Rentgenska fotoelektronska spektroskopija z visoko lateralno ločljivostjo - mikro XPS - Kovač, Janez (Vakuumist, 1998)
Na mnogih tehnoloških področjih, kjer stopajo v ospredje lastnosti površin, tankih plasti in faznih mej, se je pokazalo, da igrajo velikokrat pomembno vlogo procesi in pojavi na mikroskopskem nivoju. Potreba po karakterizaciji teh pojavov je narekovala razvoj lateralno visoke ločljive tehnike XPS. V prispevku so kratko podane osnovne značilnosti tehnike XPS, potrebna instumentalna oprema in različne izvedbe, ki omogočajo visoko lateralno ločljivost te tehnike. Nekoliko podrobneje je opisan rasterski fotoemisijski mikroskop na žarkovni liniji ESCA Microscopy na sinhrotronu Elettra. Podano je nekaj rezultatov, dobljenih s tehniko mikro XPS.
Keywords: rentgenske metode; spektroskopske metode; rentgenska fotoelektronska spektroskopija