdil. Tako pripravljena plo{~ica je bila primerna za elektronsko pisanje.
Slika 4: Shema nana{alnika tankih nanosov
VAKUUMIST 24/1–2 (2004)
ISSN 0351-9716
Slika 5: Gaussovo porazdelitev nadomestimo s konstantno
Slika 6: Kro`no obliko nadomestimo s kvadratno
4 ELEKTRONSKO PISANJE
Osnovni parameter pri elektronskem pisanju je ekspozicijska doza D 1, ki pove stopnjo kemijske spremembe e-resista oz. kar {tevilo elektronov na osvetljeno povr{ino:
D=
It
S
(1)
pri ~emer je I vpadni tok, t ~as osvetlitve in S osvetljena plo{~ina. Pri natan~nej{i obravnavi je treba izraz prilagoditi na~inu osvetlitve: lahko osvetimo celotno povr{ino zaslona in dozo uravnavamo s ~asom osvetlitve (podobno kot pri fotografiji) ali pa s premikanjem manj{ega curka "prehodimo" celotno povr{ino. V na{em primeru gre seveda za drugi na~in, pri katerem s hitrostjo curka uravnavamo stopnjo osvetlitve. Da bi izraz veljal tudi tokrat, je trebna privzeti enakomerno porazdelitev gostote elektronov z enako energijo namesto Gaussove porazdelitve obeh koli~in. Velikost vpadne povr{ine omejimo s pod-ro~jem, kamor pade 90 % vseh elektronov v curku, njeno kro`no obliko pa nadomestimo s kvadratno, da lahko pokrijemo celotno povr{ino. Shematski prikaz je na slikah 5 in 6.
Stranica kvadrata je tako:
s=
1,65
4^0
(2)
kjer sta numeri~na faktorja posledica privzetkov o obliki curka, ?G pa Gaussov polmer curka. Koli~ina S v izrazu (1) je preprosto s2, ~as pa lahko zapi{emo kot s/v, kjer je v hitrost pisanja, kot jo posredno nastavimo v programski opremi. Da je izraz pravilen, jo moramo deliti {e s pove~avo M. Tako dobimo kon~ni izraz:
D=K
IM_
sv
(3)
kjer so v konstanti K zdru`eni vsi numeri~ni faktorji pribli`kov in pretvorbe programske hitrosti v dejansko.
5 BLI@INSKI EFEKT
Pomemben stranski efekt pri pisanju je bli`inski efekt (angle{ko: proximity efect) 1. Pri vpadu elektronov je treba namre~ upo{tevati povratno sipanje, ki
Slika 7: Shema povratnega sipanja (a) in posnetek raz{irjenih majhnih kontaktov (b); s ~rnimi ~rtami so ozna~ene meje risalnih povr{in oziroma vezja, ki smo ga `eleli narisati
VAKUUMIST 24/1–2 (2004)
15
ISSN 0351-9716
osvetljuje resist od spodaj. Posledica tega je efektivna raz{iritev osvetljenega kanala in zmanj{anje lo~ljivosti. V idealnem primeru si lahko zamislimo, da elektroni, ki se niso neelasti~no sipali na molekulah polimera, v ravnem snopu predrejo plast e-resista in v nespremenjeni smeri nadaljujejo pot skozi plo{~ico.
V resnici se elektroni ravno tako sipajo elasti~no `e znotraj plasti, v plo{~ici pa se lahko sipajo tudi nazaj ter zopet vstopijo v plast e-resista, stran od mesta osvetlitve curka (slika 7a). Efekt nas moti pri majhnih strukturah ali pa v primeru struktur, ki so blizu skupaj v primerjavi z debelino e-resista (slika 7b).
Kjub temu pa lahko efekt obrnemo v svojo korist. Povratno sipani elektroni osvetljujejo e-resist od spodaj, stran od vpadnega curka, in ~e je njihova gostota zadostna, lahko, enako kot elektroni v vpadnem curku, kemijsko spremenijo polimerno pasto. Meja dosega zadostne osvetlitve je odvisna od jakosti povratnega sipanja, ta pa je sorazmerna s tokom vpadnega curka. Tako imamo mo`nost uravnavanja {irine pisala, ki se za majhne tokove pribli`uje {irini vpadnega curka.
Pri izdelavi vezja smo lahko ubirali razli~ne strategije pisanja glede na velikost posameznih delov: za najdrobnej{e smo izbrali najtanj{e pisalo, torej pri zelo nizkih tokovih (? 50 pA), za ve~je povr{ine pa smo izbrali naj{ir{e pisalo pri zelo visokih tokovi (? 60 nA). Seveda je bila ostrina in natan~nost robov velikih struktur mo~no zmanj{ana, vendar to ni bila te`ava, saj so bile tovrstne strukture namenjene povezavi z makrosvetom in njihova natan~na izdelava ni bila kju~nega pomena. Razli~ne strategije so zmanj{ale ~as izdelave na vsega 10 % prvotnega; za eno vezje smo potrebovali okoli 4 min, prej pa celo 40 min golega pisanja.
Efekt lahko upo{tevamo v izrazu definicije ekspozicijske doze (3) tako, da namesto {irine curka v parameter s vstavimo {irino pisala. S tem definiramo namesto konstantne {irine vpadnega curka efektivno {irino curka, ki pove dejansko {irino pisalne poteze, kakor jo narekuje povratno sipanje bli`inskega efekta.
Tak{na definicija ima {e svojo prakti~no uporabno plat, saj lahko parameter s razumemo kot razmik med ~rtami pisanja, ki ga nastavimo v programski opremi.
6 MEJNA EKSPOZICIJSKA DOZA
Bolj kot absolutna ekspozicijska doza je pri pisanju pomembna mejna ekspozicijska doza 1. To je doza, pri kateri osvetlimo e-resist ravno {e dovolj, da ga uspe{no odtopimo. Dolo~itev tega parametra je eksperimentalna in subjektivna, saj je lahko edino merilo visoka ostrina robov in uspe{na odtopitev resista. Za drobne strukture je dobro poznanje mejnih vrednosti zelo pomembno, saj pri vsaki prekora~itvi nehote {irimo {irino pisanja, kot smo spoznali v prej{njem razdelku.
Pri na{em delu nismo `eleli tvegati neuspeha, zato smo pisali z dvakratno mejno dozo, za velike strukture pa tudi s {tirikratno. Globlja analiza tega pomembnega parametra ni bila preve~ smiselna, saj pri nana{anju tankih nanosov nismo dosegli odli~nega uspeha, ti pa neposredno vplivajo na mejno dozo, tako da smo pojmovali mejne parametre zgolj kot informacijo in kot vodilo.
7 RAZVIJANJE
Pri tem koraku izdelave smo odtopili osvetljene dele e-resista 4. Po navodilih proizvajalca resista smo kot razvijalec uporabili raztopino metil-izobutil-ketona, kraj{e MIBK, in izopropanola v razmerju 1 : 3.
Rezino smo potapljali v razvijalcu, ki je odtopil kemijsko spremenjene dele polimerne paste do plo{~ice (slika 9), nato pa smo s ~istim izopropanolom sprali razvijalec s plo{~ice, da smo ustavili raztapljanje.
Najpomembnej{i parameter je bil ~as razvijanja. Nastavili smo ga na 3 min, kar je bilo dvakrat ve~ od priporo~enega ~asa. To smo storili zato, ker pri predvidenem ~asu minute in pol nismo uspe{no razvili
Slika 8: Posnetki preizku{anja doze na vezju velikosti 50 ΅m s kontakti, {irokimi 1 ΅m; na sliki a) je doza prenizka, saj vidimo, da kanali niso ostri. Na sliki c) je doza previsoka, saj so kanali zliti skupaj. Na sliki b) je doza ravno prav{nja, saj so kanali dobro vidni in lo~eni med seboj
16
VAKUUMIST 24/1–2 (2004)
ISSN 0351-9716
Slika 9: Shema prereza plo{~ice, prekrite z resistom pred in po razvijanjem (a) in po njem (b), ko smo odtopili popisane dele resista
oziroma odtopili osvetljenega e-resista, to pa je pomenilo neuspeh. Razlog za to je bila debelina sloja oziroma bolj{e nana{anje tankih nanosov, ki ni bilo izpopolnjeno. Dalj{anje ~asov razvijanja je pomenilo neznatno {irjenje struktur in zmanj{evanje ostrine robov, to pa v na{em primeru izdelave vezij ni imelo dramati~nih posledic. Podobno kot pri nastavitvi mejne ekspozicijske doze smo tudi v tem primeru ravnali tako iz previdnosti, saj nismo hoteli tvegati in po nepotrebnem izgubljati vezij.
V prej{njem razdelku smo ekspozicijsko dozo omejili navzdol, pri razvijanju pa smo ugotovili, da z osvetljevenjem vendarle ne gre pretiravati. Zares visoke doze namre~ spremenijo kemijsko sestavo monomerov polimerne paste e-resista, tak{ne spojine pa niso ve~ topne v razvijalcu. Po razvijanju preosvetljenega obmo~ja vidimo le obrobo okoli strukture zaradi bli`inskega efekta, notranjost pa ostane neraztopljena, kot je to prikazano na sliki 10.
Dodajmo {e, da bi bilo nujno raziskati parametre razvijanja veliko bolj podrobno, ~e bi bile ciljne strukture manj{e, saj bi sicer {ibki vplivi v tem primeru postali zelo mo~ni.
8 NANA[ANJE KOVINE
Na{e vezje je bilo meritveno, zato smo izbrali zlato, saj ima zelo dobre fizikalne lastnosti. Kovino so nam napr{ili kolegi z Odseka za tanke plasti in
Slika 11: Shema prereza plo{~ice, prekrite s titanom in z zlatom, po razvijanju
povr{ine (Institut "Jo`ef Stefan"), saj so imeli poleg ustreznih naprav tudi bogate izku{nje, tako da je bil postopek zelo zanesljiv.
Na sliki 11 je prikazan prerez nanosa kovine po razvijanju. Nekaj kovine pade neposredno na plo{~ico, to je na mestih, kjer razvijalec odtopi v procesu pisanja osvetljene dele resista, preostli del pa na resist v okolici kanalov. Tudi pri tem postopku smo naleteli na te`ave, saj so bila vezja iz zlata zelo ob~utljiva za mehanske vplive, saj se zlato zelo slabo oprime plo{~ice, zato smo pod zlato nanesli {e tanek sloj titana (slika 11). Tak{na vezja so bila neprimerno bolj obstojna, vendar je bilo treba z njimi previdno ravnati.
9 DVIGOVANJE
To je bil zadnji korak izdelave vezja in bi ga lahko {teli skupaj z nana{anjem kovine v en proces, saj sta mo~no povezana.
Pri tem postopku odstranimo oziroma dvignemo (angle{ko: lift-off) kovino, ki je na resistu, tako da ostanejo le strukture znotraj kanalov, neposredno na plo{~ici. To storimo tako, da plo{~ico potopimo v 1-metil-2-pirolidon, topilo resista v monomerni, polimerni ali mre`ni obliki. Sloj polimera se raztopi,
Slika 12: Shema prereza plo{~ice po dvigovanju; na povr{ini ostane tanek vodnik iz plasti titana in zlata
Slika 10: Slika obmo~ja, kjer je bila doza veliko previsoka. Risalna povr{ina je kvadrat znotraj svetlega pasu, ki je posledica bli`inskega efekta
VAKUUMIST 24/1–2 (2004)
Slika 13: Shema glavnih napak pri izdelavi. Zaradi slabo odtopljenega resista se kovinski prevleki v kanalu in na resistu stakneta, lahko pa kovina sploh nima stika s podlago (a); predolgo razvijanje ali premo~na osvetlitev zni`ata debelino resista med kanaloma, zato se kovinske prevleke staknejo (b).
17
ISSN 0351-9716
kovina na njem pa ostane brez podlage in jo lahko odstranimo z rahlim curkom topila ali pa v ultrazvoku (slika 12).
Vendar kjub enostavnosti uspeh ni zagotovljen. Vezja so lahko po izdelavi popolnoma neuporabna in v kratkem stiku (slika 13). Razlogi so lahko razli~ni:
•  slabo raztopljen e-resist
•  stik med kovino na resistu in v kanalih zaradi manj ostrih robov in napak pri napr{evanju
•  stik med kovino na resistu in v kanalu zaradi prevelike debeline kovine
•  grobo odstranjevanje s curkom ali ultrazvokom odtrga tudi kovino v kanalih
Te`ave smo omilili s protiukrepi:
•  rezino smo pustili v topilu vsaj od 24 h do 72 h
•  zelo tanek nanos kovine: 10 nm titana in 20 nm zlata
•  izpiranje z rahlimi curki teko~ine in izogibanje ultrazvo~nim kopelim.
Ni treba posebej poudarjati, da so razmere kriti~ne {e posebej pri drobnih strukturah z majhnimi oddaljenostmi (300 nm) med seboj, saj so tam vse te`ave {e bolj izrazite.
Po uspe{nem procesu smo rezino o~istili z izopro-panolom in jo posu{ili z du{ikom. Tako pripravljena plo{~ica je bila pripravljena na meritve.
10 ^ISTO^A
Posebej poudarimo {e vpliv ~isto~e na na{e delo. Navidez zelo postranska skrb zelo mo~no vpliva na uspe{nost izdelave struktur. Ne~isto~e v kemikalijah, zraku ali na orodjih velikokrat zaidejo na silicijeve rezine in motijo pri korakih izdelave, njihov vpliv pa se skozi procese le {e stopnjuje. Morda najpomembnej{a je motnja pri nana{anju e-resista, kjer se ob zrnih oblikujejo debelej{i nanosi, ki vplivajo na neenakomerni pas sloja vse do roba plo{~ice. Pisanje je brez varnostnih ukrepov skoraj obsojeno na propad, {e posebej, ~e `elimo izdelovati majhne strukture.
Ne~isto~e lahko motijo tudi pri pisanju v primeru, ~e nehote pi{emo ~eznje, saj se lahko zgodi, da se kasneje nanesena kovina z njih odlu{~i, to pa pomeni neuspeh. Kon~no lahko ne~isto~e vplivajo neposredno na meritev, ~e imamo smolo in zaidejo na obmo~je kontaktov, tako daje ves poprej{nji trud zopet zaman.
Za ~isto~o smo skrbeli tako, da smo rezine nosili v {katlicah, izogibali smo se nepotrebnemu izpostavljanju zraku, ob ravnanju z njimi smo uporabljali pincete in rokavice iz lateksa za enkratno uporabo, pred nana{anjem resista pa smo jih o~istili v acetonu, jih sprali z izopropanolom in nazadnje posu{ili z
du{ikom. ^e smo sumili, da so bile plo{~ice {e posebej onesna`ene ali mastne, smo jih najprej o~istili z alkalnim ~istilom, ki smo ga sprali z vro~o vodo, nato pa {e z deionizirano vodo, preden smo jih dali v aceton in izopropanol.
Tak{ni ukrepi so bili zares osnovni in so le omilili omenjene te`ave, zato smo izdelali ve~ vezij naenkrat, da smo lahko dopustili dolo~en odstotek neuspeha.
11 SKLEP
Opisani postopek elektronske nanolitografije je splo{no uporaben pri izdelavi majhnih vezij in struktur. Realno so meje najmanj{ih struktur na{ega prototipa med 50 nm in 100 nm, pri razmikih do 50 nm in ostrino robov pod 10 nm. Ker smo morali posamezne korake in aparature razviti in izdelati po osnovnih navodilih prakti~no od za~etka, so bile karakteristike struktur slab{e od navedenih:
•  najmanj{e velikosti struktur so bile 1  ΅m pri razmiku 1 ΅m
•  ostrina robov med 50 nm in 100 nm
•  debelina kovinskih nanosov 30 nm
•  napake zaradi ne~isto~.
Poleg napak procesa k slab{im rezultatom prispevajo tudi parametri izdelave, ki smo jih nastavili tako, da so bili uspehi izdelave dovolj zanesljivi. Predvsem bi bilo treba preu~iti mejno ekspozicijsko dozo in nana{anje resista. Tanj{i nanosi bi se bolje obnesli, {e bolj{e rezultate pa bi dobili z nana{anjem ve~ plasti razli~nih resistov, saj bi tako omilili raz{irjevanje zaradi bli`inskega efekta, ki v najve~ji meri vpliva na velikost najmanj{ih struktur. Kljub temu smo lahko zadovoljni z uspe{nostjo izdelave, saj lahko ob nadaljnjem delu pri~akujemo mnogo bolj{e karakteristike in se tudi pribli`amo navedenim realnim mejam.
Vsa meritvena vezja smo izdelali z enkratnim nanosom plasti e-resista debeline 500 nm, kar je bilo dovolj dobro za izdelavo na{ih razmeroma velikih vezij.
LITERATURA
1W. Daumann, InP-Kurzkanal-Heterostruktur-Feldeffekttransistoren mit
elektronen-strahldefinierten Gate-Kontakten, doktorska disertacija,
Duisburg, 2000 2M. Uplaznik, Meritev vzdol`ne elektri~ne prevodnosti Mo6S4I4 nano-
`i~k z uporabo elektronske nanolitografije, diplomsko delo, Univerza v
Ljubljani, 2003 3L. A. W. Robinson, Self-aligned electrodes for suspended carbon
nanotube structures, Microelectronic Engineering, 67(2003), 615-622 4Katalog: Allresist : Photo- und E-beam Resists, 2002
18
VAKUUMIST 24/1–2 (2004)