Optimiranje EOP — VOD postopka proizvodnje nerjavnih jekel UDK :669.15-194.56:669.187.2 ASM/SLA: SS-e, 1-73 Nijaz Smajič Izvedena je kratka analiza osnovnih problemov EOP-VOD postopka proizvodnje nerjavnih jekel in opisane možnosti optimizacije tega postopka z uporabo računalnika in matematičnega modela M1S-VOD. ki omogoča simulacijo vodenja vakuumske oksidacije, t. j. izvedbo modelnih poskusov, potrebnih za opredelitev optimalnih procesnih parametrov za vsako posamezno šaržo. 1. UVOD Nerjavna jekla smo v slovenskih železarnah vse do leta 1984 proizvajali po tim. klasičnem postopku, t. j. v elektro obločni peči. Klasična tehnologija je bila v industrijsko razvitih deželah uspešno izpopolnjena v obdobju od 1950 do sredine šestdesetih let. Razvoj tega postopka je bil zelo uspešen, čeprav je skoraj v celoti temeljil na izkušnjah jeklarjev in je bil prispevek raziskovalcev s področja teorije metalurških procesov razmeroma zelo skromen. Teorija je torej zaostajala za prakso, kar je razmeroma pogosto, če ne kar značilno za metalurgijo. Leta 1967 so v takratni Edelstahlwerke Witten razvili postopek vakuumske oksidacije talin z visoko vsebnostjo kroma (VOD) in tako ustvarili možnost skoraj popolnoma selektivne oksidacije ogljika, kar je privedlo do bistvenega znižanja proizvodnih stroškov. Dve leti pozneje je firma Union Carbide v ZDA razvila lastni (AOD) postopek. Tako je bila klasična tehnologija opuščena, še preden so raziskovalci s področja teorije metalurških procesov utegnili kaj prispevati k njenemu razvoju. Ker se je klasična tehnologija pri nas obdržala še polnih 15 let, smo se na Metalurškem inštitutu v letih 1978—1980 ukvarjali (1, 2, 3) z raziskavami na področju termodinamične analize sistema Fe-Cr-C-0 in Fe-Cr-C-Si-O, ki so imele namen izpopolnjevati klasični postopek izdelave nerjavnih jekel v naših železarnah. Leta 1981 smo to delo preusmerili na teoretske raziskave (4, 5, 6) novih, sodobnih postopkov, predvsem dupieks tehnologije EOP-VOD, da bi tako pripomogli k lažjemu osvajanju tega postopka v naših jeklarnah. Končno smo leta 1984 na Metalurškem inštitutu v Ljubljani razvili matematični model M1S-VOD, ki z uporabo računalnika omogoča izvedbo modelnih poskusov. Tukaj obravnavamo nekatere temeljne probleme te tehnologije z namenom, da bi jeklarjem praktikom olajšali obvladati težave, ki so specifične za to tehnologijo, in jih obenem seznanili z nekaterimi dognanji dosedanjega dela, ki jih je možno neposredno uporabiti v praksi. Obravnavamo predvsem problem pravilne priprave taline za vakuumsko oksidacijo v VOD ponovci, vprašanje sinhronizacije, t. j. časovne usklajenosti dela elektro-obločne peči in VOD ponovce ter problem vzdržnosti ognjevarne obloge VOD ponovce. 2. OSNOVNI PROBLEMI EOP — VOD POSTOPKA 2.1 Pravilna priprava taline za VOD Pravilna priprava taline za VOD obdelavo je bistvenega pomena za ekonomičnost in za produktivnost. Med primarno oksidacijo, ki jo običajno izvajamo v EO peči ali v LD konvertorju, moramo v večini primerov znižati vsebnost ogljika in silicija na tiste vrednosti, ki jih zahteva ritem dela v jeklarni, glede na nujno potrebo po časovno usklajenem delu EO peči in VOD ponovce. Maksimalno dovoljeni vsebnosti ogljika in silicija sta 1,2 % C in 0,20 % Si. Obenem moramo zagotoviti primerno temperaturo taline pri izlivu iz peči v VOD ponovco. Temperatura taline na začetku vakuumske oksidacije mora namreč biti v precej ozkem intervalu. Računati je treba, da morajo taline z visoko vsebnostjo ogljika imeti nekoliko nižjo temperaturo na začetku pihanja kisika zaradi velike eksotermne toplote, ki se sprošča med oksidacijo, sicer se lahko temperatura taline dvigne nad 1700° C, kar je zelo neugodno za vzdržnost obloge VOD ponovce. Težave so še večje, če imamo pri tem še veliko vsebnost Si in je zato priprava taline, t. j. faza primarne oksidacije, zelo pomembna. Čeprav je v določeni meri možno preprečiti oz. omiliti pričakovani veliki porast temperature taline zaradi velike vsebnosti C in/ali silicija na ta način, da se odločimo za manj intenzivno oksidacijo, s tem da pihamo npr. le 700—800 m3 kisika na uro namesto napr. 1100—1200. To gre seveda na račun produktivnosti, ker se s tem daljša čas trajanja šarže, in kar je še slabše, pri tem se lahko poruši sinhronizacija dela peči in VOD ponovce. Obenem to pomeni, da je talina pri izlivu iz EO peči imela nepotrebno visoko temperaturo, za kar smo porabili nekaj odvečnih kilovatnih ur. Obseg primarne oksidacije je torej odvisen od številnih dejavnikov in ga narekuje predvsem zahteva po časovno usklajenem delu EO peči in VOD ponovce oz. predvideni čas, potreben za vakuumsko oksidacijo. Tega sicer lahko nekoliko spremenimo pri dani sestavi in temperaturi taline, vendar je tako natančno prilagajanje precej zahtevna naloga. 2.2 Časovna usklajenost EO peči in VOD ponovce Časovno usklajeno delo v jeklarni je nujno treba doseči, sicer nastopajo velike težave — občuten padec produktivnosti in porast proizvodnih stroškov. Posebno veliki problemi v tem smislu nastopajo v starih jeklarnah, v katerih je bila zgrajena VOD naprava, medtem ko je pri novih jeklarnah, ki so že bile projektirane za tandem EOP-VOD, ta problem dosti manjši. V primeru VOD naprave ne dosežemo tako občutne rasti pro- duktivnosti kot pri AOD konvertorju, ker je intenziteta vakuumske oksidacije omejena z močjo črpalk, medtem ko te omejitve v AOD konvertorju ni. Za časovno usklajeno delo je pomembna dosledna tehnološka disciplina in brezhibno vzdrževanje vseh naprav v jeklarni. S tehnološkega stališča je pomembno, da v določeni meri lahko omilimo motnje v sinhronizaciji EO peči in VOD naprave s krajšanjem ali podaljševanjem primarne oksidacije v EOP ter s spremembo intenzitete sekundarne, t. j. vakuumske oksidacije. 2.3 Vzdržnost ognjevame obloge Število šarž, ki jih lahko prenese ognjevarna obloga VOD ponovce, veliko vpliva na proizvodne stroške. Vzdržnost obloge je odvisna od številnih dejavnikov, izmed katerih so najpomembnejši: — stroga kontrola temperature taline v VOD ponovci, ki ne sme presegati 1700° C, — čim manjša količina žlindre, — pravilen dodatek apna oz. pravilna bazičnost žlindre, — nizka začetna vsebnost Si v talini, — pravilna obzidava in dobra kvaliteta opeke. 3. PRAVILNA PRIPRAVA TALINE ZA VOD Za pravilno pripravo taline za vakuumsko oksidacijo sta pomembni predvsem potek primarne oksidacije v EOP ter obseg primarne oksidacije. Potek primarne oksidacije je pomemben zato, ker lahko med oksidacijo dosežemo določeno, načrtovano, predpisano vsebnost ogljika z manjšo ali večjo porabo energije, z različno stopnjo oksidacije kroma in z različno končno temperaturo taline. Obseg oksidacije pa mora biti vnaprej določen, glede na sestavo staljenega vložka, t. j. analizo prvega preizkušanca ter načrtovano končno vsebnostjo ogljika v talini, ki je namenjena vakuumski oksidaciji. Usklajeno delovanje EOP in VOD ne zahteva le vzdrževanja pravega ritma dela, t. j. ne gre le za časovno usklajenost, temveč morata biti usklajeni tudi sestava in temperatura taline. Končna sestava in temperatura taline na koncu primarne oksidacije sta torej predpisani z izbrano oz. zaželeno sestavo taline na začetku VOD oksidacije ter s temperaturo taline na začetku VOD obdelave, ob upoštevanju ohladitve taline v času od izliva iz EOP do začetka vakuumske oksidacije. 3.1 Optimalni potek primarne oksidacije Obseg primarne oksidacije je torej opredeljen z razliko vsebnosti ogljika (silicija) na začetku in koncu primarne oksidacije. Delo v VOD komori naj bo čimbolj standardizirano, t. j. zaželeno je, da imajo taline na začetku vakuumske oksidacije po možnosti vedno enako sestavo in temperaturo. Na ta način se lahko izognemo napakam in lahko uporabljamo dobro utečen ter preizkušen način dela brez neprijetnih presenečenj. Seveda se občasno iz številnih vzrokov pojavi potreba po spremembi standardnih procesnih parametrov zaradi spremenjenih začetnih parametrov stanja taline, t. j. začetne sestave in temperature taline za VOD. Te nepravilnosti so neizogibne in nastopajo sicer le občasno, vendar zahtevajo od jeklarja odstop od običajne prakse in ustrezno ter pravočasno ukrepanje. Za pravilen potek primarne oksidacije pa moramo poznati ustrezna termodinamična ravnotežna stanja in nam zadošča, da poznamo ravnotežji C/Cr in C/Si, kar nam zagotavlja: — minimalno porabo električne energije, — najmanjšo možno toplotno obremenitev obloge EO peči, — minimalno stopnjo oksidacije kroma v EOP, — minimalno porabo reducentov, — hitro ter enostavno redukcijo žlindre in — zadosti nizko vsebnost Si, t. j. tako vsebnost silicija v talini za VOD, ki ne bo povzročala težav med vakuumsko oksidacijo. Na sliki 1 vidimo diagram, ki prikazuje ravnotežno stanje med ogljikom in 18 — 20 % Cr v odvisnosti od temperature in aktivnosti Cr,04 v žlindri pri 9 % Ni. Znano je, da se aktivnost Cr,04 v žlindri giblje med 0,10 in 0,30. Večja vrednost ustreza večji vsebnosti kroma v žlindri, zaradi tega si želimo voditi primarno oksidacijo po zgornjih krivuljah na sliki 1, ki se nanašata na pogoje pri zmerni oksidaciji kroma (aktivnost Cr304 = 0,10), ter na talini z 18 % Cr (spodnja) in 20 % Cr (zgornja krivulja). Če želimo npr. začeti vakuumsko oksidacijo v VOD s talino, ki ima 0,6 % C, potem iz diagrama vidimo, da nam ob koncu primarne oksidacije zadošča temperatura 1600° C. Če smo delali pri nižji temperaturi, npr. 1550, potem iz diagrama vidimo, da bo aktivnost Cr304 že dosegla zgornjo dopustno mejo (0,30). Imeli bomo razmeroma veliko kroma v žlindri ter v zvezi s tem otežkočeno redukcijo žlindre. Višja temperatura od 1600° C ni priporočljiva zaradi nepotrebno povečane toplotne obremenitve obloge peči, nekoliko večje porabe električne energije, in kar je še bolj pomembno, previsoke začetne temperature v VOD, ki bo verjetno presegla 1700° C ob koncu vakuumske oksidacije. To bi seveda povzročilo preveliko porabo ognjevame obloge VOD ponovce. Dodajmo temu še dejstvo, da višja temperatura primarne oksidacije ne bi pripomogla k znižanju oksidacije kroma, kot bi bilo pričakovati glede na termodinamične zakonitosti, in sicer zato, ker je določena stopnja oksidacije kroma, ki ustreza aktivnosti Cr304 = 0,10, praktično neizogibna. Globalno vzeto, se v talini brez dvoma vzdržuje ravnotežno stanje med Cr in C, toda lokalno (na površini taline) nimamo ravnotežja in je zato omenjena stopnja oksidacije kroma neizogibna. Ker med oksidacijo narašča temperatura tali- Temperatura v °C Slika I Temperaturni profil optimalnega poteka primarne oksidacije talin z 18-20 % Cr in 9 % Ni (EOP). Fig. I Optimum course of primary oxidation for melts with 18-20 % Cr and 9 % Ni (EAF). ne, je v tem primeru jasno, da moramo takoj po stalje-nju začeti pihati kisik. Z nekoliko prakse je možno začeti pihati celo preje, t. j. še preden se je vložek popolnoma stalil, in tako privarčevati električno energijo. Ker so toplotne izgube močno odvisne od kapacitete peči oz. od mase taline, le praksa lahko pokaže, ali se v posamezni jeklarni lahko na ta način dosežejo kakšne prednosti. 3.2 Obseg primarne oksidacije Minimalni obseg primarne oksidacije je tista stopnja oksidacije v EOP, ki nam zagotavlja, da bo talina pri izlivu iz peči imela največ 1,0—1,2 % C in maksimalno 0,20 % Si. Ta predpis imajo v jeklarni v Wittnu in je seveda rezultat bogatih izkušenj z VOD tehnologijo izdelave nerjavnih jekel. Predpis je brez dvoma koristen, posebno v primeru, ko zaradi nižje cene uporabljamo FeCr charge, ki vsebuje veliko Si, vendar je preveč posplošen in obenem ne omogoča točnejši izračun potrebnega dodatka CaO v takih primerih. Poznavanje termodinamičnega ravnotežja med ogljikom in silicijem v talini v odvisnosti od temperature ter trojnega ravnotežja med ogljikom, silicijem in kromom nam omogoča lažje delo in točen izračun potrebnega dodatka CaO. Iz analize prvega preizkušanca oz. taline, ki smo ji že dodali ves potrebni krom, ki torej že vsebuje ves Si in končne, t. j. ravnotežne vsebnosti Si pri želenem končnem ogljiku in temperaturi, lahko ugotovimo obseg oksidacije silicija ter nato izračunamo potreben dodatek CaO. Ravnotežna vsebnost Si pri dani vsebnosti ogljika in npr. 18 % Cr ter 9 % Ni je odvisna od temperature, pa tudi od aktivnosti Si02 v žlindri. Aktivnost Si02 v žlindri se lahko spreminja v mejah od 0,03, pri zelo bazičnih žlin-drah do 0,10. Pri ostalih enakih pogojih je ravnotežna vsebnost Si večja pri večji aktivnosti Si02 v žlindri. Kako se spreminja ravnotežna vsebnost Si v odvisnosti od vsebnosti ogljika v talinah z 18 % Cr in 9 % Ni kaže slika 2 za temperaturi 1550 in 1600° C ter za aktivnosti SiO, v mejah od 0,03 do 0,10. Vzemimo primer taline, ki ima ob staljenju 0,90 % C, 20 % Cr in 9 % Ni pri temperaturi 1550° C (točka A na sliki 1) ter 0,18 % Si (točka A 0,16 "tn 0 1 °-12 "g 0,08 o C > o CE "i 18*/. C /o 1600° sio2-0,10 / t, J A 1 /1550° /^S.02 = 1 1 / 1 / \/ j /1500 °C K/\ / asiOj-0,03 E —___ as,o,= 0.03 20 100 1,20 0,«) 0,60 0,80 Vsebnost ogljika v */. Slika 2 Termodinamično ravnotežje Si/C za taline z 18 % Cr pri temperaturah 1550 in 1600° C in za aktivnost Si02 med oz. za 0,03 in 0,10. Fig. 2 Thermodynamic equilibrium Si/C for melts with 18 % Cr for 1550 and 1600" C at a Si02 = 0,03 and 0,10. na sliki 2). Glede na termodinamično ravnotežje C/Cr (slika 1) ogljik ščiti krom pred oksidacijo. Iz slike 2 pa obenem vidimo, da Si ščiti ogljik pred oksidacijo, saj je točka A na sliki 2 nad krivuljo 1, ki kaže ravnotežje C/ Si pri aktivnosti Si02 = 0,03 in 1550° C, in celo nad krivuljo 2, ki velja za isto temperaturo, vendar za aktivnost Si0: = 0,10. Ob začetku pihanja kisika bo torej potekala skoraj popolnoma selektivna oksidacija Si, ki jo spremlja ustrezen porast temperature taline in aktivnosti SiO, v žlindri. Sestava taline se spreminja, kot kaže črtkana navpična črta AB na sliki 2. Pri tem temperatura taline raste, kot kaže črtkana vodoravna črta AB na sliki 1. S predpostavko, da med oksidacijo Si naraste temperatura do 1575° C (točka B na sliki 1) ter aktivnost Si02 do 0,06, se v toči B (na sliki 2) vzpostavi binarno ravnotežje C/Si pri temperaturi 1575° C in 0,06% Si. Talina vsebuje še ca. 20 % Cr, 9 % Ni in 0,9 % C (točka B na sliki 1). Sedaj se začne istočasna oksidacija Si in C po črtkani krivulji BC na sliki 2 oz. po črtkani navpični črti BC na sliki 1. V točki C (na obeh slikah!) se doseže trojno ravnotežje Si/C/Cr in se začenja oksidacija kroma. Istočasna oksidacija Si, C in Cr ima za posledico dvig temperature taline, porast aktivnosti Cr,04 in SiO, v žlindri ter padec vsebnosti Si, C in Cr v talini. Tako se sestava taline in njena temperatura spreminjata, kot kažeta črtkani krivulji CD na sliki 1 in 2. Kot vidimo s slike 2, se oksidacija Si ustavi in spremeni v redukcijo Si iz žlindre. Nadaljevanje oksidacije spreminja sestavo taline in njeno temperaturo po krivulji DE na sliki 1 in 2. V točki E ima talina temperaturo 1600° C, 0,42 % C, 0,06% Si in le 18%Cr. Aktivnost Cr,04 v žlindri je že približno dosegla zgornjo mejo (0,30). Nadaljevanje oksidacije bi povzročilo zelo intenzivno oksidacijo kroma in ga je treba takoj ustaviti. Dejansko bi v tem primeru bilo potrebno ustaviti oksidacijo že pri minimalni možni vsebnosti Si (pod 0,04 % Si — točka C na sliki 2), t. j. v točki C na sliki 2 in sliki 1, t. j., še preden se Cr toliko oksidira, da poraste aktivnost Cr304 v žlindri na 0,30. Tako velike preciznosti seveda v praksi ne moremo doseči, zato zadošča, da oksidacijo prekinemo v točki D oz. nekje med C in D. Tako smo lahko s to analizo poteka primarne oksidacije pokazali, da omenjene taline dejansko ne smemo oksidirati pod 0,6 %C (točka D), kar nam zagotavlja: — minimalno možno vsebnost Si, — minimalne izgube kroma z žlindro, — lahko in hitro redukcijo žlindre z majhno porabo re-ducentov, — minimalno porabo električne energije in — minimalno toplotno obremenitev obloge EOP. Potreben dodatek apna lahko izračunamo iz predvidene oksidacije Si, saj, kot vidimo, preide iz taline v žlindro 0,18-0,04 = 0,14% Si. 4. ČASOVNA USKLAJENOST EOP - VOD Usklajeno delo EO peči in VOD zadeva tudi časovno usklajenost, ki je s stališča produktivnosti in proizvodnih, predvsem pa energetskih stroškov zelo pomembna. S teoretskega stališča nam še tako skrbno projektiran ritem dela ne pomaga veliko v premagovanju pogostih motenj predvidenega ritma, zaradi različnih tehničnih težav in nepredvidenih zastojev. Termodina-mika in njene zakonitosti nam na prvi pogled ne morejo dosti pomagati, vendar to povsem ne drži. Vzemimo primer, ko moramo zaradi zastoja v pripravi VOD ponovce oz. vakuumske naprave zadržati talino v EO peči. V takih primerih lahko seveda zadržujemo talino v EO peči ali pa skušamo zmanjšati izpad proizvodnje na ta način, da povečamo obseg primarne oksidacije in nadaljujemo s pihanjem kisika v peči do sicer neobičajno nizkih vsebnosti ogljika. S tem lahko bistveno zmanjšamo čas vakuumske oksidacije v VOD. Delno si v takih primerih jeklar lahko pomaga z diagramom na sliki 1, ki nam med drugim kaže, da lahko talino z 18 % Cr ok-sidiramo v EOP vse do 0,20 % C, vendar po strogo določenem temperaturnem programu. Še bolj je seveda, če imamo na razpolago ustrezen računalniški program, tako da nam računalnik lahko daje potrebna navodila v vsakem konkretnem primeru. Standardizirana in dobro utečena praksa nam sedaj ne pomaga. Vsak primer je specifičen in zahteva specifične ukrepe in vodenje oksidacije prilagojeno trenutnim razmeram. Dodajmo temu še dejstvo, da npr. 70-tonska šarža nerjavnega jekla, tipa 18/8, danes velja nekaj milijard starih denarjev (samo Ni stane čez 30.000 USA $!). Povsem jasno je, da se glede na tako finančno vrednost ne moremo zadovoljiti z nekakim povprečno dobrim načinom dela, saj že majhne oscilacije v produktivnosti, izkoristku kroma, porabi električne energije, ferozlitin, ognjevarne obloge itn., pomenijo velik denar. Upoštevajoč ta dejstva, sodimo, da je potrebno uveljaviti pojmovanje, da je vsaka šarža specifična in jo je treba kot tako tudi obravnavati ter težiti za optimalnim vodenjem celotnega procesa izdelave pri vsaki konkretni šarži. Pri tem je treba še poudariti, da je optimalno vodenje ene šarže lahko daleč od optimuma pri neki drugi šarži. Standardizirana praksa je seveda dobra, vendar le prehodna rešitev, s katero se ni več mogoče zadovoljiti, ko nam računalniško vodenje proizvodnih procesov omogoča bistveno boljše rezultate. 4.1 Vpliv intenzitete pihanja kisika Intenziteta pihanja kisika v VOD napravah je praviloma v mejah med 600 in 2000 mJ na uro. V večini primerov pa le redko vpihujemo več kot 1200 m3 kisika na uro. Ce kopje za vpihovanje kisika ni vodno hlajeno, je intenziteta pihanja manjša, kot pri vodno hlajenem kopju. Ce predpostavimo, da je izkoristek kisika konstanten v precej širokem delovnem območju intenzitete pihanja in sestave oz. vsebnosti ogljika, lahko pričakujemo, da bo čas, potreben za oksidacijo določene količine ogljika, obratno sorazmeren intenziteti pihanja. Raziskave v Wittenu (7) so pokazale, da se čas vakuumske oksidacije skrajša pri bolj intenzivnem pihanju kisika občutno bolj, kot lahko pričakujemo na osnovi predpostavke o enakem izkoristku. Izkoristek kisika je torej večji pri bolj intenzivnem pihanju. Potemtakem s spremembo intenzitete pihanja lahko precej vplivamo na čas VOD obdelave in na ta način lahko znova vzpostavimo načrtovani ritem dela oz. časovno usklajeno delo med EOP in VOD, če je pred tem prišlo do nepredvidenega zastoja. Za podrobnejšo analizo vpliva intenzitete pihanja na čas vakuumske oksidacije so bili izvedeni poskusi (9) v Aachenu in je bilo ugotovljeno, da obstaja razmeroma močna korelacija (R = 0,88) med specifično intenziteto pihanja (v kub. metrih kisika na uro in tono) in hitrostjo oksidacije ogljika. Za praktične namene bi potrebovali t. im. modelne poizkuse. Na metalurškem inštitutu smo razvili matematični model vakuumske oksidacije MIS-VOD (8), ki je dinamičnega tipa, t. j. vključuje poleg termodinamičnih tudi kinetične zakonitosti ter nam omogoča simulacijo vakuumske oksidacije, t. j. vodenje namišljene šarže ob upoštevanju vseh realnih pogojev, ki so tipični za prakso dane jeklarne. Ra-čunališki program, izdelan na osnovi tega modela, nam tako mogoča izvedbo »poskusov«, ki si jih v praksi sploh ne moremo privoščiti. Na ta način lahko ugota- r r zncetek vak -0,30 0.20 - 0,20 0,10 - 0,10 Ojzoč M etek kone< 0,1 to necwk. \ ■ 1 1 1 1 - i \ j « v i i _ J i - 40 ton. fl00m3Q,/h a " "0 5 10 15 . 20 25 30 35 40 45 Čas lmin} -- Slika 3 Primerjava rezultatov modela (krivulje) in dejanskih rezultatov. Fig. 3 Comparison of the results calculated by mathematical model (curves) and the practical results (points) from ESW VVitten (9). vljamo vplive posameznih procesnih parametrov in začetnih pogojev na končni rezultat vakuumske oksidacije. Čeprav model še ne vključuje empiričnih parametrov, kot so npr. povprečni izkoristek kisika, srednja hitrost ohlajevanja taline v ponovci, itd., ki jih bo treba čimbolj natančno določiti za vsako jeklarno posebej, smo manjkajoče podatke nadomestili s predpostavljenimi vrednostmi in izvedli nekatere modelne poizkuse. Model smo najprej testirali na ta način, da smo simulirali vodenje VOD oksidacije nerjavnega jekla 4 različnih šarž, za katere je bil potek oksidacije podrobno opisan v strokovni literaturi (7, 9, 10). Tako slika 3 kaže primerjavo rezultatov simulacije s pomočjo modela (krivulje) z dejanskimi rezultati (točke) iz lit. (7). Kot vidimo, se rezultati modelnega poskusa presenetljivo dobro ujemajo z dejanskim potekom vakuumske oksidacije. Seveda bo potrebno verificirati model v naših jeklar-nah in ga po potrebi še dodelati, vendar nam že sedaj omogoča nekatera dognanja. Tako smo z namenom isto. (8,0 17,0 16,0 0,14 -0,70 Kiioro OTae.ibiioi o VOD — ycTpoScTBa Tpe6yeT onpe-aeneHHyiO HHTeHCHBHOCTb BayBaHHH KHCJiopona, npn KOTO-pofi KOHeHHas t. e. MaKCHMajTbHaa TeMnepaTypa pacnjiaBa npaKTunecKH HesaBHCHMa ot nepBOHanajrbHoro coaepjKaHHH yrjiepoaa.