l\ SSESD: Strokovna sekcija za elektronske sestavne dele, mikroelek-tro,niko in materiale pri Jugoslovanski zvezi za ETAN Stručna sekcija za elektronske sastavne delove, mikroelek-trcjniku i materijale kod Jugoslavenskog saveza za ETAN LJUBLJANA, APRIL 1985, LETNIK-GODINA 15, ŠTEVILKA-BROJ 33 izdelava tankoplastnih hibridov ISKRA MIKROELEKTRONIKA INFORMACIJE SSESD Izdaja trimesečno Strokovna sekcija za elektronske sestavne dele, mikroelektroniko in materiale pri Jugoslovanski zvezi za ETAN Izdaje tromjesečno Stručna sekcija za elektronske sastavne delove, mikroeiektroniku i materija-le pri Jugoslavenskom savezu za ETAN Glavni in odgovorni urednik Glavni i odgovorni urednik Uredniški odbor Redakcioni odbor Člani izvršnega odbora SSESD Članovi izvršnog odbora SSESD Podpredsednik Podpredsednik Predsednik Podpredsednik Tajnik — sekretar Alojzij Keber, dipl. ing. Mag. Milan Slokan, dipl. ing. Miroslav Turina, dipl. ing. Mag. Stanko Šolar, dipl. ing. Dr. Rudi Ročak, dipl. ing. Pavle Tepina, dipl. ing. prof. dr. Petar Biljanovič, dipl. ing. — Elektrotehnički fakultet, Zagreb Jasminka Čupurdija, dipl. ing. — Rade Končar, Zagreb Mag. Marko Hrovat, dipl. ing. — Institut Jožef Štefan, Ljubljana Dr. Sveto Jovičič, dipl. ing. — Beograd Franc Jan, dipl. ing. — Iskra — IEZE, Šentjernej Dr. Evgen Kansky, dipl. ing. — IEVT, Ljubljana Alojzij Keber, dipl. ing. — Institut Jožef Štefan, Ljubljana Prof. dr. Drago Kolar, dipl. ing. — Institut Jožef Štefan, Ljubljana Ratko Krčmar, dipl. ing. — Rudi Čajavec, Banja Luka Vlado Pantovič, dipl. ing. — Ei — IRI, Zemun Ljutica Pešič, dipl. ing. —■ Mihajlo Pupin, Beograd Ervin Pirtovšek, dipl. ing. — Iskra — IEZE, Ljubljana-Stegne Mr. Ljubiša Ristič, dipl. ing. — Ei — Tvornica poluvodiča, Niš Dr. Rudi Ročak, dipl. ing. — Iskra — Mikroelektronika, Ljubljana-Stegne Mag. Milan Slokan, dipl. ing. — Ljubljana Mag. Stanko Šolar, dipl. ing. — Iskra —Avtoelektrika, Ljubljana Prof. dr. Sedat Širbegovič, dipl. ing. — Elektrotehnički fakultet, Banja Luka Mag. Drago Škrbinc, dipl. ing. — Iskra — IEZE, Ljubljana-Stegne Pavle Tepina, dipl. ing. — Ljubljana Prof. dr. Lojze Trontelj, dipl. ing. — Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana Mag. Srebrenka Ursič, dipl. ing. — Rade Končar, Zagreb Naslov uredništva Uredništvo Informacije SSESD Adresa redakcije Elektrotehniška zveza Slovenije Titova 50, 61000 LJUBLJANA telefon (061) 316-886 Člani SSESD prejemajo Informacije SSESD brez- Članovi SSESD primaju Informacije SSESD bes-plačno platno Po mnenju Republiškega komiteja za kulturo SRS številka 4210—56/79 z dne 2. 2. 1979 je publikacija oproščena plačila davka od prometa proizvodov. Tisk: Partizanska knjiga, Ljubljana Tisk ovojnice: Kočevski tisk, Kočevje Naklada: 1000 izvodov Mišljenjem Republičkog komiteta za kulturu SRS broj 4210—56/79 od 2. 2. 1979 je publikacija osiobodena poreza na promet. Tisak: Partizanska knjiga, Ljubljana Tisak omota: Kočevski tisk, Kočevje Tiraž: 1000 komada VSEBINA - SADRŽAJ Alojzij Keber ALI INFORMACIJE SSESD IZPOLNJUJEJO SVOJE POSLANSTVO? Iiudi Ročak PROGRAM DELA SSESD V LETU 1.985 Marija Vilfan 4. EVROPSKA KONFERENCA O TEKOČIH KRISTALIH NIZKE DIMENZIONALNOSTI IN NJIHOVI UPORABI Albin Vvedarn PRONIO - MEDNARODNI SALON NAPRAV JN MATERIALOV /,A PROI/,VOI>NJO V ELEKTRONSKI INDUSTRIJI Milan Slokan NAŠ GLAVNI TAJNIK DIPL. ING. PAVLE TEPINA - SEDEMDESETLETNIK Milan Slokan ŠESTDESET LET DR. MATIJE SELIGERJA Dušan Merhar 7, NA NST V ENO - R A ZISK O V A. LN A DEJAVNOST V SR SLOVENIJI Miroslav Turina JUGOSLAVENSKO TRŽIŠTE SASTAVNIH DIJELOVA ZA ELEKTRONIKI) - PROGNOZA POTROŠNJE U RAZDOBLJU 1985. DO 2000. GODINE Miroslav Turina REDAKC IJ SK E NAPO MENE Igor Pompe SMER RAZVOJA GRADNJE ELEKTRONSKIH NAPRAV V SVETU IN VPLIV NA SESTAVNE DELE Pavle Tepina PROGRAM POSVETOVANJA MIEL-85 V LJUBLJANI Alojzij Kober MIK RO ELEKTRONI K A NA M||>RO-85 V OPATIJI Rudi Ročak SIMPOZIJ SD-85 V LJUBLJANI Alojz Gačnik SEMINAR RCA Radislav Lebar TECH NOVA '85 - INOVACIJE - ELEKTRONIKA - MARKETING Strokovne informacijo o proizvodih s področja elektronskih sestavnih delov, mikroelektronike in materialov - PROIZVODNJA SPOJNIH KET-ova (JPET) U TVORNICI POLUVODIČA U ZAGREBU - NAČRTOVANJE OBŠIRNIH INTEGRIRANIH VEZIJ CMOS NA OSNOVI STANDARDNIH CELIC V I SK RI - MIK RO ELEK TRO NIKI ALI INFORMACIJE SSESD IZPOLNJUJEJO SVOJE POSLANSTVO? Alojzij Keber Ko je avgusta leta 1969 izšla prva številka strokovnega informativnega lista takratnega Zveznega strokovnega odbora za elektronske sestavne dele pri ETAft-u z nazivom Informacije SSOSD, je v njem takratni predsednik oziroma sedanji častni predsednik SSESD prof. Janez Dobeic , dipl. ing. zapisal med drugim sledeče: "/,a boljšo povezavo med člani S.SOSI) in Izvršnim odborom .SSOSI) naj bi služile Informacije, ki bi spočetka izhajale v nekaj izvodih letno, želeč , da bi prerasle v bilten ali celo v redno periodiko. Izvršni odbor (sekretariat) SSOSD želi, da bi pri Informacijah sodelovali vsi člani SSOSD. Zato jih vabi, da bi mu pošiljali prispevke za Informacije. Prva številka Informacij še ni ustrezno oblikovana. Zato želi SSOSD predloge, ki bi Informacije naredili žive, da bi se spremenile v zrcalo družbenih potreb v luči stroke". Druga številka Informacije SSOSD je izšla leta 1970, tretja in četrta leta 1971 in tako dalje . .. Ko se je 6. oktobra leta 1977 Zvezni strokovni odbor za elektronske sestavne dele in materiale preimenoval v Strokovno sekcijo za elektronske sestavne dele , m i k roelekl ro-niko in materiale - SSESD, se je ustrezno preimenoval tudi strokovni informativni list v Informacije SSESD. Tako kot se je vse hitreje razvijala elektronika, je čedalje bolj rastla aktivnost Strokovne sekcije za elektronske sestavne dele, mikroelektroniko in materiali-. Ta aktivnost se jo kazala med drugim tudi v vse češčom izhajanju Informacije SSESD, ki so v letih 1979, 1980, 1981 redno izhajale vsake tri mesece, v naslednjih letih pa nekoliko bolj poredko, vendar so kljub temu ostale trden informacijski most med člani SSESD. Ko danes, po petnajstih letih izdajanja Informacije SSESD gledamo na prehojeno pot našega informativnega lista, lahko ugotovimo, da je bilo v tem času marsikaj storjenega za to, da bi |>lli člani SSESD in vsa strokovna javnost na področju elektronike, mikroelektroniko in materialov za elektroniko v Jugoslaviji informirana o dogajanjih v stroki in o aktivnostih Strokovne sekcije za elektronske seslav-ne dele, mikroelektroniko in materiale. Tisti, ki sodelujemo pri izdajanju Informacije SSESD že od prvih začetkov, se globoko zavedamo, da bi bilo potrebno pri Informacijah SSESD že pred leti marsikaj izboljšati, popestriti vsebino, dati listu novo obliko, pritegniti več dopisnikov itd. Trdimo lahko, da so bili v vse to vloženi dokajšnji napori. Ce pa vemo, da je posluh jugoslovanskih strokovnjakov za pisano strokovno besedo - na žalost moramo to ugotoviti tudi iz prakse izdajanja ) »format i Jo SSESD - dokaj na nizki ravni, potem smo lahko samo veseli, da smo uspeli doslej preko pisanih informacij povezati člane SSESD iz vseh industrijskih centrov elektronike v Jugoslaviji med seboj in z onimi strokovnjaki v različnih delovnih organizacijah, ki uporabljajo elektroniko pri svojem delu. Število sponzorjev SSESD se veča in pričakujemo lahko, da bomo sposobni z njihovo finančno pomočjo in lastnim trdim delom kmalu poboljšati naš informativni 1 ist. Kot vidite, prihajajo tokrat Informacije SSESD med nas v novi "obleki". Dolgo smo se pripravljali na to spremembo, pa še sedaj nismo povsem sigurni, če bomo uspeli vsako številko "obleči" v novo barvno ovojnico. Menimo pa, da Informacije SSESD po petnajstih letih izhajanja vendarle zasluzijo novo obliko. Nova ovojnica, ki jo je oblikoval dipl. ing. arh. Darko Simeršek, naj bo zunanji simbol kvalitetnih sprememb, ki jih želimo napraviti pri sestavljanju vsebine informativnega lista. V ta namen smo osnovali uredniški odbor, ki bo poskrbel za novo vsebino. Prav gotovo bodo Informacije SSESD tudi v bodoče v prvi vrsti obveščale člane SSESD o vseh dejavnostih Strokovne sekcije za elektronske sestavne dele, mikroelektroniko in materiale pri.Jugoslovanski zvezi za ETAN, povezovale člane SSESD med seboj in pomagale, cla se bo članstvo v SSESD povečevalo. Ker v Jugoslaviji zaenkrat še nimamo revije, ki bi spremljala strokovno problematiko raziskav, razvoja, proizvodnjo in uporabe vsega , kar ima prizvok elektronike, bom d tudi v bodoče priobcevali v Informacijah SSESD - seveda našim finančnim zmožnostim primerno - strokovne članke», razprave, poročila in krajše sestavke o tej problematiki. Trdno smo prepričani, da bo glede na vse večji pomen elektroniki- v svetu in s to m tudi pri nas v bližnji prihodnosti prav gotovo nastala potreba po takšni reviji. Naj Informacije SSESD dodajo prvo kamenčke v mozaik prizadevanj ti- stih strokovnjakov, ki so že danes zavedajo, da bi bila taksna revija za hitro razvijajoče se področje elektronike tudi v Jugoslaviji nujno potrebna. Hkrati s pretokom strokovnih informacij znotraj industrijskih centrov elektronike v Jugoslaviji in informiranjem članov SSESD iz vse Jugoslavije o dogajanjih V teh centrih, bodo Informacije SSESD tudi v bodoče obveščale nase člane o dogajanjih na področju elektronike zunaj meja naše domovine. Preko našega informativnega lista naj bi se Strokovna sekcija za elektronske sestavne dele, mikroelektro-niko in materiale še trdneje povezala s sorodnimi združenji v domovini in tujini. In če so povrnem) na ugotovitve, predvidevanja in želje prof. Janeza Dobei. a , dipl.ing. izpred šestnajstih lel, lahko ugotovimo, da smo uspeli v tem asu marsikaj uresničiti. Vemo, da bi bilo to brez pomoči in zagnanosti naših aktivnih članov nemogoče. Zato vas vabimo, dragi člani SSESD, da nam tudi v bodoče pomagate s svojimi prispevki polniti strani našega informativnega lista. Podrobne informacije o odgovorih na vprašanje v naslovu tega sestavka "Ali Informacije SSESD izpolnjujejo svoje poslanstvo?" pa pričakujemo od vas, dragi člani SSESD. Alojzij Keber, dipl.ing. SSESD Ljubljana PROGRAM DELA SSESD V LETU 1985 Rudi Ročak Sekcija za elektronske sestavne dele, mikroelektroniko in materiale pri Jugoslovanski zvezi za ETAN bo v letu 1985 nadaljevala aktivnosti prejšnjih let in si prizadevala za strokovno izpopolnjevanje in povezovanje inženirjev in tehnikov na področju raziskav, razvoja, proizvodnje in uporabe elektronskih sestavnih delov, mikroelektroniko in materialov. Zastavili smo takšen program dela, da bo v njem sodelovalo čim večje število članov in ostalih strokovnjakov s področja elektronike, mikrooloktroniko in materialov, liazne akcijo in manifestacije članov bomo koordinirali preko komisij, njihovo delo pa bo koordiniral in vzpodbujal izvršni odbor sekcijo. Tudi v tem letu se bomo poskušali še nadalje povezovati s sorodnimi strokovnimi društvi iri sekcijami. Nadaljevali bomo dolgoletno sodelovanje z Elektrotehniško zvezo Slovenije, ki bo letos sprejela nov statut. Predlagali borno, da bo vključila vanj predstavljanje; republiškega ETAN-a. Na ta način bomo regulirali tudi naš statut v EZS. Želimo tudi popestriti sodelovanje z delovnimi organizacijami s področja elektronike nasploh. Strani našega strokovnega lista Informacije SSESD bomo dali na razpolago za strokovne oglase. Z računalniško obdelavo podatkov članov borno lahko nudili tudi določene informacije, koristne ob začetku novih programov delovnih organizacij. Akcije: 1. Informacije SSESD Informacije SSESD bodo še nadalje naš strokovni informativni list, ki bo informiral članstvo o novicah in dosežkih na našem strokovnem področju in o dogodkih v sekciji. Listu, ki ga dobiva vsak član, bi želeli dati tudi lepšo in boljšo obliko, ki si jo glede na dosedanji nivo vsebine vsekakor zasluži. Zato ga bo v letošnjem letu urejeval uredniški odbor z glavnim urednikom A. Kebrom in člani odbora: M. Slokan, 1'. Tepina, S. Šolar, M. Turina in R. Ro čnk. Upamo, da bo temu odboru uspela naloga, da zadrži nivo lista in da ga bo pripravil ob začrtanih rokih izhajanja: april, junij, september in december. To bo na razpolago dovolj finančnih sredstev, bomo poskusili prispevke v Informacije SSESD tudi honorirati. 2. Akcije komisij Delovanje komisij še vedno ni zadovoljivo, zato bomo skušali s sugestijami IO SSESD in naših članov poiskati sposo bne in dela voljne predsednike komisij in se z njimi dogovoriti za konkretne akcije. Potrebno bo vložiti vse napore, da se bo število članov povečalo vsaj do številke 1000. 3 . M I E L 8 5 Od 8. - 11.5.1985 bomo organizirali v sodelovanju z lokal nimi organizatorji (DO ISKRA Mikroelektronika, TOZD ISKRA - Tovarna polprevodnikov, TOZD ISKRA - Hipot in Fakulteta za elektrotehniko Ljubljana) verjetno največjo strokovno manifestacijo: 13. jugoslovansko posvetovanje o mikroelektroniki z mednarodnim sodelovanjem. Pričakujemo okrog 200 udeležencev posvetovanja, od tega eno tretjino iz inozemstva. Posvetovanje bo potrebno tudi družbeno afirmirati in z njim vzpodbuditi v slovenski in jugoslovanski javnosti razmišljanja o pomembnosti mikroelektron-skih tehnologij v moderni družbi. 4. M I P R O 8 5 Z reško sekcijo ETANA in SITJ-Rijeka bomo sodelovali pri dveh manifestacijah MIPRO-a: zaključku študije STANJE IN RAZVOJ MIK RO ELEKTRONI KIS V JUGOSLAVIJI in organizaciji ter izvedbi seminarja: OBLIKOVANJE IN PROJEKTIRANJE MOS IN CMOS MIKROELEKTRONSKI11 VEZIJ. 5. E T A N 8 5 Na letni konferenci ETANA v Nišu bo SSESD, kot vsako leto, organiziral sekcijo o sestavnih delih. 6. S D 8 5 Tradicionalno 21. posvetovahje o sestavnih delih ob razstavi SODOBNA ELEKTRONIKA bo, kot prejšnja leta, tudi letos posvečeno izbranim vodilnim temam. Za letos smo izbrali površinsko montažo elementov ter uporabo diskretnih elementov in senzorjev. 7. Seminar načrtovanja elektronskih vezij n a osnovi I o g ič n i h mr o ž V sodelovanju z Iskro Mikroelektroniko bomo poskusili organizirati v septembru 1985 nekajdnevni seminar o osnovah načrtovanja elektronskih vezij na osnovi logičnih mrež. Seminar bi zajel strokovnjake iz vse Jugoslavije vendar bi moral biti organiziran zaradi možnega omejenega števila udeležencev po sistemu: kdor se prvi prijavi, ta sodeluje. 8. Simpozij o stanju strojne in programske opreme za načrtovanje elektronskih vezij V sodelovanju z Birostrojem iz Maribora bomo poskusili organizirati enodnevni simpozij s povabljenimi referati in širšo diskusijo o izredno aktualni problematiki. 9. Strokovna ekskurzija na Productronico (München) in Salon sestavnih delov (Pariz) Kot vsa leta doslej bomo organizirali tudi letos v sodelovanju z INEX-om obisk na ti izredno zanimivi razstavi. Našim članom bomo poskusili nuditi večje finančne ugodnosti. 10. MIEL 8 6 Pričeli bomo z organizacijo MIEL 86, ki bo v Beogradu. Izvedbo posvetovanja srno poverili lokalnima organizacijama EI in Mihajlo Pupin. 11. Letna skupščina SSESD V oktobru tega leta bo letna skupščina sekcije, ki jo bo potrebno tako pripraviti, da bo na njej sodelovalo čim večje število članov in da bodo sklepi skupščine resnično o— draz želja in hotenja naših članov. Finančni plan Vse akcije se morajo v principu finančno same pokrivati z izjemo izdajanja Informacije SSESD in delovanja IO ter sekretariata. Za čimprejšnjo strokovno delovanje se moramo potruditi, da bomo s pomočjo sponzorstva ojačali finančno stanje v SSESD. Program dela sni-) sestavili po rliskusijah I O S S E S D n a r o dni h s e j a h in dokončno sprejeli na 1/85 seji 13.2.1985 v Ljubljani. Predsednik SSESD: dr. Rucli Ročak, dipl.ing. 4. EVROPSKA KONFERENCA O TEKOČIH KRISTALIH NIZKE DIMENZIONALNOSTI IN NJIHOVI UPORABI Marija Vilfan Na pobudo mednarodnega svetoval nega odbora, v katerem so priznani evropski strokovnjaki s področja tekočih kristalov, je organiziral Institut "Jožef Ste-lan" iz Ljubljano 4. evropsko konferenco o tekočih kristalih in njihovi uporabi. Konferenca z uradnim naslovom "Liguid Orystals of Low Dimensional Order and Their Applications" je potekala v Bovcu v prostorih hotelov Alp in Kanin od 26. do 30. marca 1.98-1. Pokrovitelji srečanja so bili: Društvo matematikov, fizikov in astronomov SRS, Zveza društev matematikov, fizikov in astronomov Jugoslavije in Koordinacij- ski odbor za molekularne vede pri Svetu jugoslovanskih a-kademij. Večji del stroškov za organizacijo konferenco smo krili iz prijavnin za udeležence, finančno pa so podprli srečanje tudi Zveza samoupravnih interesnih skupnosti za raziskovalno dejavnost Jugoslavije, SO/,D Iskra in Kemična tovarna MERCK iz ZRN. Čeprav bomo čez tri leta praznovali že 100-letnico odkritja tekočih kristalov, so te snovi, ki kažejo obenem nekatere lastnosti tekočin in nekatere lastnosti trdnih snovi, postale resnično aktualne šele zadnjih 20 let. Na področju o-snovnih raziskav so tekoči kristali zanimivi, ker omogočajo študij postopnega prehajanja snovi iz trdnega stanja, v katerem so molekule prostorsko in orientacijsko urejene, v neurejeno tekočo fazo. Njihovo dvojno naravo - namreč mehanske lastnosti tekočin in električno anizotropijo trdnih snovi-pa industrija uspešno uporablja za izdelavo- majhnih in praktičnih optičnih kazalnikov s številkami, ki so na ročnih urah že močno izpodrinili nekdanje številčnice s kazalci. Uporabljajo jih tudi za kazalnike v raznih elektronskih instrumentih in pri izdelavi prototipa ploščatega televizorja. Po zadnji evropski konferenci o tekočih kristalih, ki je bila leta 1980 v Garmisch-Partenkirchnu, je bil dosežen velik napredek v odkrivanju novih tekočekristalnih sistemov in njihovih fizikalnih in kemijskih lastnosti kakor tudi v njihovi uporabi. Program konference v Bovcu je zato vključeval teme, ki so sedaj na področju tekočih kristalov najbolj aktualne, in sicer: - liotropne tekoče kristale (ti v nasprotju z "običajnimi" ne nastanejo pri segrevanju določenih organskih snovi, temveč pri raztapljanju amfifilnih molekul v vodi), - tekočekristalne polimere, ki se ona izmed faz pri izdela vi organskih snovi z veliko trdnostjo, npr. kevlarija, - smektične tekoče kristale, katerih struktura je zaradi raznolikosti smektičnih faz še vedno odprto vprašanje, prav tako pa tudi fazni prehodi med njimi, - feroelektrične tekoče kristale, ki omogočajo izdelavo hitrih kazalnikov s preklopnimi časi le nekaj mikrosekund. Konference v Bovcu se jo udeležilo 48 raziskovalcev iz 16 držav in sicer iz Belgije, Bolgarije, ČSSR, Italije, Izraela Grčije, Francije, Kanado, NDR, Poljske, Švice, Švedske, Veliko Britanije, ZDA, ZRN in Jugoslavije. Predstavili so 86 znanstvenih del , od tega 19 enournih preglednih predavanj. Izšel'je tudi zbornik konference, ki obsega več kot 600 strani originalnih prispevkov. Izdala ga je decembra 1984 založba Gordon et Breach Science Publishers v New Yorku kot posebno številko revije Molecular Crystals and Liquid Crystals. Zbornik so uredili R. Blinc, M. Vilfan in G. Lahajnar. Konferenca v Bovcu, na kateri je o rezultatih svojih raziskav poročalo tudi 18 strokovnjakov iz Jugoslavije, je omogočila vzpostaviti jugoslovanskim raziskovalcem strokovne stike in izmenjavo izkušenj z vrhunskimi tujimi znanstveniki na tem tehnološko in znanstveno pomembnem področju. dr. Marija Vilfan, Institut "Jožef Stefan", Ljubljana PRONIC - MEDNARODNI SALON NAPRAV IN MATERIALOV ZA PROIZVODNJO V ELEKTRONSKI INDUSTRIJ! Albin VVedam S.D.S.A. (Société pour la Diffusion des Science et des Arts) je lani prvič organizirala v Parizu od 20. do 23. novembra 1984 sejem, ki je po svojem značaju identičen sejmu Produetronica v Munchenu in ga bo odslej, po dogovoru z muncliensko družbo za sejme in razstave, prirejala v al-ternaciji z iMiinchenom vsako drugo leto. Na 28.000 m2 prostora je razstavljalo 232 francoskih in 300 tujih firm iz 16 držav. Naj več jih je bilo iz ZDA (90), ZIW (81 ) , Švice (39) in Veliko Britanije (29). Čeprav jo bilo težišče na proizvodnih napravah (426 razstavljavcev), je bila opazna udeležba razstavljavcev merilnih in kontrolnih naprav (67) |x)sebej pa razstavljavcev materialov in proizvodov specialno namenjenih elektronski industriji (117). V primerjavi s sejmom elektronskih sestavnih delov lota 1982 je bilo v sferi opreme in materialov za proizvodnjo na PRONIC-u 80 razstavljavcev več, kar kaže na pomembnost, ki so jo razstavljavci videli v tem salonu. Obiskovalcem salona je bila predstavljena pestra paleta opreme in naprav, ki so po 5 krivale: izdelovanje predlog, proizvodnjo tiskanih, hibridnih in integriranih vezij, proizvodnjo pasivnih komponent, montažo, kabliranje in lotanje vezij, merjenje, kontrolo in testiranje električnih, kakor tudi neelektričnih veličin in lastnosti. K opremi za proizvodnjo so vključili tudi simuliranje okolja ter delovnih pogojev, naprave za čisto delovno okolje, zaščitno opremo ter obleko, razsvetljavo pa tudi laboratorijsko opremo. Med materiali velja omeniti predvsem vsakovrstne substrate, kemične snovi in materiale za tiskana vezja, materiale za foto in fotoresist postopke, proizvode za sitotisk, meta-lizacijo ter jedkanje, sredstva za spajkanje, čistila, lepila, materiale za inkapsulacijo, zaščitna sredstva (laki, premazi), antistatične materiale, svetlovode in končno metale ter bimetale, pa navijalne stroje in naprave za ožičenje. V okviru salona sta bili organizirani tudi dve mednarodni strokovni posvetovanji. Posvetovanje o površinski montaži komponent (surface mount technology) je obsegalo naslednje teme: tekočine za spajkanje (solder ink), nove metode za odvajanje toplote v zvezi s polimerizacijo lepil, neelek-trična depozicija (elektroless depipsition), nekonvencional-ni substrati za površinsko tehnologijo in avtomatizacija pri površinski montaži. Med temami posvetovanja o tiskanih vezjih velja omeniti zlasti: tiskana vezja v proizvodnji avtomobilov, nadaljnji razvoj tiskanih vezij v telekomunikacijah, računalništvu, letalstvu in oborožitvi, standardizacija tiskanih vezij ter končno odnosi med proizvajalci in uporabniki. V organizaciji INEX-Adria in Integral - turizem si je ogledalo salon 8 predstavnikov podjetij in raziskovalnih organizacij. Sprejeti so bili pri predsedniku salona g. Capitainu, ki je udeležence seznanil z namenom salona in načrti za bodočnost. S.D.S.A. bo organiziral v Parizu salon elektronskih komponent v dneh od 4. do 8. novembra 1985, na kar člane 'SSESD že sedaj opozarjamo. Prof. dr. Albin Wedam Fakulteta za elektrotehniko Ljubljana NAS GLAVNI TAJNIK DIPL. ING. PAVLE TEPINA - SEDEMDESETLETNIK Milan Slokan V vso dejavnost SSESD od leta 1967 dalje je vtkano delo našega Pavleta. Pri vseh naših akcijah pravzaprav nosi levji delež izvajanja, kjer je vedno pripravljen, da brez negodo- vanja doprinese človeško možni maksimum. Vedno se je tudi izkazal kot dober tovariš in prijatelj. Pri njegovem za- gnanem delu mu k sreči dobro služi izredno zdravje in odpornost, kar mu je gotovo pomagalo prebiti tudi težavna obdobja v življenju. Prikaz njegove življenjske poti ne bo kratek, saj je že 50 let strokovno in organizacijsko aktiven. Rojen je bil 27.februarja 1915 v družini živinozdravnika v Ljubljani. 1933. leta se je vpisal na tehniško fakulteto v Ljubljani, elektrostroj-ni oddelek, vendar je bil že leta 1934 aretiran, obsojen in poslan v zapor političnih obsojencev v Sremsko Mitrovico, kjer je dozoreval skupaj z Mošo Pijadejem, Borisom in Sergejem Kraigherjem, Tonetom Tomšičem in drugimi komunisti v ponosnega in samostojnega človeka. Po izpustitvi iz zapora leta 1936 je nadaljeval študij ter že v tem času pokazal svoje sposobnosti in voljo za dodatno strokovno in društveno organizacijsko delo: bil je tajnik študentskega društva elektrotehnikov in obenem pomožni asistent pri prof. Kralu na Zavodu za raziskavo materiala na Tehniški fakulteti univerze v Ljubljani. Diplomsko nalogo je dvignil v za- 6 četku leta 1941, nato pa je bil po prihodu Italijanov ponovno aretiran ter s skupino elektrotehnikov postavljen pred italijansko vojno sodišče v Ljubljani pod obtožbo dela za OF. Ker pa vojni tožilec ni uspel dokazati delovanja obtoženih, je bil s celo skupino izpuščen. Ko so po kapitulaciji Italijo tehniško fakulteto ponovno odprli, je Pavle leta 194 3 diplomiral. V italijanski okupaciji je Pavle kot ilegalec vse do septembra 1943 delal v radijskem sektorju CK KP Slovenije, nato pa ga je Centralni komite poslal skupaj z Dušanom La-sičem na osvobojeno ozemlje z nalogo, da formirata pri partizanskih delavnicah v Starih žagah na Dolenjskem tudi radijsko delavnico. Naj spomnimo, da je bila ta radijska delavnica z izdelavo radijskih oddajnikov in druge opreme za partizanske enote kovačnica kadrov, ki so po osvoboditvi odigrali pionirsko vlogo pri začetkih in razvoju industrije elektrotehnike in elektronike v Sloveniji. Junija 1944 je bil Pavle poslan v oficirsko šolo glavnega štaba Narodno o-svobodilne vojske in partizanskih odredov Slovenije, ki je delovala v Črnomlju na osvobojenem ozemlju. Tam je nato do osvoboditve vodil tečaje za partizanske radiomehanike. Junija 1945 je bil zaradi svojih pedagoških strokovnih izkušenj dodeljen v Tankovsko armado v Beogradu kot komandant radiotelegrafskega kursa. Od tam je bil oktobra 1947 premeščen v zvezi sekretariat za notranje zadeve z nalogo, da tudi tam vodi radiotelegrafske tečaje. Leta 1952 so ga dodelili v Tehnični inštitut SUP-a, s čemer je pričel tam svoje petnajstletno delovanje, najprej kot vodja sektorja in zadnjih šest let kot direktor inštituta. V tem času je pričel svojo aktivnost tudi v ETAN-ii. Leta 1067 je bil upokojen ter se je vrnil v Ljubljano. V Iskrinem Zavodu za avtomatizacijo je prevzel marca 1967 od Matije Seligerja mesto vodje Laboratorija za mikroelek-troniko, kmalu nato pa se je aktivno vključil tudi v SSOSD ter v jeseni 1967 prevzel od Marjana Šefa mesto tajnika. Žal je bil laboratorij za mikroelektroniko mnogo naprednejši od svojega okolja v Iskri, zato je bil leta 1969 razpuŠčen, Pavle pa je prevzel mesto tehničnega direktorja v tiskarni Mladinske knjige v Ljubljani. Kasneje je delal še v Iskrini Tovarni elektronskih naprav, dokler se ni tudi profesionalno vključil v delo Elektrotehniške zveze Slovenije in SSOSD. Ves ta čas, torej že osemnajst let je Pavle tajnik našega odbora oziroma sekcije. Vendar tega dela ni opravljal le kot tajnik temveč kot pravi aktivist mnogo širše, predvsem pa z željo, da povsod pomaga. Kot strokovnjak v elektroniki, obenem pa z velikimi izkušnjami v tiskarstvu, je poskrbel za tisk in ureditev vseh naših zbornikov, programov in drugih publikacij in to vedno pravočasno, čeprav so avtorji referatov mnogokrat zamujali. Tudi organiz:icija nobenega simpozija o sestavnih delih v Ljubljani in posvetovanj o mikroelektroniki širom Jugoslavije ni minila brez Pavleta. No; smemo pozabiti tudi njegovega dolgoletnega dela kot aktivista ETAN-a, saj je že leta član organizacijskega odbora za letne konference ETAN-a. Za svoje delovanje je bil tudi imenovan za zaslužnega člana ETAN-a. Mi vsi se zavedamo, koliko je naše strokovno društveno delovanje povezano z življenjem Pavleta Tepine in koliko ocl tega življenja je dal skupnosti kot strokovnjak in kot človek. Posebno kot človek nam je Pavle vzgled požrtvovalnega in obenem vedno na pomoč pripravljenega tovariša. Upravni odbor SSISSD je kot viden znak zahvale in čestitk predal Pavletu Tepini originalno grafiko slovenskega slikarja Božidarja Jakca, menimo pa, da so s tem izraženo tudi čestitke in želje vseh članov SSI5SD in ETAN-a oziroma strokovnih kolegov, da bi v zdravi in prijetni jeseni življenja še dolgo deloval med nami. Mag. Milan Slokan, dipl.ing. SSESD Ljubljana ŠESTDESET LET DR. MATIJE SELIGERJA Milan Slokan Dne 21. februarja je dopolnil šestdeset let dr. Matija Seli-ger, član naše sekcije ocl ustanovitve, sicer pa eden pionirjev osvajanja domače proizvodnje polprevodnikov na I EV in v Iskri. Danes je M. Seliger priznana kapaciteta v jugoslovanskem merilu za magnetiko in magnetne materiale, na Fakulteti za elektrotehniko v Ljubljani pa je bil habilitiran na področju močnostne elektronike; kot izredni profesor. Svoje strokovno delo je M. Seliger pričel pred 35 leti, torej leta 1950, ko so na Inštitutu za elektrozveze v Ljubljani pričeli delo na področju polprevodnikov. V začetku skromna ekipa je v kemijskem laboratoriju inštituta najprej razvila lastno procesno in merilno opremo za laboratorijski razvoj prvih jugoslovanskih silicijevih točkastih usmerniš-kih diod ( 1953/54 ), nato germanijovih točkastih diod raz- 7 ličnih tipov in germanijevih nizkofrekverčnih p-n-p tranzistorjev (1958) ter visokofrekvenčnih tranzistorjev (1960), ki jih je I EV redno proizvajal za jugoslovansko tržišče. Za vse te uspehe je M. Seliger dobil leta 1960 priznanje Izvršnega sveta SR Slovenije "za uspešen razvoj polprevod-niške tehnike pri nas". Skupina za polprevodnike, ki jo je v IEV vodil M. Seliger, je v šestdesetih letih narasla na približno sto sodelavcev. Po združitvi z Iskro je skupina delala skupaj z raziskovalci iz Kranja v Zavodu za avtomatizacijo Iskre ter je bila preimenovana v laboratorij za mikroelektroniko, ki je imel takrat najsodobnejšo opremo za laboratorijski razvoj polprevodnikov in mikroelektronike pri nas. V tem obdobju so sodelavci laboratorija že vlekli na domači napravi prve silicijeve monokristale, laboratorijsko so bili osvojeni silicijevi nizkofrekvenčni in močnostni tranzistorji, laboratorijsko so proizvajali prva tankoplastna hibridna vezja v Jugoslaviji, razne optoelektronske sklope in druge izdelke, ki so bili takoj uporabljeni v domačih profesionalnih in namenskih napravah. Kot zanimivost naj omenim, da se je v zadnjih letih laboratorija za mikroelektroniko pridružil M. Seligerju tudi naš tajnik Pavle Tepina, ko se je vrnil iz Beograda v Ljubljano. Žal je bil leta 1959 laboratorij zaradi nerazumevanja okolice in s tem povezanih finančnih težav razpuščen ter je delo s to opremo nato nadaljevala skupina za mikrovalovno tehniko pod vodstvom L. Trontlja na Fakulteti za elektrotehniko v Ljubljani. Po razpadu laboratorija za mikroelektroniko v Iskri je M. Seliger prenesel svoje bogate izkušnje na področje razvoja elektronskih merilnih inštrumentov, v zadnjih petnajstih letih pa na področje magnetike. Na tem področju je leta 1978 tudi doktoriral. Na raziskovalnem inštitutu avtomatike v Iskri in v drugih raziskovalnih ustanovah je nato z raziskavami na odpravah motenj in nelinearnih popačenj odločilno doprinesel k razvoju specialnih namenddh naprav energetske elektronike, kjer je razvil domače podsklope. Za svoje delovanje na tem področju je leta 1983 prejel od JLA visoko priznanje, ki ga podeljujejo za raziskovalne dosežke, ter tudi druga priznanja in odlikovanja. S tega specialnega področja je napisal niz člankov v raznih jugoslovanskih strokovnih revijah. V SSOSD je M. Seliger sodeloval skupaj z Radom Tavzesom že kmalu po ustanovitvi Zveznega strokovnega odbora za sestavne dele kot aktivni član v tedanji sekciji za polprevodnike pri organizaciji prvega jugoslovanskega strokovnega srečanja okoli petdesetih jugoslovanskih polprevodničarjev, ki je bilo leta 1964 v Beogradu. V tem času je bil tudi prvi predsednik sekcije za uporabo polprevodnikov v okviru III. sektorja uprave nuklearnih inštitutov Jugoslavije. Kot izrednemu strokovnjaku, vzgojitelju mladih kadrov in kot kolegu, ki je vedno pripravljen sodelovati v akcijah SSESD, izrekamo Matiju Seligerju ob njegovem življenjskem jubileju iskrene čestitke z željo, da bi na svojih področjih dela - tesno povezanih z delovanjem naše sekcije v ETAN-u - pri dobrem zdravju in s prisrčnim optimizmom ter kolegijalnim odnosom še dolga leta uspešno deloval. Milan Slokan, dipl.ing. SSESD, Ljubljana ZNANSTVENO-RAZISKOVALNA DEJAVNOST V SR SLOVENIJI Dušan Merhar Najprej nekaj uvodnih podatkov. Raziskovalna dejavnost se v Sloveniji razvija na nekoliko višji stopnji kot v celotni SFRJ. Pri nas namreč že nekaj let vlagamo v raziskovalno dejavnost 1,3 odstotka od družbenega proizvoda, jugoslovansko povprečje pa je 1 odstotek. Za mednarodne primerjave je pomemben odstotek vlaganja v raziskovalno dejav- nost v družbenem produktu, deljen z odstotkom zaposlenih v raziskovalni dejavnosti od vseh zaposlenih. Tn slika nas postavlja takole: - v razvitih državah je to razmerje med 2,2 in 1,9 (ZRN, Velika Britanija, Francija, Nizozemska, Švica) - v srednje razvitih državah je to razmerje med 1,7 in 1,5 (Španija, Finska itd.) - v nerazvitih državah pa med 1,7 in 1,5 (irska, Malta) - v SR Sloveniji je to i~azmerje med 1 ,3 in 1 ,4, v SFRJ pa približno 1,1. Razvite države namenjajo za raziskave približno polovico sredstev iz državne blagajne, polovico pa prispeva gospodarstvo (leta 1978 so ZDA namenile za raziskave približno 2,4 odstotka družbenega proizvoda, Nizozemska 2,1, ZRN 2, itd. , v tem pa niso zajeta sredstva za vpeljavo nove proizvodnje, za neposredni industrijski razvoj in kontrolo procesov - to pa pri nas navadno vključujemo v statistično ugotovljeni dohodek raziskovalnih organizacij in raziskovalne dejavnosti). Vlaganja v raziskovalno dejavnost ne ustrezajo stopnji naše gospodarske razvitosti, kar kažejo tudi podatki sicer nezanesljive statistike : SFRJ ima 0,9 odstotka svetovnega kadrovskega raziskovalnega potenciala, za njegovo dejavnost namenja 0,5 odstotka svetovnih vlaganj, ta potencial pa ustvari le 0,2 do 0,3 odstotka novega svetovnega znanja. Slovenski raziskovalni potencial obsega 154 raziskovalnih organizacij, v katerih deluje 4483 raziskovalcev (konec leta 1982). V tem srednjeročnem obdobju namenjamo za celotno raziskovalno dejavnost približno 1 ,3 odstotka od družbenega proizvoda, od tega v neposredni (direktni) svobodni menjavi dela približno tri četrtine sredstev, preostalo četrtino - povprečno 0,314 odstotka družbenega proizvoda -pa v obliki posredne svobodne menjave dela prek raziskovalnih skupnosti. Naše raziskovalne skupnosti združujejo tako regijsko kot * Upoštevati je treba dejstvo, da v Jugoslaviji pri zbiranju podatkov o raziskovalcih nimamo enotnega zajemanja. Ponekod namreč štejejo vse univerzitetne učitelje za raziskovalce (s polnim delovnim časom, torej 42 ur tedensko , oz. kot "tuli tirne"), drugi pa priznavajo samo del (četrtino) takega dela kot čas raziskovanja. Razlike so seveda precejšnje, statistični rezultat pa zato primerno nerealen. tudi področno obliko organiziranosti. Raziskovalna skupnost Slovenije je torišče oblikovanja in usklajevanja skupnega raziskovalnega programa, ki je po zakonu sestavljen iz raziskav posebnega nacionalnega pomena s področja družbenih in humanističnih ved ter temeljnih in dolgoročnih raziskav s področja naravoslovnih, tehniških, biotehniških in medicinskih ved. Sredstva za izvajanje tega programa se zbirajo s prispevno stopnjo 0,28 odstotka od dohodka. V dvanajstih posebnih raziskovalnih skupnostih usmerjajo in usklajujejo programe raziskav za razvojne potrebe združenega dela. Sredstva se zbirajo po različnih prispevnih stopnjah, največ 0,14 in najmanj 0,08 odstotka od dohodka. Občinske raziskovalne skupnosti se usmerjajo večinoma na krepitev strokovnega potenciala na svojem področju s spodbujanjem intenzivne in inovacijske dejavnosti, ukvarjajo pa se tudi z opredeljevanjem in reševanjem razvojnih problemov v občini in regiji. Sredstva se zbirajo po različnih prispevnih stopnjah, povprečno približno 0,025 odstotka od dohodka. Skratka - slovenske raziskovalne skupnosti so mesto usklajevanja uporabnikov in izvajalcev, kjer nastaja izbira v navzkrižju dolgoročnih,srednjeročnih in kratkoročnih potreb in možnosti v obliki fundamentalnih, aplikativnih in razvojnih programov in projektov na osnovi splošnih, posebnih in posamičnih interesov. Glede izbire znanstvenih in raziskovalnih projektov je takole. V skupnem programu se izvajajo raziskave v okviru u-smerjenih raziskovalnih programov (URP). Po definicije je URP sklop dolgoročnih - med seboj povezanih in usklajenih -pretežno temeljnih raziskav. Tak sklop raziskav omogoča večletno stabilno koncentracijo raziskovalnih zmogljivosti v usmeritvah, ki so potrebne za skladen razvoj znanosti in s tem za skladen družbeni razvoj. Izhodišče za oblikovanje in utemeljitev URP je, da so problemi, ki so predmet raziskav, splošnega družbenega pomena ali v skladu s cilji družbenoekonomskega razvoja SR Slovenije in so usklajeni z razvojem raziskovalne dejavnosti za določeno plansko obdobje. Raziskave morajo prispevati k: - razširjanju in poglabljanju temeljnih znanj predvsem na področjih, kjer smo že dosegli mednarodno pomembne rezultate - poglabljanju tistih temeljnih znanj, ki so potrebna za us- 9 pešno izvedbo aplikativnih in razvojnih raziskav na prednostnih raziskovalnih ciljih v PoRS-ih, ali pa k - povečanju ključnih znanj, ki so potrebna za uspešnejše vključevanje SR Slovenije v medrepubliško in mednarodno izmenjavo znanj. Posebna komisija, ki jo imenuje Skupščina Raziskovalne skupnosti Slovenije, ocenjuje predlog URP na podlagi naslednjih kriterijev: - družbena pomembnost URP - znanstvena vrednost URP - usposobljenost raziskovalne organizacije - usklajenost programa raziskave URP - kriterij v zvezi z dolgoročnimi domačimi raziskovalnimi kadri in - kriterij v zvezi z realnostjo finančne strukture URP. Raziskovalno delo opravljajo raziskovalci v raziskovalnih organizacijah. Te so po določilih zakona tiste, ki opravljajo raziskovalno dejavnost kot glavno dejavnost in so vpisane v razvid raziskovalnih organizacij. Raziskovalec pa je delavec, ki je usposobljen za raziskovalno delo, ima objavljena oziroma izvedena raziskovalna dela ali registrirane patente ali inovacije in v raziskovalni organizaciji opravlja temeljno, uporabno ali razvojno raziskovalno delo. Delavec, ki ne izpolnjuje teh pogojev, ne more konkurirati za sredstva RSS. Rezultati raziskovalnega dela so vsako leto predstavljeni na javnih predstavitvah. Namen in cilj predstavitve in razprave o poteku raziskav je razgrnitev rezultatov opravljenega dela, preverjanje uresničevanja planov in učinkovitejša usmerjanja programov in raziskovalnih kapacitet. Odmevnost rezultatov na predstavitvi rabi programskemu ali projektnemu svetu za ocenitev rezultatov ter za nadaljnje programiranje dela in sredstev. Da bi omogočil čim bolj objektivno presojo opravljenega dela, je Odbor za koordinacijo področij skupnega programa (RSS) predlagal uvedbo kvantificiranega vrednotenja raziskovalnega dela. Izdelan je poseben obrazce "Popis raziskovalnih kazalcev". Izkušnje so pokazale, da bo uporaba raziskovalnih kazalcev pripeljala do boljše selekcijo kakovostnih raziskav. Selekcijo glede kvalitete in prioritete opravljenega dela opravijo vsako leto ekspertne skupine za posamezne vede na osnovi individualnih recenzij in "Popisa raziskovalnih kazalcev". Denarno ovrednotenje je grajeno na merilih za oblikovanje cene raziskovalne ure, ki so določena s temelji vsakokratnega srednjeročnega plana. Kar zadeva medrepubliške projekte, med katerimi ni nobenega s področja mikroelektronike, je postopek takle: predlagani program projekta je treba predložiti Komisiji za medrepubliške projekte pri Zvezi skupnosti za znanstveno dejavnost v Jugoslaviji (SZNJ). S programom je treba sestaviti tudi ustrezni samoupravni sporazum, ki ga morajo s podpisi sprejeti vse republiške in pokrajinski skupnosti za raziskovalno dejavnost. Ko projekt sprejme SZNJ, se lahko začne z delom. Financiranje poteka tako, da vsaka republiška in pokrajinska skupnost pokriva svoj del. Ob tem je pomembno, da je januarja letos nastala v okviru PoRS za elektrokovinsko industrijo (03) Razvojno-razisko-valna enota za robotizacijo. Pomembno je namreč ne le za mikroelektroniko, pač pa tudi zato, ker se ne omejuje samo na slovenski prostor, ampak je že od začetka odprta za vso Jugoslavijo (če omenimo samo dve od najvažnejših dimenzij pričakovanja od nove enote). V okviru skupnega programa Raziskovalne skupnosti Slovenije so na področju elektronike in elektrotehnike naslednji usmerjeni raziskovalni programi: 2.1. Mikroelektronika 1.1. Raziskave s področja mikroelektronike za leto 1984 obsegajo delo s področja monolitnih in hibridnih vezij. Pri monolitnih vezjih je poudarek na raziskavah lastnosti oksinitridnih plasti za primarno zaščito monolitnih vezij in na polprevodniških senzorjih. Raziskave na hibridnih vezjih vključujejo uvajanje tankoplastnih komponent v de-beloplastna vezja ter ugotavljanje vpliva tehnoloških parametrov debeloplastnih filmov na kvaliteto in zanesljivost teh vezij. 1.2. Monolitna vezja: - Tehnologija MOS za realizacijo zelo obširnih integriranih vezij Hibridna vezja: - '1'ankoplastna in debeloplastna tehnologija - Študij depozicije NiCr na raznih substratih 1.3. Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; Institut Jožef Štefan, Ljubljana; ISKRA - IEZE, Raziskovalna enota, Ljubljana Koordinator Lojze Trontelj 10 . 2. Profesionalizacija elementov s poudarkom na senzorjih, p o d a j a 1n i k i h in pretvornikih 2.1. Raziskave so namenjene pridobivanju, širjenju in poglabljanju znanja o materialih in tehnologijah elementov za elektroniko. S tako postavljenim ciljem, ki vključuje izobraževanje strokovnjakov, so temelj za raziskovalno delo v okviru PORS-ov in reševanje razvojnih nalog v industriji. Program predstavlja smiselno nadaljevanje dela iz preteklih let. 2.2. - Keramični senzorji vlage in plinov ter piezokera-mični materiali, analiza materialov za elektronske komponente, senzorji za vlago in merilniki sončnega sevanja, piroelektrični senzorji - Tehnologije tankoplastnih profesionalnih elementov, hermetično zaprti kontakti, tehnologija in analiza površin in faznih mej za elektronske sestavne dele, posebne zlitine za elektroniko in vakuumsko tehniko - Močnostni Mn-Zn feritni materiali, metaloksidne plasti na osnovi Sn02 delovni elektrolit za visokovoltne e-lektrolitske kondenzatorje - Mikrostruktura in predelava FeCrCo magnetnih zlitin - Polisilicij za senzorje in pretvornike 2.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Inštitut za elektroniko in vakuumsko tehniko, Ljubljana ; ISKRA-IEZE-RE, Ljubljana; SŽ - Metalurški inštitut, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana. Koordinator Drago Kol ar . 3. Komunikacijski sistemi 3.1. Raziskave so potrebne za usmeritev razvoja industrije telekomunikacij Raziskave novih tehnoloških elementov za komutacijo in prenos digitalnih telekomunikacijskih signalov Raziskave prenosa v digitalnih telekomunikacijskih sistemih z mikrovalovno in optično tehniko Raziskave struktur komunikacijskih centrov digitalnih telekomunikacij 3.2. - Raziskave zgradbe telekomunikai ijskih omrežij s pristopom decentralizirano vodenih sistemov pri širokem spektru - Analiza modulacijskih in konverzijskili postopkov za digitalne sisteme in raziskave orodij za načrtovanje in preizkušanje programske opreme - Raziskave metod za merjenje karakteristik optičnih vlaken - Raziskave na področju digitalnih mikrovalovnih zvez. 3.3. Institut Jožef Stefan, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; ISKRA - Center za elektrooptiko, Ljubljana; ISKRA Elektrozveze - Raziskovalna enota, Ljubljana. Koordinator Janez Stare 2.4. Električna medicinska stimula c i j a. i n meritve 4.1. Ustvarjanje temeljnih znanj pri električni stimulaciji in meritvah Ustvarjanje novih znanj za metodologijo v medicini in industrijsko tehnologijo Oblikovanje raziskovalnih kadrov in prenos dosežkov v medicinsko in industrijsko prakso Usklajenost programa s cilji razvoja družbe in področja glede na srednje in dolgoročne obveznosti Jugoslavije in RSS 4.2. - Funkcionalna električna stimulacija ekstremitet in sečil, merjenje in evalvacija parametrov hoje, študij lastnosti in meritve na večžični proporcionalni komori kot detektorju nabitih delcev - Elektroterapevtske metode pri spastičnih in denervira-nih mišicah, FES pri bolnikih s spinalnimi poškodbami, diagnostika in električna stimulacija urotrakta - Medicinska in tehnična evalvacija električnih stimula-torjev in elektromehanskih naprav, namenjenih diagnostiki in terapiji oseb s poškodbami gibalnega sistema - Uvajanje vakuumske tehnike v področje medicine, izrabljanje sukcijskih učinkov vakuuma pri urgentnih posegih na terenu. 4.3. Institut Jožef Stefan, Ljubljana;' Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; Zavod za rehabilitacijo invalidov, Ljubljana; Inštitut za elektroniko in vakuumsko tehniko, Ljubljana. Koordinator Tadej Bajd 2. 5. T e m o ] j n e raziskave računalniške tehnike 5.1. Vsi trije sklopi imajo za cilj osvajanje znanj, ki so potrebna pri načrtovanju sodobne računalniške aparaturne in programske opreme. Čeprav gre pri sklopih za razširjanje temeljnih znanj, imajo v ozadju implementacij-ski značaj, ki se bo izkazal ali v okviru nalog prek PoRS 11 ali prek nalog za neposredno združeno delo. Sklopi so v skladu s cilji, ki naj bi jih dosegli v tekočem srednjeročnem obdobju. 5.2. - Raziskave računalniške tehnike - Snovanje porazdeljenih računalniških struktur za procesiranje podatkovnih tokov - Raziskava mikroprogramirane arhitekture za implementacijo visokega programskega jezika. 5.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; Visoka tehniška šola - VTO Elektrotehnika, Maribor. Koordinator Jernej Virant 2.6. Računalniški komunikacijski sistemi in mreže 6.1. Cilj URP je poglobitev in razširitev temeljnih znanj pri računalniškem povezovanju. Raziskovalci naj bi se usposobili za: - gradnjo lokalnih in javnih mrež - povezovanje računalniških sistemov (od preprostih terminalov do telekonferenčnih sistemov) na različnih komunikae ijskih nivojih - načrtovanje komunikacijskih posrednikov v mreži V prijavah raziskovalnega programa za leto 1984 so izvajalci predvideli nadaljevanje že v prejšnjih letih začetih raziskav. Predvideno delo kaže jasno kontinuiteto z zastavljenim ciljem. V programih ni videti večjih odstopanj od začrtanih smeri, opazimo lahko edino časovno zaostajanje, ki pa je posledica naše ekonomske situacije (pomanjkanje možnih komponent, kar preprečuje končne realizacije). Realizacija zastavljenih ciljev pri izgradnji mrež pa je bistvenega pomena, saj je predpogoj za raziskave komunikacij višjih nivojev. 6.2. - Implementacija komunikacijskih protokolov za povezovanje lokalnih tekstovnih sistemov tipa GILT na domačem mikroračunalniku Sodelovanje v mednarodnem projektu GOST 11 bis (in kasneje v COST 11) ter projektna skupina GILT Realizacija lokalne računalniške mreže tipa Cambridge ring Optimizacija delovanja telekonferenčnega sistema POR-TACOM in prilagoditev tega sistema za komunikacijo s sistemi tipa GILT - Študij povezav lokalnih baz podatkov prek računalniške mreže z namenom definirati način neposredne povezave vseh sistemov za upravljanje s podatki in definirati koncept virtualnih datotek v heterogenin mrežah - Študij teoretičnih in hevrističnih metod za pospešitev algoritma za sintezo optimalnih digitalnih filtrov Analiza uporabnosti in prednosti teh algoritmov na real-■ nih telefonskih dekoderjih. 6.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Visoka tehniška šola - VTO Elektrotehnika, Maribor; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana. Koordinator Tomaž Kalin 2.7. Temeljne raziskave za programsko opre-m o 7.1. Predloženi programi so v skladu s srednjeročnim raziskovalnim programom tega usmerjenega raziskovalnega programa in predstavljajo naravno rast ter smiselno nadaljevanje raziskav iz preteklih treh let, razen v primeru tematskega sklopa "Informacijski sistemi in baze podatkov" programskega sklopa Instituta Jožef Štefan, ki ga v URP "Temeljne raziskave programske opreme" selim-) iz PoliS-3 URP "Računalniška oprema" zaradi njegove teoretične naravnanosti po vsebini in rezultatih. V URP "Računalniška oprema" pa gre iz programa temeljnih raziskav programske opreme dosedanji sklop raziskav iz računalniškega načrtovanja v elektroniki, katerega vsebina in rezultati že imajo takojšnjo uporabno vrednost za razvojno prakso, zahtevajo pa tudi bistveno večja sredstva, ki jih brez soudeležbe gospodarskih organizacij ni mogoče zagotoviti. V predlogu za programski sklop Instituta Jožef Štefan za leto 1984 tudi niso vkl jučene raziskave mikroprogramirne razvojne opreme, katerih dosedanje rezultate zaradi pomanjkanja materiala in opreme še vedno ni mogoče nadaljevati v eksperimentalno fazo gradnje mikroprogramirnega razvojnega sistema. Predvideno je nadaljevanje te teme v letu 1985. 7.2. - Informacijski sistemi in baze podatkov, programiranje sistemov za rastrsko grafiko, metode za časovno nadzorovanje izvajanja programov, metode za matematično in statistično obdelavo podatkov - Algoritmi za množenje matrik, načrtovanje konceptualne podatkovne baze - Sistem za računalniško konstruiranje SICAD - Možnosti povečanja prepustnosti multiprocesorskih monitorjev. 12 7.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; Visoka tehniška šola - VTO Strojništvo, Maribor; Visoka tehniška šola - VTO Elektrotehnika, Maribor. Koordinator Marjan Spegel 2.8. Metode umetne inteligence 8.1. Namen URP je razvijati metode in tehnike umetne inteligence z naslednjimi cilji: - Metode, tehnike in prograrnirna podpora za razvoj in implementacijo sistemov umetne inteligence - Metodologija kvalitativnega modeliranja - Eksperimentalni ekspertni sistem - Metode in orodja za komuniciranje z računalnikom v naravnem jeziku s posebnim ozirom na slovenščino - Programska podpora za inteligentne robotske sisteme. 8.2. - Metodologija in tehnologija sistemov umetne inteligence: računalniška predstavitev znanja, mehanizmi sklepanja, principi kvalitativnega in prostorskega modeliranja, programska oprema za sisteme umetne inteligence Razvoj eksperimentalnega ekspetnega sistema za medicino: izpopolnitev kvalitativnega modela srca, algoritmi za pretvorbo simboličnih opisov v grafični jezik, razvoj inteligentnega vmesnika za komuniciranje z uporabnikom Komuniciranje z računalnikom v naravnem jeziku: snovanje metod in orodij za komuniciranje v naravnem jeziku, modeliranje morfologije, sintakse in sem antike, zasnova računalniške sinteze govorjenega slovenskega besedila - Sistem za strukturno induktivno učenje Eksperimenti z učenjem v medicinski diagnostiki in napovedovanju . 8.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana. Koordinator Ivan Bratko 2.9. Računalniška avtomatizacija sistemov in procesov 9.1. Cilj raziskav v okviru tega usmerjenega raziskovalnega programa je pridobivanje novih znanj in poglabljanje obstoječega znanja na vseh tistih področjih, ki so potrebna za uspešno računalniško avtomatizacijo sistemov in procesov. S temi raziskavami bomo prispevali k uresničevanju pomembnih družbenih ciljev kot so večja produk- tivnost proizvodnje, racionalizacija porabe energije, povečana kvaliteta proizvodov in povečana stopnja humani-zacije proizvodnih procesov. Pri tem je poseben poudarek podan problematiki prenosa temeljnih znanj na uporabniški nivo in skladnemu razvoju raziskav. S tem ciljem bo naše raziskovalno delo tudi v tem letu, tako kot doslej potekalo v okviru štirih področij, ki skupaj tvorijo zaokroženo celoto. Ta področja so: teoretične raziskave, eksperimentalne raziskave, sistemi za računalniško podprto načrtovanje vodenja (CAD) in raziskave in razvoj mikro(mini) računalniške materialne in programske opreme za vodenje sistemov. 9.2. - Teoretične in eksperimentalne raziskave modernih metod vodenja: Študij metodologije vodenja nelinearnih sistemov in sistemov z zakasnitvami, eksperimentalne raziskave multivariabilnega optimalnega vodenja na modelni napravi, testiranje modernih konceptov vodenja na realnih objektih (problematika regulacije parnih kotlov), izpopolnjevanje minimalne verzije CAD paketa ANA, dopolnitev sistema za merjenje in regulacijo z zmogljivejšim mikroračunalnikom in boljšo programsko opremo. - Računalniško vodenje dinamičnih procesov in programi-bilna procesna avtomatika: računalniško vodenje dinamičnih procesov: vodenje multivariabilnih sistemov (premikanje polov), adaptivno vodenje z regulatorji s končnim nastavitvenim časom, sprotno digitalno vodenje procesov, koncepti in simulacija računalniške regulacije stroja za brizganje plastičnih mas, računalniško podprto načrtovanje vodenja (dopolnitev paketa ANA) Teorija in osnovne raziskave programibilne procesne avtomatike: CAD sistem za projektiranje in načrtovanje industrijskih proizvodnih enot, možnost manipulacije s sestavnimi deli brez uporabe robotov - Računalniško vodenje in simulacija sistemov in procesov: računalniško vodenje procesov: razvoj CAD sistema PANSIDIS, dodatni razvoj laboratorijskega modela, razvoj identifikacijskega algoritma ža identifikacijo parametrov laboratorijskega modela, realizacija regulacije z mikroračunalnikom Upravljanje in simulacija velikih sistemov: razširitev rnlkroračunalniške mreže, simulacija dinamičnega obratovanja elektroenergetskega sistema, identifikacija parametrov električnih strojev, razvoj laboratorijskega modela proizvodne enote, sinhronskega generatorja in po- 13 gonskega agregata z mikroračunalniško reguliranim enosmernim motorjem - Računalniško krmiljenje industrijskih sistemov: Distribuirana podatkovna baza v sistemih daljinskega vodenja; vključitev podatkovnega modela za železniški promet v realni sistem centra vodenja, določitev particij baze podatkov in njihovo distribuiranje v mreži, določitev žalitev za multimikroračunalniški monitor v zvezi z, delovanjem distribuirane podatkovne baze, preizkus delovanja distribuirane podatkovne baze v realnem Centru vodenja železniškega prometa Analiza in računalniška simulacija digitalne regulacije lege: izdelava analize semplirnega in referenčno-semp-lirnega pozicionirnega sistema z uporabo mikroračunalnika, analiza prehodnih pojavov, analiza enakomsrnosti teka pri nizkih vrtljajih. 9.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; Visoka tehniška šola - VTO Elektrotehnika, Maribor; ISKRA Avtomatika, TOZD Razvojni inštitut, Ljubljana. Koordinator: Stanko Strmčnik 2.10. Robotika in m a n i pu 1 a to r j i 10.1. Cilj raziskav je izdelati koncept in matematično zasnovati upravljanje manipulacijskega robota in regulacijo aktuatorjev, ki vključuje model kinematike in dinamike mehanizma ter razviti ustrezno programsko in materialno opremo. 10.2. - Robotika in manipulatorji: vključuje razvoj matematične metodologije in simulacijskega programskega sistema za načrtovanje robotskih sistemov in sintezo njihovega upravljanja ter zasnovo hierarhične in decentralizirane strukture upravljanja z diskretno regulacijo - Goneriranje delovnih krivulj manipulatorjev: vključuje simulacijo krmilnega algoritma z inverznim modelom za en segment manipulatorja, prireditev delovnega prostora za robotizirano sestavljanje polprevodniških usmerniških mostičov ter multiprocesorsko večnivojsko krmiljenje ro-lx)t.izirane linije - Mikroprocesorski model za krmiljenje računalniške grafičnih enot: nadaljuje delo na izboljšavah mehanskih in elektronskih komponent prototipnega ravninskega risalnika - Industrijski roboti: zajema raziskave na razvoju električno gnanih osnih modulov. 10.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana; Visoka tehniška Šola - VTO Strojništvo, Maribor; Visoka tehniška šola - VTO Elektrotehnika, Maribor. Koordinator: Pavel Oblak 2.11. Modeliranje, identifikacija in avtomatsko razpoznavanje 11.1. Eksperimentalno preverjati metodologije identifikacije in dopolnjevati programske pakete za identifikacijo. S pomočjo analitičnih, računalniških in modelnih metod doseči stabilne visokoenergetske curke naelektrenih delcev. Izdelati računalniški model večzančne regulacije destilacijske kolone za pridobivanje dimetiletra iz odpadnih plinov in s pomočjo tega modela kasneje projektirati regulacijski sistem destilacijske kolone. Analizirati uporabnost 8-, 16- ali celo 32-bitnih mikroračunalnikov pri inženirskih aplikacijah v računalniški grafiki, proučiti standarde grafičnega sistemskega jedra GKS in oceniti prilagodljivost mikroračunalniških operacijskih sistemov temu jedru. Določiti in analizirati strukturo mikroračunalniško mreže, podatkovnega in funkcijskega modela in s tem sistemsko rešiti nekatere probleme distri-buiranega procesiranja v realnem času v kompleksnih multimikroračunalniških sistemih vodenja procesov (železniškega prometa). Proučiti možnost uporabe abstraktnega in formalnega modela za opisovanje in analizo delovanja paralelnih samoučečih razpoznavalnih sistemov. 11.2. - Sodobne metode modeliranja in identifikacije: eksperimentalna verifikacija identifikacijskih metod, identifikacija z metodo ARIMA - Modeliranje sistemov: teoretično, računalniško in modelno reševanje sistemov z zveznimi in diskretnimi metodam i - Regulacijski sistemi in računalniška grafika - Analiza, modeliranje in testiranje sistemov; strukturna analiza velikih sistemov in modelov - Razpoznavanje vzorcev: uporaba abstraktnega in formalnega modela pri implementaciji samoučecega raz.po— znavalnega sistema. 11.3. Institut Jožef Štefan, Ljubljana; Visoka tehniška sol a - VTO Elektrotehnika, Maribor; Visoka tehniška šola - VTO Strojništvo, Maribor, ISKRA - Avtomatika, TOZD Razvojni inštitut, Ljubljana; Fakulteta za elektrotehniko , Ljubljana. Koordinator: Ludvik Gyergyek 14 Organizacija Osn. sredstva Prioriteta glede na Kvaliteta opravlje- družbene cilje nega raziskovalne-. Skupaj kategorija Sredstva ga dela kato- sredstva gorija_ 2+4+6 Dop. program Skupaj 7+8 Skupaj z revalorizacijo 10 C 2 Tehniške vede C 2-0120 Mikroelektronika i JS Iskra IEZE-RE FE 5,11.1.460 1 2,328.800 2 1 380.489 173.352 945.250 1,5 2,5 1 994.211 3,704.877 6,486.160 2,502.152 17,348.527 6.486.160 8.130.335 2,502.152 3.136.422 17,348.527 21.746.201 20,138.660 1,499.091 4,699.088 26,336.839 26.336.839 33.012.958 C2-0121 Profesionalizacija elementov s poudarkom na senzorjih , podajalnikih in pretvornikih IJS 3,957.750 1 294.609 IEVT 8,442.640 1 628.457 Metal.inšt. 1,123.720 1. 83.648 Iskra IEZE-RE 1,397.750 1 104.046 _FE 636.140 1 47.353 384.903 821.073 109.285 135.935 61.866 4,637.262 9,892.170 1,316.653 1,637.731 745.359 4,637.262 5.812.761 9,892.170 12.399.734 1,316.653 1.650.411 1,637.731 2.052.879 745.359 934.300 15,558.000 1,158.113 1,513.062' 18.229.175 18.229.175 22.850.085 C2-0122 Komunikacijski sistemi IJS 2,851.700 1 212.276 Iskra EM-C. za elektroopt. 863.400 1 64.270 FE 1,718.600 1 127.930 _ Iskra ISEZ-RE 1,820.430 1 135.510 2,5 neocenjena 2 167.139 2 177.04-2 3,063.976 927.670 2,013.669 2,132.982 3,063.976 3.840.662 927.670 1.162.825 2,013.669 2.524.114 2,132.982 2.673.671 7,254.130 539.986 344.181 8,138.297 8,138.297 10.201.272 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 C2-0123 Električna medicinska stimulacija in meritve IJS 4,858.720 1 361 .675 1 1,417 .577 6 ,637 .972 6 ,637 .972 8,320 .630 IEVT 1,323.000 1 98 .482 2 128 .665 1 ,550 . 147 1 ,550 .147 1,943 .093 Zav.za reh.inv. 698.730 1 52 .012 2 67 .953 818 .695 818 .695 1,026 .226 FE 2,267.700 1 168 .804 1 661 .622 3 ,098 .126 3 ,098 .126 3,883, ,469 9,148.150 680 .973 2,275. .817 12 ,104 .940 12 ,104 ,940 15,173, ,418 C2-0124 Temeljne raziskave računalniške tehnike IJS 4,933.540 1 367 .245 1 ,5 959 .604 6 ,260 .389 6 ,260, .389 7,847. ,334 FE 1,355.000 1 100 .864 2 131. .778 1 ,587 .642 1 ,587, ,642 1,990. ,093 VTS - Elektr. 923.210 1 68. .722 2 ,5 991 .932 991. ,932 1,243, ,376 7,211.750 536. .831 1,091. .382 8 ,839, .963 8 ,839, .963 11.080. .803 C2-0125 Računalniški komunikacijski sistemi in mreže IJS 1,462.170 1 108. .841 2 142. .200 1 ,713. .211 1 ,713. .211 2.147. .493 FE 485.370 1 36. .130 2 47. .203 568. .703 568. ,703 712, ,863 VTS - Elektr. 475.250 1 35. .376 2 46, .219 556, .845 556, ,845 698. .000 2,422.790 180. .347 235. .622 2 ,838. ,759 2 ,838, ,759 3.558. .356 C2-0126 Temeljne raziskave za programsko opremo IJS 5,445.920 1 405. .386 1. .5 1,059. ,265 6, ,910. ,571 1. ,800. .000 8 ,710. .571 10.545. ,648 FE 548.060 1 40. 797 neocenjena 588. .857 588, ,857 738. .126 VTS - Strojn. 1,116.540 1 83. 113 2 108. ,587 1. ,308. .240 1 ,308. .240 1,639. ,865 VTS - Elektr. 565.350 1 42. 083 2 54. 982 662. .415 662. .415 830, .330 7,675.870 571. 379 1,222. ,834 9. ,470. .083 1. ,800. ,000 11 ,270. ,083 13,753. .969 C2-0127 Metode umetne inteligence IJS 4,186.280 1 311. 620 1 1,221. 386 5. ,719. 286 5 ,719. 286 7,169. ,066 FE 1,046.580 1 77. 905 1, 5 203. 566 1, ,328. ,051 1 ,328. 051 1,664. 698 5,232.860 389. 525 1 ,4 24 . 9 52 7, 047. 337 7 ,047. 337 8,833. 764 15 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 C2-0128 Računalniška avtomatizacija sistemov in procesov KIBK 500 .000 500. ,000 523, . 14 ; IJS 3 ,742.980 1 278, .621 2 364 .016 4 ,385, .617 1,600, .000 5,985, ,617 7, ,627, ,677 Iskra IZA 2 ,385.700 1 177. ,587 2 232 .016 2 ,795, .303 2,795. .303 3, .503, ,844 FE 1 ,650.920 1 122. ,892 1 ,5 321, .114 2 ,094, .926 2,094, ,926 2, .625. ,969 VTS - Elektr. 3 ,118.900 1 232. ,166 2 303 .322 3 ,654, .388 3,654, ,388 4, ,960, , 949 10 ,898.500 811, .266 i ,220 .468 12 .930. .234 2,100. ,000 15.030, .234 19, ,241, 623 C2-0129 Robotika in rnanipulatorji IJS 3. ,691.390 1 274. ,781 2 358. .999 4 ,325. .170 4,325. 170 5, ,421. 557 FE 504.600 1 37, ,561 2 49. ,073 591, ,234 591. 234 741. 106 VTS - Strojn. 524.000 1 39. ,005 2 50, ,960 613. ,965 613. 965 769. 559 VTS - Elektr. 525.000 1 39, ,080 neocenjena 564. .080 564. 080 707, 069 5. ,244.990 390. 427 459, ,032 6. ■ 09'4. .449 6,094. 449 7. ,639. 331 C2-0130 Modeliranje, identifikacije in avtomatsko razpoznavanje IJS 1. ,644.800 1 122. 436 2 159. ,961 1, ,927. 197 1,927. 197 2. 415. 721 Iskra IZA 519.900 1 38. 700 2 50. 561 609. 161 609. 161 763. 557 FE 1,417.900 i 105. 346 1, i ■' 275. .790 1. ,799. 236 1,799. 236 2. ,255. 3^4 VTS - Strojn. 872.900 1 64. 977 o 84. 892 1. ,022. 769 1,022. 769 1. 282. 031 VTS - Elektr. 544.800 1 40. 554 2. ,5 585. 354 585. 354 799. 976 5, 000.300 372. 213 571. 204 5. ,943. 717 5,943. 717 7. 516. 629 V okviru Posebne raziskovalne skupnosti za elektrokovin-sko industrijo (PORS 03) so naslednji raziskovalni programi in projekti: Usmerjeni raziskovalni program: 03-2569 M i k ro ele k t r o n i k a in gradniki vezij Koordinator: Iskra - IEZE Sredstva URP/RP: 31,555.845 Raziskovalna organizacija Sredstva v tematski, sklopi v RP oziroma URP 1984_____ 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 16,100.144 Mikroelektronika - Tankoplastne tehnologije - Debeloplastne tehnologije Profesionalizacija elementov: - Raziskave varistorjev in magnetov na osno.vi redkih zemelj in kobalta - Analiza materialov za elektronske komponente - Visoko občutljivi termalni senzorji infrardečega sevanja Kazalniki 204 - INŠTITUT ZA ELEKTRONIKO IN VAKUUMSKO TEHNIKO 4.096.565 Tehnološke raziskave za elemente v elektrotehniki in elektroniki: - Prevleka Al in njegovih zlitin s plemenitimi kovinami za mikrovalovno tehniko - Razvoj heterospojnih sončnih celic - Razvoj nastavljivih vakuumskih kondenzatorjev - Raziskave korozijskih procesov 293 - ISKRA-IEZE - RAZISKOVALNA 2.558.518 ENOTA Razvoj magnetov AlNiCo 2000 v sinter tehnologiji 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO ISKRA - MIKROELEKTRONIKA 5.113,800 Izpopolnjeni funkcionalni bloki v tehnologiji M OS 797 - VTŠ - VTO GRADBENIŠTVO 869.799 Kazalniki: ~ Evaluacija orientacije Tli na poliamidnih nanosih - Primerjalna študija vpliva mehanske ter fotolitografske obdelave orientacijskega nanosa na urejenost TK molekul - Študij vpliva kristalizacije TK v prika-zalnikih na kvaliteto orientacije v ne-matski fazi Raziskovalni projekt: 03-2505 Integrirani telekomunikacijski sistemi z optoelektroniko Koordinator: Iskra - Center za elektrooptiko Sredstva URP/RP 3,345.448 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski sklopi v RP oziroma URP__1984 _ 143 - ISKRA - CENTER ZA ELEKTROOPTIKO 1.808.546 Izdelava optičnega vlakna 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 1.536.902 Planarni optični vodniki in elementi, PIN dioda in fotodioda 206 - SZ - METALURŠKI INŠTITUT Raziskave in razvoj kovinskih zlitin 2.817.019 16 Raziskovalni projekt: 03-2506 Medicinska elektronika Koordinator: Institut "Jožef Štefan" Sredstva URP/RP 8,196.366 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski sklopi v RP oziroma URP_1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 6.147.228 Uporaba funkcionalne električne stimulacije ekstremitet in sečil Nuklearna medicina 204 - INŠTITUT ZA ELEKTRONIKO IN VAKUUMSKO TEHNIKO 1.024.473 Svetila za fototerapijo 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 1.536.902 Elektroterapevtski sistemi za ekstremitete in sečila: - Terapevtski električni stimulatorji in merilniki - Elektronske naprave v rehabilitaciji bolnikov s spinalnimi poškodbami - FES urogenitalnih mehanizmov Raziskovalni projekt: 03-2507 Močnostna elektronika, električni stroji Koordinator: Fakulteta za elektrotehniko Sredstva URP/RP 4,971.963 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski .sklopi v RP oziroma URP 1984 204 - INŠTITUT ZA ELEKTRONIKO IN VAKUUMSKO TEHNIKO 1.075.717 Študij uvajanja tranzistorjev na področju močnostnih generatorjev 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 1.268.578 Električni stroji - Usrnerniški transformatorji 769 - VTŠ - VTO ELEKTROTEHNIKA 1.603.573 Analiza in optimizacija asinhronskih motorjev: Raziskava realnih razmer v feromagnet-nem krotiti trifaznega asinhronskega motorja Programirane naprave energetske elektronike 834 - ISKRA - INDUSTRIJA ŠIROJCOPOTROŠ- 1,024.095 NI H IZDELKOV-RI Enosmerni elektromotor z elektronsko komutacijo Usmerjoni raziskovalni projekt: 03-2531 Razvoj elektronskih naprav za S i r o k o p o t r o -šn j o Koordinator: Institut "Jožef Štefan" Sredstva URP/RP 14,240.484 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski sklopi v RP oziroma URP_1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 1.947.985 Razvoj elektronskih naprav za doseganje svetlobnih efektov Induktivno segrevanje za litje in termično obdelavo s srednjimi frekvencami 165 - TGO GORENJE, RAZISKOVALNA ENOTA 3.074.375 Razvoj elektronskih sklopov za gospodinjske aparate Smeri razvoja električnih gospodinjskih aparatov 204 - INŠTITUT ZA ELEKTRONIKO IN VAKUUMSKO TEHNIKO 3.587.895 Razvoj VF generatorjev za koronsko obdelavo plastičnih folij Kompaktna fluorescenčna svetila Razvoj bliskovnih revi 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO U 023.712 Sistem za boljšo kvaliteto slike 782 - FAKULTETA ZA STROJNIŠTVO 1.021.809 Adaptivni regulator v sistemih ogrevanja: Programirani sobni termostat 796 - VTŠ - VTO ELEKTROTEHNIKA 1.023.712 Naprava za odpravljanje elektrostatike pri proizvodnji sintetičnih tkanin 834 - ISKRA - INDUSTRIJA ŠI ROKO PO- THOŠNII1 IZDELKOV 2.560.996 Mikroprocesorsko krmiljenje sistemov TVZK - rross bar Raziskovalni projekt: 03-2570 R a č u n a 1 n i š k a o p r e m a Koordinator: Institut "Jožef Štefan" Sredstva URP/RP 17,707.908 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski sklopi v RP oziroma URP_19 84 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 14.863.457 Sistemska oprema Sistemska programska oprema Računalniško načrtovanje v elektroniki Konstrukcijski informacijski sistemi Metode za matematično in statistično obdelavo Univerzalni digitalni regulator Mikroračunalniška oprema za večkanalni analizator 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 1.391.557 Evaluacija mikroprogramirane arhitekture na bazi rezinske tehnologije Sinteza računalniškega generatorja grafičnih predstavitev informacij 17 796 - VTŠ - VTO ELEKTROTEHNIKA 1.452.894 Aplikacija bipolarnega mikroprocesorja Vključevanje obstoječih računalniških komunikacijskih sestavov v informacijske sisteme Raziskovalni projekt: 03-2508 Robotizacija Koordinator: Institut "Jožef Štefan" Sredstva URP/RP 11,960.270 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski sklopi v RP oziroma URP_1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 7.300.401 Razvoj industrijski robotov Inteligentni računalniški in robotski sistemi 542 - ECM - IREL 239.368 Tržni vidiki robotizacije ' 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 2. 179.324 Robotizacija in pozicioniranje - Robotizacija postopkov izdelave elementov in sestavov - Pozicioniranje v procesnih sistemih - Inteligentni mikroračunalniški sistem za obdelavo elektrokardiografskih signalov 796 - VTŠ - VTO ELEKTROTEHNIKA 1.557.855 Mikroračunalniško krmiljenje in regulacija reguliranih elektromotorskih pogonov Raziskovalni projekt: 03-2517 Modeliranje, identifikacija in stimulacija sistemov in procesov Koordinator: Institut "Jožef Štefan" Sredstva URP/RP: 3,329.823 Raziskovalna organizacija Sredstva v Tematski sklopi v RP oziroma URP_1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 1.962.083 Študij dinamike termoenergetskih objektov in procesov ter razvoj simulatorjev. Študij možnosti uporabe mikroračunalni- ških sistemov za simulacijo. Uporaba izsledkov študij o dinamiki in simulaciji za razvoj algoritmov vodenja procesov in sistemov, razvoj naprav za avtomatsko vodenje in gradnjo pripomočkov za šolanje kadrov 139 - ISKRA - AVTOMATIKA - TOZD RI 588.626 Modeliranje in simulacija mikroprocesorskih podsestavov 165 - TGO GORENJE, RAZISKOVALNA ENOTA 747.058 Roboti za površinsko zaščito in manipulacijo 209 - INSTITUT ZA VARILSTVO Clenkasti robot za varjenje 782 - FAKULTETA ZA STROJNIŠTVO Roboti za strego 747.058 747.058 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO Identifikacija in optimizacija krmiljenja elektromehanskih navijalnih sistemov Modeliranje in simulacija enosmernega motorja 796 - VTS - VTO ELEKTROTEHNIKA Analiza in sinteza sistemov z diskretnimi dogodki z otipavanjem 389.557 389.557 Raziskovalni projekt: 03-2516 Avtomatizacija sistemov in procesov Koordinator: Iskra-Avtomatika-TOZD RI Sredstva URP/RP 7,,930» 249 Raziskovalna organizacija Tematski sklopi v RP oziroma URP Sredstva v 1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 1.290.973 Precizno merjenje temperatur na razmeroma obsežnem merilnem polju, zajemanje in obdelava podatkov in krmiljenje merilnega procesa na osnovi izračunanih parametrov 139 - ISKRA AVTOMATIKA - TOZD RI 3.698.434 Mikroračunalniška silosna tehtnica ST 215 Računalniško vodenje železniškega prometa Distribuirana podatkovna baza v sistemih daljinskega vodenja 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 1.382.987 Študij uporabnosti modifikacij elektronsko-motornih postrojev Raziskovalni projekt: 03-2518 Materialna in programska oprema za vodenje in nadzor sistemov Koordinator: Institut "Jožef Štefan" Sredstva URP/RP 5,721.461 Raziskovalna organizacija Tematski sklopi v RP oziroma URP Sredstva v 1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 2.817.399 Večproeesorski mikroračunalniški sistem Materialna oprema z električno brisljivimi E PROM-i v mikroračunalniški]! sistemih 139 - ISKRA - AVTOMATIKA - TOZD RI 942.559 Sistem človek - naprava pri vodenju procesov 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 573.389 Nadzor in zaščita pogonskih sistemov z izmeničnimi motorji 18 796 - VTS - VTO ELEKTROTEHNIKA 1.388. 114 Aplikacije mikroprocesorjev za vodenje in nadzor elektroenergetskih postrojev Računalniško testiranje velikih sistemov Raziskovalni projekt: 03-2572 Avtomatski merilni sistemi Koordinator: Fakulteta za elektrotehniko Sredstva URP/RP 9,695.071 Raziskovalna organizacija Tematski sklopi v RP oziroma URP Sredstva v 1984 106 - INSTITUT "JOŽEF ŠTEFAN" 1.997.895 Avtomatski merilni sistemi v ekologiji in hidrometeorologiji 145 - ISKRA - INŠTITUT ZA KAKOVOST IN METROLOGIJO 1.025.032 Meritve električnih veličin in izdelava predloga za skladno dopolnjevanje vakuumske električne in elektronske opreme v SRS 204 - INŠTITUT ZA ELEKTRONIKO IN VAKUUMSKO TEHNIKO 2.048.949 Lociranje visokoohmskih napak v kablih na osnovi udarnih valov Elektronska analitska tehtnica 781 - FAKULTETA ZA ELEKTROTEHNIKO 2.701.662 Statistične metode in inteligenca v merilnih sistemih - Izmenična napetostna normala - Umetna inteligenca v avtomatskih merilnih sistemih 796 - VTŠ - VTO ELEKTROTEHNIKA 1.921.533 Avtomatizacija laboratorijskih meritev Merilni sistemi Jugoslavije PoRS - 03 skupaj 157.882.574 din V programu posebnih raziskovalnih skupnosti je še interdisciplinarni raziskovalni program, ki je zanimiv za več PqRS-ov. Merila za ta program so: 1. Predlogi za uvrstitev v interdisciplinarni program PoRS-ov morajo biti interdisciplinarnega značaja in sicor tako, da mora biti v predlogu zastopanih več znanstvenih disciplin. Praviloma naj bodo izvajalke predloženega programa raziskovalne organizacije iz vsaj dveh različnih PoRS-ov, prav tako pa morata biti za rezultate predloženega programa zainteresirana vsaj dva oziroma več PoRS-ov, poleg PoRS-a, ki raziskovalni program predlaga. 2. V predlogih morajo biti čim bolj natančno opredeljeni konkretni cilji. 16.421.785 3. Predlog naj bo praviloma zajet že v rednem raziskovalnem programu, tako da z novimi predlogi ne bi odpirali novih aktivnosti. 4. Predlagani program mora imeti določen delež sofinanciranja (praviloma naj bo to ena tretjina vrednosti programa), kar je treba dokazati s pogodbo. Ta zahteva ne velja za PoRS za družbene dejavnosti in PoRS za družbeno infrastrukturo. 5. Ugotoviti je treba, ali je za predlagane programe dovolj prostih raziskovalnih kapacitet. 6. Predloženi program morajo pozitivno oceniti vsaj trije PoRS-i. Vsak PoRS naj določi prioriteto na največ tri predloge. Tem merilom ustrezajo naslednje raziskave, ki vključujejo tudi mikroelektroniko: St. Naslov interdisciplinar.projekta Celotna int.proj. Izvajalec/koordinator_sredstva 21-2593 INDUSTRIJSKI ROBOTI IN PODSKLOPI 106 Inštitut Jožef Štefan 139 Iskra Avtomatika, TOZD RI 165 TGO Gorenje - RE 209 Inštitut za varilstvo SRS 473 Kladivar, Žiri 509 Razvojni center Celje 542 ECM, TOZD IREL 530 ITEO 781 Fakulteta za elektrotehniko 7 82 Fakulteta za strojništvo 796 VTŠ, VTO Elektrotehnika Center za napredek gospodinjstva 21-2595 DOMAČE OZIROMA CENEJŠE SUROVINE ZA ELEKTRONSKO INDUSTRIJO 106 Institut Jožef Štefan 206 Metalurški inštitut 21-2598 UPORABA LASERSKE ELEKTRO-GRAFIJE PRI RAČUNALNIŠKEM STAVLJENJU TEKSTOV IN SLIK TER PRI RAČUNALNIŠKI KARTOGRAFIJI 106 Inštitut Jožef Štefan* 219 Inštitut za celulozo in papir 246 Inštitut za geodezijo in fotogrametrijo 21-2599 a) UVAJANJE NOVIH TEHNOLOŠKO VISOKO ZAHTEVNIH PROGRAMOV V ENOTE DROBNEGA GOSPODARSTVA b) RAČUNALNIŠKO PODPRT POSLOVNO .INFORMACIJSKI SISTEM ZA DROBNO GOSPODARSTVO 542 ECM - TOZD IREL* 4.183.891 2.091.945 4.706.877 19 584 Ekonomska fakulteta Borisa Kidriča 782 Fakulteta za strojništvo 106 Inštitut Jožef Štefan 508 Inštitut za delo 513 Inštitut za sociologijo 139 Iskra, Industrija za avtomatiko 509 Razvojni center Celje 585 Visoka ekonomsko komercialna šola Tako je bilo še leta 1984, pripravljajo pa se spremembe. Mikroelektronika kot znanost ostaja v skupnem programu, kot aplikacija pa je bolj aH manj zajeta v skoraj vseh projektih posebnih raziskovalnih, skupnosti, torej kot infrastruktura . Prof. Dušan Merhar Raziskovalna skupnost Slovenije, Ljubljana JUGOSLAVENSKO TRŽISTE SASTAVNIH DIJELOVA ZA ELEKTRONIKI! -PROGNOZA POTROŠNJE U RAZDOBLJU 1985. DO 2000. GODINE Miroslav Turins Prognozirati potrošnju sastavnih dijelova za elektroniku u Jugoslaviji u razdoblju narednih 15 godina je nezahvalan i težak posao. Na potražnju i potrošnju sastavnih dijelova za elektroniku utječe mnogo činilaca. Osnovni činioci su opseg proizvodnje elektroničkih uredjaja i sistema, asor-tirnan te proizvodnje i tehnologije proizvodnje. Takodjer je značajan činilac dobavljivost sastavnih dijelova. Prog-noze, koje se daju u ovome članku nastale su koristenjem nekoliko različitih metoda. Prvi pokušaj utvrdjivanja budu-čih potreba za sastavnim dijelovima napravljen je metodom ispitivanja (ankete). Napravljen je upitnik, s razradjenom nomenklaturom sastavnih dijelova, koji je poslan svim organizacijama koje se bave proizvodnjom elektronike u SR Hrvatskoj. Nažalost, rezultati postignuti anketom bili su neupotreblji-vi za bilo knkvo ozbiljnije planiranje i prognoziranje. Samo manji broj organizacija ima predstavu o vrsti i količini komponenata, koje če trebati u budučnosti. Z bog toga u dal jem radu korištene su metode trenda, godišnjih stopa rasta i regresijske analize. Sve analize su napravljene polazeči od nekih pretpostavki. Prva pretpostavka odnosi se na udio sastavnih dijelova u ukupnoj proizvodnji elektronike. Vidjeli srno (Informacije 31-32, 12.84.) da je u razdoblju 1977. do 1982. godine taj udio iznosio 13,3 %. Pretpostavlja se da če relativna vrijed-nost sastavnih dijelova u gotovom proizvodu neprekidno rasti, da bi 2000. godine dosegla cca 20 %. Druga pretpostavka odnosi se na ukupnu proizvodnju elek-troničke industrije u Jugoslaviji. Pretpostavlja se da če vrijednost proizvodnje oloktroriičke industrije rasti brže od porasta društvenog proizvoda ili porasta ukupne industrijske» proizvodnje. Porast če biti brži u razdoblju 1990-2000. godine, nego u razdoblju 1986-1990. Bilo bi zanimljivo razmotriti udio pojedinih vrsta sastavnih dijelova u ukupnoj potrošnji sastavnih dijelova. Nažalost, radi nedostatka pouzdanih polaznih podataka takvu a-nalizu nije bilo moguče napraviti. Napravljena je samo pro-gnoza o potrošnji poluvodičkih elemenata. Pretpostavljeno je da če udio poluvodičkih elemenata u ukupnoj vrijednosti sastavnih dijelova u našoj elektroničkoj industriji rasti neprekidno do 2000. godine. Na kraju kao rezultat analize dobiveno je slijedeče: Godina 1985. 1990. 2000. Prognoz irana potrošnja sastavnih 200 368 1520 dijelova - ukupno Prognozirana potrošnja poluvodič- 80 165 790 kih elemenata Podaci su u milionima dolara po stalnim cijenama. Postavlja se pitanje koliki dio potreba za sastavnim dijelovima može podmiriti domača industrija. Kod pasivnih elektroničkih komponenata sigurno više od 80 % potreba doma-čeg tržišta može podmiriti domača industrija. Mnogo teže? stanje je kod poluvodičkih elemenata. Bez obzira na to što domači proizvodjači poluvodičkih elemenata smatraju da su danas prerazvijeni za potrebe domačeg tržišta može se dogoditi da upravo nedovoljna i neadekvatna ponuda poluvodičkih elemenata domače proizvodnje bude kočnica bržem 20 razvoju cjelokupne elektroničke industrije. Uz pretpostav-ku da se izvrše velika ulaganja u razvoj poluvodičke industrije domači proizvodjači mogli bi zadovoljiti 50 % do najviše 80 % prognozirane domače potrošnje. Prevazilazi opseg ovoga članka, ali spomenimo da neki preliminarni računi pokazuju da bi u razdoblju idučih desetak godina bilo potrebno uložiti cca 500 miliona dolara u razvoj domače industrije poluvodiča. Tek tada bi ta industrija mogla zadovoljiti potrebe domačeg tržišta i istovremeno radi-ti za izvoz. Miroslav Turina, dipl.inž. Elektrotehnički institut Rade Končar, Zagreb REDAKCIJSKE NAPOMENE Miroslav Turiria U ovom broju INFORMACIJE SSESD objavijujemo završni dio prikaza o domačem tržištu sastavnih dijelova za elek-troniku. Na osnovu reagiranja čitalaca, redakcija ocijen-juje da je članak dobro primljen. Zbog toga redakcija če nastojati da i u slijedečim brojevima INFORMACIJE SSESD objavi juje članke, prikaze i informacije poslovnog s.»držaja. Nastojati čemo davati informacije koje se odnose na šire područje elektronike, a ne samo na sastavne dijelove. Tako več u ovome broju objavi jujemo članak autora dipl. ing. Igora Pompeta: "Smer gradnje elektronskih naprav v svetu in vpliv na sestavne dele". Autor je ovaj rad napra-vio u sklopu "Projekta dugoročnog razvoja industrije pre-rade metala Jugoslavije 1986-2000., odnosno 1986-1990. godine". Članak koji objavi jujemo preuzet je iz poglavlja koje se odnosi na sastavne dijelove elektronskih aparata i uredjaja. U narednim brojevima INFORMACIJE SSESD objavit čemo prikaze ostalih dijelova ovoga poglavlja. Radi nedostatka prostora i skučenih tehničkih mogučnosti članak, objavljen u ovom broju, neznatno je skračen u odnosu na originalni tekst - Redakcija poziva čitaoce na suradnju u uredjivanju rubrike "Poslovne informacije". Saljite nam informacije o novim proizvodirna, novim tehnologijama, novim proizvodnim programima u domačoj elektroničkoj industriji. Ta-kodjer čemo objaviti priloge, koji se odnose na pitanja razvojno istraživačkog rada, davati informacije o poslovno tehničkoj suradnji izmedju domačih organizacija ili domačih i stranih informacija. Sve priloge s ovakvom i sličnom tematikom, molimo vas, šaljite na adresu: Miroslav Turina Elektrotehnički institut - Rade Končar 41000 Zagreb, Baštijanova ul. b.b. SMER RAZVOJA GRADNJE ELEKTRONSKIH NAPRAV V SVETU IN VPLIV NA SESTAVNE DELE Igor Pompe Znana so dejstva iz bližnje preteklosti, ko smo bili priča, kako je imel razvoj elementov za elektroniko, zlasti monolitnih integriranih vezij in med njimi zlasti mikroprocesorjev za posledico eksploziven razvoj informatike in računalništva. Poznano je, da se že danes v ZDA nad 45 % zaposlenih ukvarja z zbiranjem, procesiranjem in razpe- čevanjem informacij, da se le še 3 % bavi s kmetijstvom in le cca. 24 % s proizvodnjo v industriji ter, da je v servisnih dejavnostih Zaposlenih več delavcev kot v proizvodnji. Vse to je omogočil razvoj delovnih sredstev ob uporabi elektronike. 21 Elektronika bo še nadalje izkazovala močno rast (najmočneje pri osebnih računalnikih in avtoindustriji). Pri tem bo zaradi napredka v tej panogi še zlasti prisotno znižanje cen. Ob podvojitvi obsega proizvodnje padejo cene normalno med 20 in 30 %. Tekmovanje se vrši v izboljševanju karakteristik in zniževanju cen izdelkov. 1 m {■'//A m n i i iŠL VA W ft ,-Jf m .1 mm Slika 1. : Potrošnja elektronskih naprav v svetu Zopet je razvoj prav v sektorju monolitnih integriranih vezij (VLSI in ULSI) omogočil tak napredek v gradnji naprav, da se ga v svetu že imenuje "4. elektronska revolucija". V čem se kaže? V spremembi načrtovanja ter tehnologije gradnje elektronskih vezij in to ima svoj učinek na uporabo in razvoj sestavnih delov: tiskanih vezij, hibridnih vezij, monolitnih integriranih vezij ter na diskretne komponente. Sprememba se manifestira kot uporaba VLSI in ULSI (ultra high scale integration) vezij, zlasti semi standard silicon (gatearry in standardnih celic), kar omogoča realizacijo večine funkcij že na Si čipih (dizainiranje na siliciju). Hibridna vezja, ki so omogočala poleg povezave standardnih' IC tudi realizacijo nekaterih funkcij, postajajo čedalje bolj le povezovalni deli vezij. Tiskana vezja zaradi velikega napredka v materialih in tehnologiji in ob uporabi čip komponent ponovno pridobivajo na pomenu, ker lahko tudi nado-meste vezja na korundnih substratih, kjer le ta zaradi nekaterih tehničnih prednosti niso nujno potrebna. Uporaba čip komponent omogoča večjo gostoto in stabilnost vezij. Z uporabo IC vezij po naročilu se večina povezav lahko izvrši že na sami Si rezini. Področje načrtovanja IC prehaja od kroga izbrancev na nivo načrtovalcev naprav ob uporabi računalniško podprtega načrtovanja (CAD in CAE - computor added engeneering). Enako velja tudi za hibride. Površinska montaža elementov (tudi IC), ki bo močno zamenjala danes uveljavljene DIL enote, pomeni večjo gostoto vezij z nižjimi stroški montaže. Nove oblike nosilcev tabletk (chip carrier) bodo omogočile montažo najrazličnejših IC. To bo omogočilo zmanjšanje volumnov naprav in znižanje proizvodnih stroškov. Pričakuje se velik naskok za proizvajalce, ki bodo uvedli te nove tehnologije napram tistim, ki bodo obdržali klasično montažo. Med ostalimi vplivnimi dejavniki, ki bodo vplivali na spremembo v potrošnji elementov, je postopen prehod iz analogne na digitalno tehniko pri elektronskih vezjih, kot tudi dejstvo, da bodo nove generacije raznih naprav nudile uporabnikom vrsto z elektroniko realiziranih funkcij, ki jih predhodne generacije naprav niso nudile, in bodo zato v borbi za trg do pretiranosti opremljene z elektroniko. Delež elementov v vrednosti naprav bo rahlo porastel in to zlasti na račun naglega porasta integriranih vezij. Proizvajalci naprav bodo čedalje bolj postajali načrtovalci in proizvajalci sistemov, funkcije se bodo čedalje bolj integrirale in proizvajalci elementov bodo proizvedli že kar cele dele naprav ali cele naprave. Stroški montaže se bodo zmanjševali. V ceni sistemov bo vrednost fizičnih naprav procentualno čedalje manjša na račun programske opreme in baze podatkov. Jedra naprav bodo integrirani sklopi, ki bodo povezani z veznimi elementi in povezani z napajanjem ter senzorji in tipkovnicami na eni strani in aktuatorji ter prikazalniki na drugi strani. Potrošnja ostalih elementov (brez integriranih vezij) relativno sicer počasneje raste kot integrirana vezja, vendar v absolutni vrednosti narašča (1982: 59,3 milijarde 1992 118 milijarde #). Vrednost se bo torej podvojila. Cene se bodo morale zato v tem obdobju znižati za 20 do 30%. Naslednji diagrami prikazujejo napoved pojavov viškov in manjkov v posameznih delih sveta za integrirana vezja in ostale elemente: 22 Iz diagramov je razvidno, da bodo poleg Japonske zlasti ostale dežele in od teh zlasti dežele v razvoju pokrile manj-ke pri ostalih elementih v zahodni Evropi in ZDA. Tukaj i-mamo mi svoje možnosti. Vrsta elementa 1982 x 109Č 1992 x 109Č Integrirana vezja 13,7 98,0 Diskretni polprevodniki 5,5 12,8 Hibridi (debele plasti) 4,4 12,6 Ploščice tiskanih vezij 7,6 24,5 Kondenzatorji in upori 5,3 11,6 Povezovalne komponente 4,6 10,9 Ostalo 31,9 45,6 Skupaj 73,0 216,0 Elektronika skupaj 268 720 Delež elementov v okviru elektronike ( % ) 27 30 Tabela 1. : Razdelitev potrošnje elementov po podgrupah Vezja bodo manjša s finejšimi prevodnimi linijami, površinsko montiram elementi bodo naloženi mnogo bliže skupaj, gostota vezij bo narasla. Tiskana vezja bodo nosila ve- Trendi v proizvodnji IC Iz prikazanih diagramov je razvidna nezadržna rast integriranih yezij. Uporaba integriranih vezij kot del vrednosti celotne svetovne proizvodnje naprav bo porasla iz cca. 5 % v letu 1982 na preko 13 % v letu 1992. Znotraj grupe integriranih vezij bodo glavno vlogo igrale vezja v CMOS tehnologiji (zaradi VLSI in ULSI) in bodo iz 10 % v letu 1982 narasla v letu 1992 na okrog 50 % proizvodnje integriranih vezij. GaAs integrirana vezja omogočajo večje hitrosti delovanja in nižjo porabo energije na enoto, vendar CMOS na siliciju v VLSI in ULSI tehnologiji ni dosti slabši, je pa še vedno občutno cenejši in ima zaradi tega predvideno tako rast. Močan je trend k načrtovanju na silicijevi rezini. Tako dobi načrtovalni inženir možnosti, da naredi svoj lastni dizajn in da najbolj izkoristi prednosti visoke integracije. Sektor vezij po naročilu in polstandardnih vezij bosta najhitreje rastoča sektorja. Gate array predstavlja najprimernejši sektor za pridobivanje izkušenj pri načrtovanju na siliciju. Te nove pristope je omogočil padec cen za CAE (computer added engineering) to je pocenitev računalnikov. Vidi se, da ima vsak pristop svoje področje, kjer je najugodnejši. Trend gre torej k ponovnemu prevzemanju načrtovanja pri izdelovalcih naprav. Proizvajalci Si vezij pa bodo zadržali procesiranje, inkapsulacijo in testiranje. Slika 2. : Viški in manjki za integrirana vezja v obdobju 1982-1992 liko število integriranih vezij v DIP, flat pack ohišjih ali nosilcih in z relativno manjšim številom pasivnih elementov. Poleg valjnega spajkanja se bo v veliki meri uveljavilo pretaljevanje (reflovv) in spajkanje v parni iazi. Vse to ne pomeni, da ne bo močna rast tudi na področju standardnih vezij, kot so spominska vezja, mikroprocesorji in še nekatera specialna vezja, ki se proizvajajo v velikih serijah. To področje in zagotovitev konkurenčnosti zahteva ogromna investicijska vlaganja. 23 Pričakuje se močno povečanje površinske montaže na račun montaže ožičenih komponent skozi luknje na vezju. Tudi montaža integriranih vezij neposredno na substrate se bo močno povečala. Hibridi se bodo razvijali najbolj v sledečih smereh: - substrati: porcelan, emajl, jeklo; večslojni; sendvič z metalnim jedrom; anodiziran aluminij. pRojLcaofi MASKtTS T»40[ OtilClI Slika 3. : Viški in manjki za ostale elemente v obdobju 1982-1992 Hibridi Dodana vrednost se seli k proizvajalcem integriranih vezij. Delo na montažnih operacijah se zmanjšuje. Hibridi bodo še vedno nadomeščali monolitna integrirana vezja po- slika 4. : Procentualna rast proizvodnje integriranih vezij z ozirom na svetovno proizvodnjo elektronskih naprav: vsod tam , kjer so potrebne česte spremembe dizajna ali kjer so serije premajhne. Ker postaja tudi pri hibridih čedalje izrazitejša vloga povezovanja, določene prednosti, ki jih sicer hibridna vezja na korundnih substratih nudijo, niso več iskane in tako bo možno realizirati marsikatero povezavo tudi na cenejšem tiskanem vezju. - paste: iz neplemenitih kovin (Cu, Ni, Al); nizko sinter-abilne; polimirne; prevodne epoksidne paste - procesiranje bo pri nižjih temperaturah - avtomatsko nalaganje elementov za površinsko montažo - načrtovanje CAD - avtomatsko testiranje Pojav polimernih debelih plasti, ki ne zahtevajo visokih temperatur pri procesiranju, bo omogočil uporabo substratov, kakršni danes služijo za tiskana vezja. Diskretni elementi Ce se omejimo na diskretne sestavne elemente elektronskih naprav in aparatov, vidimo, da bo ta revolucija prinesla zahtevo po površinski montaži in novih lastnostih elementov. Komponente za površinsko montažo (čip komponente, on sertion) bodo v naslednjem desetletju močno jemale procentualni delež diskretnim komponentam z žičnimi izvodi in dosegle v začetku devetdesetih let 30-40 % vseh komponent (največja rast bo v ZDA in na Japonskem). Zahteve pri ostalih elementih bodo nujno prilagojene zahtevam pri integriranih vezjih, kot so večja gostota, višje hitrosti, večje število spojev, več toplote. Zahteva se tudi pakiranje na traku za avtomatsko nalaganje. 24 Pasivni elementi Prikazalniki Predvideva se močan prehod na površinsko montažo in to ne le za uporabo na hibridnih vezjih temveč tudi na tiskanih vezjih, pri čemer se bo dosegla izredna gostota in hitra montaža ter s tem znižanje stroškov. ALL ICS S13.7bn CMOS S t. Abn ii^j L0GIC S i,!cbos -1NEAS All IC5 S95.46n CMOS S48.5bn Katodne cevi bodo relativno zelo izgubile na pomenu, čeprav bo njihova poraba absolutno še rasla. Močno se bo povečal delež prikazalnikov za majhno količino informacij, še zlasti močno pa se bo povečal delež prikazalnikov za veliko količino informacij, to je ploščatih prikazalnikov (flat panel display). Med množico raznih prikazalnikov (elektromehanski, z raz— elektrenjem v plinu, LCD, LED, fluorescentni, elektrolumi-niscentni, elektroforetski, plazma, ...) v količini največ pomenita LED in LCD. Pri tem so LCD najprimernejši za prenosne naprave zaradi nizke porabe energije. Za prikazalnike za veliko količino informacij so najprimernejše tehnologije navedene v tabeli 2. Substrati Slika 5.: Rast CMOS sklopov v okviru vseh integriranih sklopov: Naslednji diagram kaže napovedano rast potrošnje površinsko montiranih uporov v zahodni Evropi, ZDA in Japonski v letih 1983, 1985 in 1990. Slika 6. : Spreminjanje tehnologij integriranih vezij v močno rastočem trgu: Za površinsko montažo ne bodo prilagojeni le debeloplast-ni in MELF upori in večslojni keramični kondenzatorji, ki so že danes močno v rabi, temveč tudi drugi kondenzatorji in upori, induktivni elementi in resonatorji. Vsi elementi morajo biti tehnološko prilagojeni za avtomatsko nalaganje in morajo zdržati postopek pričvrščanja. Predvideva se sledeča rast: Način montaže integriranih vezij bo vplival tudi na substrate. Uporaba DIP oblik se bo zmanjšala na račun novih ohišij, zlasti ohišij za površinsko montažo. «hce:v>8 perfosuvc CGNThvES TC SMPiiOV POVE? DISSIPATION PER GATE Slika 7. : Primerjava obstoječih tehnologij z ozirom na hitrost in moč ter trendi (upoštevati je treba, d se lastnosti v vseh segmentih stalno izpopolnjujejo ): K o n e k t o r j i Tudi ti elementi bodo morali biti prilagojeni za površinsko montažo (temperatura!). 25 Pojavila se bodo nova podnožja za povezavo integriranih ve- v zadnjem času pa še PrFeB in NdFeB, ko bo dosežen BH pre-zij z velikim številom izvodov z vezjem na hibridnem sklo- ko 40 MGOe. Glavna uporaba permanentnih magnetov ni v Slika 8. : Primerjava cen na enoto pri raznih pristopih načrtovanja Slika 9.: Sprememba uporabe različnih montažnih tehnologij v naslednjih letih pu ali tiskanem vezju. Taka podnožja (PIN GRID ARRAY) bodo večslojna debeloplastna vezja. Magnetni materiali Permanentni magneti: V to skupino spadajo alnico magneti, feritni (keramični) magneti ter nove vrste: MnAlC , FeCrCoTi, SmCo,., Sm^Co^, Slika 10. : Tudi poprečno število izvodov integriranih vezij se bo močno povečalo elektronskih napravah temveč pri motorjih. Razvoj novih vrst magnetnih materialov, izpopolnitev obstoječih tehnologij in gibanje cen osnovnih surovin (Co, Ni, ...) je pripeljala do mogočnega preobrata v razvoju uporabe raznih vrst magnetov. V letu 1959 so alnico magneti 26 predstavljali po teži cca. 90 %, keramični 5 % in ostali 5 %. V letu 1983 pa je bilo stanje: alnico 5 keramični 90 %, ostali 5 %. Vrednostno je slika nekoliko drugačna zaradi višjih cen alnico magnetov in ostalih magnetov. V prihodnjih letih se bo delež ostalih povečal zaradi izpopolnitve tehnologije in zaradi izjemnih lastnosti, ki jih ti magneti nudijo. $m Western Europe .-x-x'/ii iiV'VA JaPa Riwi-a tvu, robotiki, pisarniški opremi, avtomatiki, gospodinjskih napravah in letalstvu). Ocenjuje se rast potrošnje vred nostno 8 - 10 % letno v naslednjih desetih letih. Alnico v tehnologiji vlivanja izgublja na pomenu. Mnoge fir me so proizvodnjo opustile. Alnico v tehnologiji sintranja ohranja svoj del trga. Magneti v tehnologijah s plastičnimi vezivi pridobivajo na pomenu (pri tem alnico izgublja na račun feritov). IIO'OKKATIOH Flat 0iSPLA»S ^ ' J .J- INfOFfUt ¡Of Slika 12.: Rast deleža tehnologij ploščatih prikazovalnikov n rapidno rastočem trgu prikazovalnikov Področje sintranih feritov je zrelo in išče pocenitev v večji avtomatizaciji. Največja potrošnja je v motorskih segmentih. Potrošnja zvočniških magnetov se seli iz Evrope na Daljni vzhod, od koder pride večina zvočnikov (okrog 75 % količin). Slika 11. : Rast potrošnje površinsko montiranih uporov v zahodni Evropi, ZDA in Japonski v letih 1983, 1985 in 1990 Ocenjuje se, da je bilo v letu 1983 v zapadnem razvitem svetu proizvedenih 152.000 ton vseh vrst magnetov v vrednosti 825 mio ¡ž (tržišče: ZDA 31 %, Japonska 39 %, Zahodna Evropa 22 % . .. ). Glavna uporaba je v malih elektro motorjih (tako kolektorskih kot koračnih), katerih potrošnja eksplozivno narašča (največ v avto industriji, računal niš- Nove vrste visokoenergiskih magnetov SmCo in NdFeB pridobivajo nove aplikacije zlasti tam, kjer sta volumen in moč pomembnejša od cene. Zaradi uporabe teh novih materialov bo hidravliko za mnoge aplikacije zamenjala elektronika. Mehkornagnetni materiali: Poleg jeder iz pločevin (E, I jedra in tračna jedra) igrajo v tem segmentu glavno vlogo feritna jedra. V letu 1983 je bilo v razvitem zahodnem svetu proizvedenih 60.000 ton v 27 vrednosti 260 mio Ocenjuje se vrednostno 5 %-na rast v Pričakuje se rast keramike za elektroniko cca. 17 % letno naslednjih desetih letih. Pri tem bo količina v tonah nekoli- (pri tem bodo nekatera področja rasla hitreje, druga poča-ko upadla zaradi zmanjšanja jeder. Trendi zahtevajo jedra sneje). I iOMESSAO,-PIXELS PER PANEL DISPLAY OEMS i TV PCR y y. VOL 1 AG!" Powes CONSUMPTION COSTS;;- PATS ^ -.f-i-.m«'. AND 10S . 2 - i U. - 3,.» 7 10 - 100 ; So;) I. Ltc ^OL .'.i '..'.ei,:':; le - 1 - 2 100 - 2CCV 2o. 1 • gree.', ASMS ur- - ijs 1 - 10 viCUOM F .JOR!.;,;1;« 10" ' - 2 20 - 75S 1 - 10 <10 1 i J-^en, ; ;iW10 c'r<,i7,LS ¡0" - 10' 1 - 2 5 - 15V 0. 1 4. 1 ¿i-tor ä/Vf) * Higner contra^ possible hut at the expense of useful life Tabela 2.: Tehnologije za prikazalnike za veliko količino informacij M/5Ni:i ACTUREP CHARACTER CAPACItY TECHNOLOGY CONTRAST RATIO VIEWING ANO.!.!: DEGREES -;a,vo 106 x 25 twisted Nettie 3.5 - 4;1 20 • 25 51. i kj 105 x 25 SHARP 80 x 25 CRYSIALVISIOtt 90 x 25 (Tuest Host Pliase Change 10.1 120 PANEL VISION 2 7 x 14 I'( Active 8.1 120 Cosl: 300 - .¡50 S i r,' ii r.c drivers in production quantities Tabela 3. : Predvidena rast substratov v letih 1982 do 1992 z višjo permeabilnostjo, nižjimi izgubami, višjim frekvenčnim območjem in večjo stabilnostjo. Za področje odprave motenj se bo močno povečala uporaba jeder iz FeSi pločevin. Za posebne zahteve se pojavljajo jedra iz amorfnih pločevin, ki bodo odprla nove možnosti pa tudi odvzela del trga feritnim jedrom. Keramični materiali Navedenim spremembam se bodo morali prilagajati tudi keramični materiali, kot substrati vezij in substrati elementov. Uporaba na drugih področjih (zlasti v strojništvu) bo rasla hitreje. Uporabljeni podatki: Electronics Electronic Bussiness BPA (konferenca o 4. elektronski revoluciji) Igor Pompe, dipl.ing. ISKRA - IEZE Ljubljana 28 PROGRAM POSVETOVANJA MIEL—85 V LJUBLJANI Pavle Tepina XIII. JUGOSLOVANSKO POSVETOVANJE O MIKROELEKTRONIK! MIEL - 85 MIEL-85, XIII. Jugoslovansko posvetovanje o mikroelek-tronilci z mednarodno udeležbo, predstavlja tradicionalni sestanek strokovnjakov s področja mikroelektronike iz vse Jugoslavije. Z MIEL-85 nadaljujemo proces internacionalizacije - začet v Banjaluki in uspešno nadaljevan v Zagrebu in Nišu - tega posvetovanja z namenom boljšega spoznavanja dosežkov kakor tudi izmenjavo informacij med strokovnjaki zapada in vzhoda, juga in severa Evrope. SPLOŠNE INFORMACIJE Posvetovanje se bo odvijalo v prostorih Gospodarskega razstavišča v Ljubljani od 8. - 10. maja t.l. Uradni jezik posvetovanja so vsi jugoslovanski in angleški. Vsi domači referati bodo simultano prevajani v angleščino. Ob posvetovanju bo tudi razstava proizvodov, opreme in literature s področja mikroelektronike. V sredo 8. maja t.l. ob 9. uri bo predstavnik SR Slovenije uradno odprl posvetovanje. Zaključek posvetovanja bo v petek, 10. maja t.l. ob 17.30 uri. Zbornik referatov boste lahko prejeli v recepciji posvetovanja na Gospodarskem razstavišču, ki bo odprta v torek, 7. maja od 15. - 18. ure, vse ostale dneve posvetovanja pa od 8. do 18. ure. DRUŽABNI PROGRAM XIII. JUGOSLOVENSKO SAVETO VANJE O MIK RO ELEKTRO-NIC I MIEL - 85 MIEL-85, XIII. Jugoslovensko savetovanje o mikroelektro-nici sa medjunarodnim učeščem pretstavlja več tradicionalni sastanak stručnjaka s područja mikroelektronike iz čita-ve Jugoslavije. MIEL-85 produžava proces internacionalizacije savetovan-ja, započet u Banjaluci i uspešno nastavljen u Zagrebu i Nišu, kao puta boljeg medjunarodnog upoznavanja sa dostignu-čima i razmene tehničkih informacija izmedju stručnjaka zapada i istoka, te severa i juga Evrope. OPŠTE INFORMACIJE Savetovanje če se održati u prostorijama Gospodarskog razstavišča u Ljubljani od 8. - 10. maja o.g. Službeni jezici su svi jugoslavenski i engleski jezik. Svi domači referati če se prevoditi na engleski jezik. Savetovanje prati i izložba proizvoda, opreme i literature iz područja mikroelektronike. Savetovanje če predstavnik SR Slovenije zvanično otvoriti u sredu 8. maja u 9 sati, a zatvara se u petak, 10. maja u 18 sati. Zbornik referata če vam biti na raspolaganju u recepciji savetovanja na Gospodarskom razstavišču, koja če biti otvorena u utorak, 7. maja od 15 - 18 sati, a ostale dane savetovanja od 8 - 18 sati. DRUŠTVENI PROGRAM Vse udeležence posvetovanja vabimo na sprejem , ki bo v prostorih Gospodarskega razstavišča v sredo, 8. maja ob jq , 30 uri. V četrtek, 9. maja ob 20. uri bo v restavraciji Bellevue v Ljubljani tovariško srečanje z večerjo. Za vse udeležence, ki so vplačali Zbornik referatov, je večerja brezplačna. Za sve učesnike savetovanja održače se prijem u sredu, 8. maja o.g. u 19.30 sati u prostorijama Gospodarskog razstavišča. U četvrtak, 9. maja o.g. u 20 sati organizuje se u resto-ranu Bellevue u Ljubljani zajednička večera. Za sve učesnike sa plačenom kotizacijom, večera je besplatna. DAN DAY DVORANA HALL DOPOLDNE MORNING POPOLDNE AFTERNOON SREDA WEDNESDAY 08.05. A 00 OTVOR];TEV IN POZDRAVNI GOVORI OPENING AND WELLCOME ADDRESSES 14.00 - 16.30 Tehnolo9ija hibridnih vezij Technology of hybrid circuits „„ ™ Načrtovanje mon.in hibr.vezij 1 10.15 -12.30 . / . Design of mon.and hybr .circuits 1 17 00 - 18 00 "^"otogiJ3 monolitnih vezij 3 Techology of monolitic circuits 3 B , r- ^ ™ Materiali v mikroelektroniki 1 10.15 - 12.30 ., Materials m microelectronics 1 15 15 16 30 v ^ikroele^r00^ " Materials in microelectronics 2 17.00-19.00 S®"20^'1 in pretvorniki Sensors CETRTEK THURSDAY 09.05. A no nn o nn Modeliranje polprevodniških element. u / «uu i ¿-i»(jyj _ . r Device modeling 1° 15 13 30 ^a^rf-ovanje mon- in hibr. vezij 3 Design of mon. and hybr. circuits 3 B 10 15 12 12 Diskretnipoprevodniški elementi Semiconductor elements 1'' 15 13 30 Materiali v mikroelektroniki 3 Materials in microelectronics 3 PETEK FRIDAY 10.05. A Modeliranje polprevodniških procesov u / »uu 1 ¿i • yJ\J , i-.. Device modeling 14 00-16 30 Tehnolo9iJa monolitnih vezij 2 Technology of monolitic circuits 2 ZAKLJUČEK CLOSING B m „r- ^ Tehnologija monolitnih vezij 1 10.15 -11.45 J J . J , technology of monolitic circuits 1 15.15 - 16.45 Načrtovanje mon. in hibr.vezij 29 Sreda Wednesday PROGRAM - MIEL 85 PROGRAMME - MIEL 85 08. maja May 08 09.00 Otvoritev Opening Predsednik: President: Pozdravni govori : Wellcome adress: Dvorana A Hali I . Banič, Iskra Mikroelektronika, Ljubljana R. Ročak, predsednik SSESD Chairman of SSESD R. Faleskini, pomočnik predsednika, KPO, Iskra, Ljubljana Vice president, Iskra, Ljubljana E. Vrenko, predsednik Republiškega komiteja za raziskovalno dejavnost in tehnologijo, Ljubljana President of Republic Committee for R and D Technology, Ljubljana PODELITEV PRIZNANJ AWARDS Sekcija 1.0: NAČRTOVANJE MONOLITNIH IN HIBRIDNIH VEZIJ 1 Session 1.0: DESIGN OF MONOLITIC AND HYBRID CIRCUITS 1 Dvorana A Hali Otvoritev posvetovanja: Opening of Symposium: D. Raie Predsednik: Chairman: 10.00 UVODNI REFERAT: INVITED PAPER: H. Gruenbacher, AMI, Graz, Austria CUSTOM DESIGN OF VLSI CIRCUITS 11.00 ODMOR BREAK 11.15 L. Trontelj, J. Trontelj, S. Starešinič, J. Shenton, Jen Sun, Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana, Jugoslavija AVTOMATSKO NAČRTOVANJE FILTROV S-C. COMPUTER AIDED DESIGN OF S-C FILTERS 11.30 D. Hercog, J. Trontelj, Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana, Jugoslavija METODOLOGIJA NAČRTOVANJA DIGITALNIH INTEGRIRANIH VEZIJ A METHODOLOGY FOR DIGITAL INTEGRATED CIRCUIT DESIGN 11.45 L. Trontelj, J. Trontelj, T. Pleteršek, Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana, Jugoslavija HITRI ANALOGNO-DIGITALNI PRETVORNIK FAST ANALOGIJE TO DIGITAL CONVERTER 12.00 A. Erman, Ž. Lenardič, Iskra ISEZ, Ljubljana, Jugoslavija MALOŠUMNI OJAČEVALNIK Z GaAs FET-om ZA PODROČJE 7.1 DO 7.7 GHz LOW-NOISE GaAs FET AMPLIFIER IN 7.1 - 7.7 GHz RANGE 12.15 Ž. Lenardič, A. Erman, Iskra ISEZ, Ljubljana, Jugoslavija MIKROVALOVNI OSCILATOR Z DI ELEKTRIČNI M RE-SONATORJEM MICROWAVE OSCILATOR WITH DIELECTRIC RESONATOR 12.30 Gh. Constantinescu, A. Cracionescu, G. Ionita, Microelectrónica Bucharest, Romania A SWITCHED CAPACITOR IMPLEMENTATION OF A CMOS INTEGRATED DTMF TELEPHONE DIALER Sekcija 2.0: MATERIALI V M IKRO ELEKTRONI KI 1 Session 2.0: MATERIALS IN MICROELECTRONICS 1 Dvorana B Hali Predsednik : Chairman: D. Kolar 11.15 C. Cobianu, C. Pavelescu, A. Paunescu, Microelectrónica, Bucharest, Romania THE EFFECT OF DEPOSITION CONDITIONS ON THE REFRACTIVE INDEX OF THE LTCVD Si02 FILMS 11.30 A. Balasinski, K. Iniewski, A. Jakubowski, Institute of Electron Technology, Warszawa, Poland THE INFLUENCE OF CO-60 GAMMA RAYS ON MOS STRUCTURES 11.45 M. Duszak, A. Jakubowski, J. Szmidt, Institute of Electron Technology, University of Warszaw, Poland CONDUCTION CURRENT IN MIS STRUCTURES WITH THIN CARBON LAYERS FORMED BY THE PULSE-PLASMA METHOD 12.00 M. Mihaila, R-D Center for Semiconductors, Bucharest, Romania PHONON-ASSISTED RECOMBINATION: SOURCE OF 1/f NOISE 12.15 K.R. Murali, P.R. Vaya, J. Sobhanadri, Indian Institute of Technology, Madras, India GROWTH AND CHARACTERIZATION OF ZINC PHOSPHIDE FILMS PREPARED BY H WE TECHNIQUE 12.30 A. Buczkowski, S. Patela, J. Radojewski, Technical University of Wroclaw, Poland LUMINESCENT SOLAR CONCENTRATORS MADE OF NEODYNIUM AND NEODYNIUM CHROMIUM GLASSES 12.45 ODMOR BREAK Sekcija 3.0: TEHNOLOGIJA HIBRIDNIH VEZIJ Session 3.0: TECHNOLOGY OF HYBRID CIRCUITS Dvorana A Hall R. Krcmar Predsednik: Chairman: 14.00 POVABLJENI REFERAT: INVITED PAPER: R.F. Redemske, TELEDYNE MICROELECTRONICS, Los Angeles , USA 20 YEARS OF HYBRID PRODUCTION - PROBLEMS AND SOLUTIONS 30 15.00 ODMOR BREAK 15.15 P. Rahnev, Ph. Philippov, D. Parashkevov, Higher Institut for Electrical Engineering, Sofia, Bulgary QUALITY ANALYSIS OF THIN FILM RESISTORS ON ALN SUBSTRATES 15.30 A. Dziezdic, B.W. Licznerski, Technical University Wroclaw, Poland REFIRING PROCESSES IN THICK FILM RESISTORS BASED ON IRIDIUM COMPOUNDS 15.45 P. Rahnev, Ph. Pplipov, VMEI "LENIN", Sofia, Bulgaria 12 BITES MULTICHIP HYBRID DAC REALIZED BY THIN FILM TECHNOLOGY 16.00 F. Jan, *D. Belavic, M. Hrovat, ISKRA, Šentjernej, Institut J. Stefan, Ljubljana, Jugoslavija UPORABA KERAMIČNIH NOSILCEV TABLETK V HIBRIDNIH DEBELO PLASTNI H VEZJIH USE OF CERAMIC CHIP CARRIERS IN THICH-FILM HYBRID CIRCUITS 16.15 M. Hrovat, D. Ročak, *M. Gorišek, Institut J.Stefan, Ljubljana, Jugoslavija, *ISKRA TOZD HIPOT, Šentjernej, Jugoslavija STARANJE DEBELO PLASTNI H UPOROVNIH MATERIALOV PRI VIŠJIH TEMPERATURAH HIGH TEMPERATURE AGING OF THICK-FILM RESISTOR MATERIALS 16.30 M. Santo, MA. Divjak, ISKRA-IEZE Šentjernej, ISKRA Avtomatika, TOZD Naprave za energetiko, Ljubljana, Jugoslavija RAZISKAVA ZAHTEVNIH AKTIVNIH NIZKOPREPUST-NIH FILTROV V KONFIGURACIJI S FDNR INVESTIGATION OF HIGH PERFORMANCE ACTIVE LOW-PASS FILTERS IN CONFIGURATION WITH FDNR Sekcija 4.0: MATERIALI V MIKROELEKTRONIKI 2 Session 4.0: MATERIALS IN MICROELECTRONICS 2 Dvorana B Hall Predsednik : Chairman: M. Slokan 16.15 N. Bibič, M. Milosavljevič, T. Nenadovic, Institut B. Kidrič, Vinča, Jugoslavija, C. Jeynes, University of Surrey, Guildford Surrey, England EFEKTI NAGRIZANJA (100) Si NISKOENERGETSKIM JONI MA ARGONA EFFECTS OF LOW-ENERGY ION ETCHING OF (100) Si 16.30 M. Milosavljevič, Institut B. Kidrič, Vinča, Jugoslavija, C. Jeynes, I.H. Wilson, University of Surrey, Guildford Surrey, England EPITAKSIJA NAPARENIH AMORFNIH SLOJEVA SILI-CIJUMA U ČVRSTO J FAZI SOLID-STATE EPITAXY IN EVAPORATED AMORPHOUS SILICON 16.45 ODMOR BREAK Sekcija 5.0: TEHNOLOGIJA MONOLITNIH VEZIJ 3 Session 5.0: TECHNOLOGY OF MONOLITIC CIRCUITS 3 Dvorana A Hall Predsednik : Chairman: Z. Živič 15.15 M. Kamel Ahmed, University of Helwan, Cairo, Egypt ELECTRICAL PROPERTIES OF PROTON IMPLANTED N-TYPE AND P-TYPE GaAs LAYERS 15.30 A.P. Medvid, Y.B. Litaunieks, Rigas politehniskais instituts, Riga, USSR, Latvijas PSR MEASUREMENT OF A SEMICONDUCTOR'S RECOMBINATION PARAMETERS BY THE KINETICS OF PHOTOCONDUCTIVITY IN CROSSED ELECTRIC AND GRADIENT MAGNETIC FIELDS 15.45 D. Sachelarie, M. Stoica, A. Badoiu, M. Sachelarie, L. Diaconu, D. Ion, Research and Development Institute for Electronic Components, Bucharest, Romania EFFICIENCY OF TWO-STEP INTRINSIC GETTERING IN CZ SILICON 16.00 D. Sachelarie, M. Stoica, M. Sachelarie, M. Tazla-uanu, A. Diaconu, A. Visan, Research and Development Institute for Electronic Components, Bucharest, Romania DIFFUSION-INDUCED DISLOCATIONS IN SILICON 17.00 I. Sorli, M. Bizjak, M. Maček, M. Krajnc, Iskra Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija KONTROLA KONTAMINACIJE POVRŠINE SILICIJEVIH REZIN V PROIZVODNJI INTEGRIRANIH VEZIJ PARTICLE CONTAMINATION CONTROL OF SILICON WAFERS DURING PROCESSING 17.15 V. Božič, ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija VPLIV ELEKTRONSKEGA SNOPA NA DELOVANJE INTEGRIRANIH VEZIJ ELECTRON BEAM INFLUENCE ON THE PERFORMANCE OF INTEGRATED CIRCUITS 17.30 S. Dimitrijev, N. Stojadinovic, Elektronski fakultet, Niš, Jugoslavija INSTABILTY MECHANISMS OF CMOS INTEGRATED CIRCUITS 17.45 M. Pejovic, D. Zlatanovič, A. Živkovič, S. Golubo-vič, Elektronski fakultet, Niš, Jugoslavija PRI MENA NAGRIZANJA PLAZMOM U PROIZVODNJI INTEGRISANIH KOLA APPLICATION OF PLASMA ETCHING IN IC PRODUCTION 18.00 M. Bizjak, S. Koselj, ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija KARAKTERIZACIJA LPCVD POLY Si PROCESA CHARACTERIZATION OF LPCVD POLY-Si PROCESS 18.15 R. Osredkar, Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana, Jugoslavija RAZISKAVA FIZIKALNIH LASTNOSTI DI ELEKTRIČNIH OKSINITRIDNIH PLASTI CHARACTERIZATION OF LPCVD POLY-Si PROCESS Sekcija 6.0: SENZORJI IN PRETVORNIKI Session 6.0: SENSORS Dvorana B Hali Predsednik : Chairman: J. Furlan 31 17.00 A.H.M. Shousa, Cairo, Egypt INVESTIGATION OF THE SHORT - CIRCUIT PHOTO-CURRENTS IN AMORPHOUS p+ ~n n+ SOLAR CELLS 17.15 A. Bellauor, G. Sarrabayrouse, P. Rossel, Laboratoire d'Automatique et d'Analyses des Systems, Toulouse, France MOS TRANSISTOR FOR IONIZING RADIATION DOSIMETRY 17.30 R. Marienscu, G. Craciunescu, Microelectrónica, Bucharest, Romania ADVANCES ON SMALL AREA ION IMPLANTED PHOTOSENSORS: BIDIMENSIONAL MODEL AND UNIFORMITY CONTROL OF THE ION IMPLANTATION PROCESS 17.45 Gy. Pasztor, J. Berkecz, MEV - Budapest THE STRUCTURE AND HEAT DEPENDANCE OF SILICON SPREADINGS RESISTANCE TEMPERATURE SENSORS 18.00 M. Hrovat, *D. Belavič, S. Maček, ISKRA-IEZE TOZD HIPOT, Šentjernej, ^Institut J. Stefan, Ljubljana, Jugoslavija DEBELOPLASTNI MATERIALI ZA IZDELAVO SENZORJA TOPLOTNEGA PRETOKA THICK-FILM MATERIALS FOR HEAT FLUX SENSOR. 18.15 Lj. Pečic, Institut M. Pupin, Beograd, Jugoslavija VLAKNASTI OTPORNIK - NOVI MIKROSASZDEL FIBER RESISTOR - A NEW MICROSAZDEL 18.30 J. Berkecz, dr. K. Szentiday, dr. Gy. Pasztor, M. Forrai, MEV, Budapest, Hungary THE EXAMINATION OF THE OPTOELECTRONIC PARAMETERS OF THE SILICON PHOTOELEMENTS, IN THE LIGHT OF THE Si WAFER TECHNOLOGY 18.45 A.P. Medvid, A.P. Krivich, B.E. Prudents, Rigas politehniskais instituts, Riga, USSR Latvijas PSR MAGNETOSENSITI VE ELEMENT 19.00 G. Ionita, Microelectrónica, Bucharest, Romania SAW-MOS DEVICES AND INTEGRATED CIRCUITS Četrtek 09. maja Thursday May 09 Sekcija 7.0: MODELIRANJE POLPREVODNIŠKIi I ELEMENTOV Session 7.0: DEVICE MODELING Dvorana A Hall N. Stojadinovič Predsednik: Chairman: 09.00 POVABLJENI REFERAT: INVITED PAPER: M. Sever (Mock), The Hebrew University, Jerusalem, Israel RECENT DEVELOPMENTS OF NUMERICAL METHODS FOR STATIONARY DEVICE MODELING 10.00 ODMOR BREAK 10,15 O.L. El-Sayed, S. El-Ghazaly, Cairo University, Egypt, G. Salmer, Universite Sciences et Technique, Lille, France TWO-DIMENSIONAL SIMULATION OF GaAs INJECTION FET's 10.30 T. Pedron, G. Merckei, R. Basset, CNS/CCI/MDT, Meylan, France ACCUPATES CHARACTERIZATION AND MODELING OF SURFACE MOBILITY IN MICRON AND SUBMI-CRON MOSFET'S 10.45 S. Pantič, Ei - PP, Niš, V. Litovski, Elektronski fakultet, Niš, Jugoslavija PROGRAMSKA REALIZACIJA ELEKTRIČNOG MODELA MOS TRANZISTORA ZA OBLAST ZAKOČENJA REALIZATION OF MOS TRANSISTOR ELECTRICAL MODEL FOR THE SUBTHRESHOLD REGION 11.00 K. Belhaddad, A. Poncet, C NET, Meylan, France " JUPIN" A 2D FINITE ELEMENT DEVICE SIMULATOR 11.15 T. Pedron. C. Denat. G. Merckei, CNET/CNS,'Meylan, France EXTRACTION AND DISCUSSION OF MOS's DEVICE MODEL PARAMETERS FOR MICRON AND SUBMICRON STRUCTURES 11.30 A. Acovič, M. Dutoit, M. Ilegems, Swiss Federal Institute of Technology, Lausanne, Swiss DESIGN OF ION-IMPLANTED P-CHANNEL MOSFET FOR A LOW-POWER VLSI CMOS TECHNOLOGY 11.45 Z. Krivokapič , ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija P-CHANNEL TRANSISTORS FOR LOW- VOLTAGE CMOS PROCESS Sekcija 8.0: DISKRETNI POLPREVODNISKI ELEMENTI Session 8.0: SEMICONDUCTOR ELEMENTS Dvorana B Hali Predsednik : Chairman: F. Beravs 10.15 J.L. Sanches, M. Gharby, H. Tranduc, F. and P. Rossel, Laboratorie d'Automatique et d'Analyse des Systems, Tolouse, France MEDIUM VOLTAGE - 250 to 600 V - VDMOS TRANSISTORS WITH REDUCED INPUT CAPACITANCE 10.30 Y. Karafyllidis, E. Kriezis, Aristotelian University of Thessaloniki, P. Hagouel, Thessaloniki, Grece THE FC-FET (Fast Channel PET) 10.45 M. Kamel Ahmed, University of Helwan, Cairo, Egypt SUBSTRATE EFECTS ON THE CURRENT AND THE ELECTRICAL FIELD DISTRIBUTION OF AN UNGATED GaAs-FET 11.00 F. Gaiseanu, Centre1 for Semiconductors, Bucharest, Ro mania DIRECT CHARACTERISTIC OF THE GOLD DOPIÍD P+-N SILICON JUNCTIONS 11.15 M.Y. Ghannam, R.F. De Keersmaecker, R.P. Mertens , Katholieke Universiteit, Heveriee, Belgium A NEW METHOD FOR THE DETERMINATION OF THE BANDGAP NARKOWING 11.30 C. Gingu, I. Cernica, Microelectrónica, Bucharest, Romania THE EFFECT OF ANNEALING CONDITIONS ON THE THRESHOLD VOLTAGE OF MOS TRANSISTORS 32 11.45 I. Zolomy, Technical University of Budapest, Hungary NEGATIVE RESISTANCES IN THE SURFACE OXIDE TRANSISTOR (SOT) 12.00 ODMOR BREAK Sekcija 9.0: MATERIALI V MIKROELEKTRONIKI 3 Session 9.0: MATERIALS IN MICROELECTRONICS 3 Dvorana B Hall Predsednik : Chairman: A. Zalar 12.15 J.-M. Pratx, G. Merckel, CNET-CNS, Meylan, France CHARACTERIZATION AND SIMPLE MODELING OF D.C. LATCH-UP INCLUDING RESISTIVITY MODULATION EFFECTS 12.30 J. Furlan, S. Amon, *F. Smole, Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana, ISKRA, Polprevodniki, Trbovlje, Jugoslavija GENERACIJA IN REKOMBINACIJA V AMORFNEM SILICIJU GENERATION AND RECOMBINATION IN AMORPHOUS SILICON 12.45 Z. Ikonic, V. Milanovic, D. Tjapkin, Elektrotehni-čki fakultet, Beograd, Jugoslavija UTICAJ INDIREKTNIH MINIMUMA NA KONCENTRA -CIJU ELEKTRONA U GaAs-AlxGal-xAs SUPERREŠECI INFLUENCE OF INDIRECT MINIMA UPON THE ELECTRON CONCENTRATION IN GaAs-AlxGal-xAs SU-PERLATTICE 13.00 S. Muštra, N. Morovic, B. Mestnik, B. Praček, RIZ KOMEL, Tvornica poluvodiča, Zagreb KARAKTERIZ AC I JA TANKIH SLOJEVA ALUMINIJA NAPA REN IH U VAKUUMU CHARACTERIZATION OF VACUUM DEPOSITED ALUMINIUM FILMS 13.15 R. Loc, TOC Beograd, Jugoslavija, M. Golubovič, Ei-RO Fabrika poluprovodnika, Niš, Jugoslavija PRILAZ OBEZBEDJENJU NIVOA KVALITETA MIKRO-KOLA SA PRIMEROM IZ PRAKSE APPROACH FOR THE QUALITY ASSURANCE OF MICROCIRCUITS WITH A PRACTICAL EXAMPLE Sekcija 10.0: NAČRTOVANJE MONOLITNIH IN HIBRIDNIH VEZIJ 3 Session 10.0: DESIGN OF MONOLITIC AND HYBRID CIRCUITS 3 Dvorana A Hall Predsednik : Chairman: P. Stavanja 12.15 M. Miličevic, RO Ei-Poluptovodnici, Niš, Jugoslavija SOFTVER ZA RAZMEŠTAJ ČELI .JA U INTEGRISANOM KOLU SOFTWARE TOOLS FOR THE CELL PLACEMENT IN INTEGRATED CIRCUITS 12.30 V. Ružič, RIZ-KOMEL, OOUR Tvornica poluvodiča, Zagreb, Jugoslavija SISTEMSKO PROJEKTIRANJE BIPOLARNIH INTEGRIRANIH SKLOPOVA PO NARUDŽBI SYSTEM DESIGN OF CUSTOM BIPOLAR INTEGRATED CIRCUITS 12.45 M. Božič, T0 Pokrivač, RIZ-KOMEL. OOUR Tvornica poluvodiča, Zagreb, Jugoslavija, S. Ursič, R. Kon-čar, Zagreb, Jugoslavija PROJEKTIRANJE ANALOGNOG BIPOLARNOG INTEGRI-RANOG SKLOPA PO NARUDŽBI CUSTOM DESIGNED ANALOG BIPOLAR INTEGRATED CIRCUIT 13.00 Z. Stojanovič, Elektronski fakultet, Niš, Jugoslavija, V. Litovski, Ei RO Poluprovodnici, Niš, Jugoslavija MODELI ČELI J A L; LOGIČNOM SIMULATORIJ LOST CELL MODELING IN LOGIC SIMULATOR LOST 13.15 A.. Carapic, B. Jovanovic, Institut M. Pupin, Beograd, Jugoslavija RAČUNARSKO PROJEKTIRANJE HIBRIDNIH MIKRO-KOLA COMPUTER AIDED DESIGN OF HYBRID CIRCUITS Petek 10. maja Friday May 10 Sekcija 11.0: MODELIRANJE POLPREVODNIŠKIH TEHNOLOŠKIH PROCESOV Session 11.0: DEVICE MODELING Dvorana A Hali P. Biljanovič Predsednik: Chairman: 09.00 POVABLJENI REFERAT: INVITED PAPER: T, Arnborg, RIFA AB, Process Development, IC-Di-vision, S-163 81 Stockholm, Sweden NUMERICAL SIMULATION AS A TOOL FOR CIRCUIT PROCESS DEVELOPMENT 10.00 ODMOR BREAK 10.15 J. Vuillod, G. Pananakis, G. Kamarinos, Laborato-rie de Phisyque, Grenoble, France EFFECT OF TEMPERATURE ON THE CURENT-VOLTAGE CHARACTERISTICS OF MIS DEVICES WITH VERY ' THIN OXIDE THICKNESS 10.30 M. Koltai, Technical University, Budapest, S. Trutz, L. Lazar, Enterprise for Microelectronic, Budapest, Hungary TWO AND THREE DIMENSIONAL SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY SIMULATION 10.45 A.M. Asenov, E.N. Stefanov, B.Z. Antonov, P.K, Vitanov, Institut of Microelectronics, Sofia, Bulgaria IMPEDANCE: A TWO-DIMENSIONAL SIMULATOR OF MOS PROCESSES AND NON-PLANAR DEVICES 11.00 A. Gerdolle, S. Marin, CNET, Meylan, France, A. Marocco, INRIA, France TITAN, A 2D PROCESS SIMULATOR USING FINITE ELEMENT METHODE 11.15 S. Martin, D. Mathiot, CNET, Meylan, France OLIMP, A ID TOOL FOR IC's PROCESS SIMULATION BASED ON AN ACCURATE DIFFUSION MODEL 11.30 N. Guillemont, G. Pananakakis, Laboratorie P.C .S., Grenoble, France IMPROVEMENT OF THE TWO-DIMENSIONAL PROCESS SIMULATOR OSIRIS: SIMULTANEOUS DIFFUSION OF TWO IMPURITIES AND NEW ANALYTICAL MODEL OF THE "BIRD's BEAK" 33 11.45 B. Lojek, TESLA, Praga, CSSR THE FINITE ELEMENT SIMULATION IN VLSI PROCESS MODELING 12.00 J. Farre, A.M. el Mahdy, V.V. Pham, J.J. Simonne, Laboratoire d'Atomatique et d'Analyse des Systems, Toulouse Cedex, France PROCESS MODELING PF PLASMA-ENHANCED Si09 DEPOSITION ON InP Sekcija 12.0: TEHNOLOGIJA MONOLITNIH VEZIJ 1 Session 12.0: TECHNOLOGY OF MONOLITIC CIRCUITS 1 Dvorana B Hall Predsednik : Chairman: B. Zajc 10.15 R.B. Beck, B. Majkusiak, Institut of Electron Technology, Warsaw, Poland THE MODEL OF GROWTH KINETICS OF ULTRATHIN THERMAL SILICON OXIDE LAYER TRANSISTORS 10.30 Ovidiu Popa, Microelectrónica, Bucuresti, Romania MINORITY CARRIER LIFETIME MEASUREMENTS USING C-t TRANSIENT RESPONSE IN P+-N JUNCTIONS 10.45 H.J. Fischer , Zentrum für wissenschaftlichen Geratebau der AdW der DDR, Berlin NEW EQUIPMENT FOR SEMICONDUCTOR SURFACE AND PROCESS-CONTROL 11.00 M. HirSman, B. Kren, I. Šorli, V. Božič, ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija DIAGNOZA VEZIJ C MOS PROCESOV DIAGNOSTIC FOR C MOS CIRCUITS 11.15 M. Djokič, M. Damjanovič, VTI , Beograd, Jugoslavija, S. Rundič, TOC, Beograd, Jugoslavija PREDVIDJANJE RASTA POUZDANOSTI SILICIJUM-SKIH MIKROELEKTRONSKIH NAPRAVA RELIABILITY IMPROVEMENT OF SILICON MICROELECTRONIC CIRCUITS 11.30 A. Valko, Enterprise for Microelectronics, Budapest, A. Barna, P. Tutto, L. Gosztola, Researche Inštitut for Technical Physics, P.. Revesz, S. Sandor, Central Research Institut for Physics, Budapest, Hungary ELECTRICAL AND MORPHOLOGICAL INVESTIGATION OF POLY-POLY CAPACITOR STRUCTURES 12.00 ODMOR BREAK Sekcija 13.0: TEHNOLOGIJA MONOLITNIH VEZIJ 2 Session 13.0: TECHNOLOGY OF MONOLITIC CIRCUITS 2 Dvorana A Hall Predsednik : Chairman: 14.00 POVABLJENI REFERAT: INVITED PAPER: S. Amon 15.00 ODMOR BREAK 15.15 B. Navinšek, Institut J. Stefan, Ljubljana, Jugoslavija KARAKTERIZACIJA DIFUZIJSKE BAR I ERE TITANOVEGA NITRIDA (TiN) CHARACTERIZATION OF TiN AS A DIFFUSION BARRIER 15.30 M. Kranjc, M. Bizjak, S. Koselj, I. Šorli, ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija PRIMERJAVA MERILNIH METOD ZA DOLOČANJE KONCENTRACIJE FOSFORJA V FOSFOSILIKATNIH STEKLIH COMPARISON OF MEASUREMENT METHODS FOR THE DETERMINATION OF PHOSPHORUS CONTENTS IN PSG FILMS 15.45 M. Novak, T. Jagodic, ISKRA Mikroelektronika, Ljubi j ana 9 Jugoslavija OPTIMIRANJE PLAZEMSKEGA JEDKANJA POLIKRI-STALI NIČNEGA SILICIJA V PL A NA RNIH JEDKALNI-KIH PLASMA ETCHING OF POLYCBYSTALLINE SILICON 16.00 M. Maček, B. Kren, ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija PRIMERJAVA VISOKOTEMPERATURNIH POSTOPKOV Z VLAGANJEM IN IZVLAČEVANJEM REZIN NA DELOVNI OZIROMA ZNIŽANI TEMPERATURI 800°C HIGH TEMPERATURE TREATMENT WITH SLOW PULLING FROM THE FURNACE VS LOW TEMPERATURE PROCESSING OF SILICON WAFERS 16.15 I. Šorli, ISKRA Mikroelektronika, Ljubljana, Jugoslavija CMOS PROCES Z N OTOKOM ZA REALIZACIJO HITRIH VEZIJ N-WELL CMOS PROCESS FOR HIGH SPEED APPLICATIONS Sekcija 14.0: NAČRTOVANJE MONOLITNIH IN HIBRIDNIH VEZIJ 2 Session 14.0: DESIGN OF MONOLITIC AND HYBRID CIRCUITS 2 Dvorana B Hali Predsednik: Chairman: S. Ursic R.L. Anderson, University of Vermont, Burlington, Vermont, USA MOS VLSI AT LOW TEMPERATURES 15.15 El-Sayed Saad, Helwan University, Cairo, Egypt CIRCUITS FOR PULSE CODE MODULATION CONCENTRATORS WHICH CAN BE INTEGRATED 15.30 V. Croitoru, C. Gingu, M. Oprican, Polytechnic Institute of Bucharest, Romania A NEW CIRCUIT FOR TOUCH TELEPHONE KEYBOARDS -STRUCTURE , FUNCTIONAL FEATURES, DESIGN PROBLEMS 15,45 J. Bajkowski, A. Byrka, Institute of Electron Technology, Warszawa, Poland THE TTL-LS GATE-ARRAY-DESIGN AND ELECTRICAL PROPERTIES 16.00 J. Gondek, J. Caber, Institute of Electronics, Krakow, Poland NEW THICK-FILM SENSOR OF TEMPERATURE, HUMIDITY, GAS AND LIQUID PRESSURE AND VELOCITY OF FLOW 34 16.15 Gh. Constantinescu, G. Ionita, Microelectrónica, Bucharest, Romania A SWITCHED CAPACITOR IMPLEMENTATION OF A CMOS INTEGRATED DTMF TELEPHONE DIALER 16.30 D. Kostevc, J. Mlakar, L. Trontelj, Fakulteta za elektrotehniko, Ljubljana, Jugoslavija REALIZACIJA MALOŠUMNEGA OJAČEVALNIKA S TRANS I STO RJI FET REALIZATION LOW-NOISE FET TRANSISTOR AMPLIFIER 16.45 L. Golonka, Institute of Electron Technology, Wroclaw, S. Achmatowitz, D. Szymanski, Institute of Electron Material Technology, E.Litwin-Staszewska, T. Suski, High Pressure Research Center, Warsaw, Poland HIGH PRESSURE INVESTIGATION OF THICK FILM RESISTIVE MATERIAL ZAKLJUČEK POSVETOVANJA CLOSING OF SYMPOSIUM 17.30 Dvorana A Hall R. Ročak, predsednik SSESD Chairman of SSESD Pavle Tepina, dipl.ing. SSESD Ljubljana MIKROELEKTRONIKA NA MIPRO-85 V OPATIJ! Alojzij Keber Od 20. do 24. maja 1985 bo v Opatiji 8. Jugoslovanski seminar o uporabi mikroprocesorjev, 4. jugoslovansko posvetovanje o mikroprocesorskih sistemih ter posvetovanje "Stanje in razvoj mikroelektronike v SFRJ." Strokovna sekcija za elektronske sestavne dele, mikroelek-troniko in materiale sodeluje pri pripravi uvodnega seminarja o oblikovanju, projektiranju in uporabi MOS in CMOS mikroelektronskih vezij, ki bo od 20. do 22. maja 1985. Na seminarju bodo predavali predavatelji: - Prof. dr Petar Biljanovič (vodja) - Elektrotehnički fakul- tet, Zagreb - Prof. dr. Vančo Litovski - Elektronski fakultet, Niš - Doc. dr Miroslav Stojadinovič - Elektronski fakultet, Niš - Dr Rudi Ročak - Iskra-Mikroelektronika, Ljubljana - Mr Željko Butkovič - Elektrotehnički fakultet, Zagreb - Miodrag R. Miličevič, dipl.ing. - RO Ei Poluprovodnici, Niš Predvidene so naslednje teme seminarja: - Uvod - Planarna tehnologija na siliciju - tehnološki proces in simulacija procesa - Principi monolitne integracije in projektiranja MOS in CMOS vezij - Avtomatizirano projektiranje (CAD) - MOS in CMOS vezja v celoti ali delno po naročilu (full-custom in semi-custom design) - Pristop Iskre-Mikroelektronike k načrtovanju vezij po naročilu - Pristop Ei - Fabrike poluprovodnika k načrtovanju vezij po naročilu - Diskusija o možnosti projektiranja in izdelave MOS in CMOS mikroelektronskih vezij v naših pogojih. SSESD sodeluje tudi pri izvedbi posvetovanja o drugem delu študije o stanju in razvoju mikroelektronike v SFRJ. Tematika drugega dela študije temelji na razčlenitvi idej iz prvega dela študije ter na zaključkih prvega posvetovanja, ki je bilo organizirano od 22. do 23. maja 1984 ob priliki MIPRO-84 v Opatiji. Predloga z,a drugo posvetovanje o te- ' matiki stanja in razvoja mikroelektronike v SFRJ bo tekst povzetka drugega dela študije z naslovom "Predlog razvoja mikroelektronike v SFRJ". Tekst povzetka bo razdeljen-udeležencem na otvoritvi MIPRO-85 oziroma na otvoritvi samega posvetovanja. V besedilu povzetka bodo obdelane sledeče teme: - potrebni pogoji za razvoj domače mikroelektronike - vloga in odgovornost velikih potrošnikov in sistemov pri razvoju domače mikroelektronike - program razvoja tehnologij za mikroelektroniko - konkretni predlogi za zagotovitev pogojev za razvoj domače mikroelektronike - pričakovani rezultati razvoja domače mikroelektronike. Na osnovi razprave na drugem posvetovanju kot tudi pisanih materialov v okviru študije bo delovna skupina napisala končni tekst, ki bo predložen predsedništvu ETAN-a. Povzetek drugega dela Študije bo predstavljen v okviru prve plenarne teme na otvoritvi MIPRO-85 22. maja 1985. Delovno skupino za izdelavo študije sestavljajo priznani jugoslovanski strokovnjaki s področja mikroelektronike. Alojzij Keber, dipl.ing. SSESD Ljubljana 35 SIMPOZIJ SD-Rud Vabimo vas na XXI. JUGOSLOVANSKI SIMPOZIJ O ELEKTRONSKIH SESTAVNIH DELIH IN MATERIALIH SD - 85 ki ga prireja 7. in 8. oktobra 1985 Strokovna sekcija za elektronske sestavne dele, mikroelek-troniko in materiale (SSESD) pri Jugoslovanskem združenju za ETAN in Elektrotehniška zveza Slovenije ob razstavi SODOBNA ELEKTRONIKA 85 na Gospodarskem razstavišču v Ljubljani. Letošnji simpozij bo imel poudarek na obravnavi problematike: - površinska montaža elementov - uporaba diskretnih elementov in senzorjev Zato posebej vabimo strokovnjake s tega področja k sodelovanju. Prav tako se bo na simpoziju obravnavala problematika o-stalih elektronskih sestavnih delov in materialov: aktivni in pasivni sestavni deli, integrirana vezja, elektromehan-ski deli, pretvorniki fizikalnih veličin v električne, instrumenti, kabli in žice ter m a teriali, ki soj uporabljajo pri proizvodnji elektronskih sestavnih delov. Organizator si pridržuje pravico organizacije poster sekcije. Splošne informacije Za prijavo in oddajo referatov so predvideni naslednji roki: - prijava in kratka vsebina (najmanj 1 tipkana stran) do 30. aprila 1985 - potrditev 15. maj 1985 - referat do 31. avgusta 1985 - prijava udeležbe do 15. septembra 1985 Prosimo referente, da nam referate pošljejo najkasneje do 31. avgusta 1985. Tako nam bo mogoče natisniti Zbornik referatov še pred simpozijem. Prosimo, da prijavo za udeležbo z vplačano kotizacijo pošljete najkasneje do 15. septembra tega leta, ker vam sicer ne moremo zagotoviti prejem Zbornika referatov. Vse nadaljnje informacije daje: Elektrotehniška zveza Slovenije, 61000 Ljubljana, Titova 50, tel.: (061) 316-886. -85 V LJUBLJANI i Ročak Pozivamo vas na XXI. JUG OSLO VENSKI SIMPOZIJU M O ELEKTRONSKIM SASTAVNIM DELOVIMA I MATERIJALIMA SD - 85 kojeg organizuje 7. i 8. oktobra 1985 Stručna sekcija za elektronske sastavne delove, mikro-elektroniku i materijale (SSESD) Jugoslovenskog saveza za ETAN i Elektrotehniška zveza Slovenije prilikom izložbe SAVREMENA ELEKTRONIKA 85 na Gospodarskom razstavišču u Ljubljani. Na ovogodišnjem simpozijumu posebna pažnja bitče posvečena problematici: - površinska montaža elemenata - primena diskretnih elemenata i senzora Zbog toga posebno pozivamo na saradnju sve stručnjake tog područja. Na simpozijumu če se razmatrati i problematika ostalih elektronskih sastavnih delova: aktivni i pasivni, integri-sana kola, elektromehanički delovi, pretvarači fizikalnih veličina u električke, instrumenti i kablovi te materijali koji so upotrobljavaju z.a proizvodnji! elektronskih sastavnih delova. Organizator sebi uzima pravo da organizuje poster sekciju. Opšte informacije Za prijavu i predaju referata postavljeni su sledeči rokovi: - prijava i kratak sadržaj (najmanje 1 kucana stranica) do 30. aprila 1985 - potvrda 15. maj 1985 - referat do 31. avgusta 1985 - prijava učešča do 15. septembra 1985 Molimo referente, da nam pošalju referate najkasnije do 31. augusta 1985. Time če nam biti omogučeno odštampati Zbornik referata još pre simpozijuma. Molimo vas, da nam prijavu za učešče sa uplačenom koti-zacijom pošaljete najkasnije do 15. septembra ove godine. U suprotnom vam ne možemo garantovati prijem Zbornika referata. Sve ostale informacije daje: Elektrotehniška zveza Slovenije, 61000 Ljubljana, Titova 50, tel.: (061) 316-886. Predsednik SSESD: dr. Rudi ROČAK, dipl.ing. Predsednik SSESD: dr. Rudi ROČAK, dipl.ing. 36 Vljudno vas vabimo na seminar ameriške firme RCA, ki bo 21. maja 1985 v Cankarjevem domu v Ljubljani v sejni sobi 1 s pričetkom ob 8. uri. Seminar bosta vodila aplikacijska inženirja iz evropske centrale firme RCA Bruxelles, in sicer: g. L. Maréchal na temo "POWER-MOSFET'S, QMOS in SE-MICUSTOMS" g. R. Boon na temo "LSI CÔMPONENTS" ter prodajni inženir iz munchenske filiale RCA g. R. Goettig na temo "LINEAR, BIMOS" SEMINAR RCA Alojz Gačnik Uljudnovas pozivamo na seminar američke firme RCA ko-ji če se održati 23. maja 1985 u hotelu Jugoslavija u Beogradu sa početkom u 8 sati. Seminar če voditi dvojica aplikacionih inženjera iz evropske centrale firme RCA Bruxelles i to: g. L. Maréchal iz tematike "POWER-MOSFET'S, QMOS i SEMICUSTOMS" g. R. Boon iz tematike "LSI COMPONENTS" te prodajni inženjer iz miinchensko filiale RCA g. R. Goettig iz tematike "LINEAR, BIMOS" Predavanja na seminarju bodo v angleščini brez prevajanja in bodo trajala do 14.30 ure. Za tem je predviden čas za razpravo. Obveščamo vas, da lahko pošljete vnaprej pripravljena vprašanja iz področij, ki bodo obravnavana na seminarju, na naš naslov skupaj s prijavnico za udeležbo na seminarju . Zaradi izjemno visokih stroškov pri organizaciji seminarja znaša kotizacija 500,00 dinarjev. Zato vas vljudno prosimo, da se za seminar prijavite najkasneje do 30. aprila 1985 na naslov: Avtotehna Ljubljana, Sektor birotehnike, OE 1117, Celovška 175, 61000 Ljubljana. S prijavnico pošljite tudi dokazilo o plačani kotizaciji - peto kopijo virmana. Znesek 500,00 din nakažite na naš žiro račun št. : 50104-601-27931, z oznako namena nakazila. Predavanja na seminaru če biti na engleskom jeziku bez prevodjenja. Trajati če do 14.30 sati. Posle toga predvidje-no je vreme za diskusiju. Obaveštavamo vas da možete u-napred pripremljena pitanja iz tematike koja je predmet predavanja na seminaru poslati na našu adresu, zajedno sa prijavnicom za učestvoi'anje na seminaru. Zbog vrlo visokih troškova kod organizacije ovog semina-ra, uvodimo participaciju od 500,00 dinara po osobi. Zato vas molimo da se za seminar prijavite najkasnije do 30. aprila 1985 na adresu: Avtotehna Ljubljana, Sektor birotehnike, OE .1117, Celovška 175, 61000 Ljubljana. Zajedno sa prijavnicom pošaljite nam i dokaz o plačenoj participaciji - peti dio virmana. Iznos din 500,00 uplatite na naš žiro račun br. 50104-601-27931, sa oznakom svrhe uplate. Avstrijsko-Stajerski tehnološko-svetovalni center in Gra-ški sejem prirejata v dnevih od srede 12. do petka 14. ju ni j a 1985 v Grazu strokovni sejem in simpozije TECHNOVA 85 Prireditelji želijo prikazati neve tehnologije v izdelkih in v proizvodnji, v marketingu in v inovacijah s ciljem, da bi se pričeli dogovori o kooperacijah, okrepili kontakti med proizvajalci ter poiskale možnosti za pospeševanje inova-tivnih dejavnosti. Obravnavane tematike TECHNOVE '85: Mikroelektronika v izdelku in v proizvodnji - Naprave in sistemi za prenos vseh informacij - Naprave in sistemi za avtomatizacijo - Sistemi procesno-računske tehnike - Uporaba mikroračunalnikov in mikroprocesorjev - Optoekektronika - Elektronski sestavni doli vključno s senzorji TECHNOVA '85 — INOVACIJE — ELEKTRONIKA — MARKETING Radislav Lebar Moderne tehnologije v proizvodnji - NC/CNC elektronsko krmiljeni obdelovalni stroji - z računalniki krmiljene proizvodnje - računalniško podprto konstruiranje in proizvajanje (CAD, CAM) - laserska tehnologija - varilna tehnologija Merilna in regulacijska tehnika - merjenje, regulacija, krmiljenje, kontrola - zagotavljanje in kontrola kvalitete - merilni instrumenti, laboratorijska tehnika, proizvodno merilna tehnika Sejem bodo spremljali simpoziji, ki bodo obravnavali pospeševanje novih tehnologij in inovacij. Na razstavo je vstop prost. Informacije: Grazer Messe Radislav Lebar 62000 Maribor, Gosposvetska 19 b Tel.: (062) 24-582 37 RO KOMEL TVORNICA POLUVODIČA ZAGREB, Kraljevičeva bb, Pošt. pretinac 663 Tel.: 215-155, 215-607, telex: 21-859 PROIZVODNJA SPOJNIH FET-ova (JFET) U TVORNICI POLUVODIČA JFET je mikroelektronički diskretni element specifičnih svoj stava. Mada se u mikroelektronici ne koristi masovno, u pojedinim primje-nama, njegove su funkcije nezamjenjive. Specifične primjene jesu: - Niskofrekventna predpojačala s malim šumom i visokim ulaznim otporom, - pojačala logaritamskih i sličnih karakteristika, -- stupnjevi miješanja u normalnom i balansnom spoju s niskom intermodulacijom, - chopper-ska pojačala. U zadnje vrijeme se u nekoj od tih primjena upotrebljavaju i MOS FET-ovi, no spojni FET-ovi imaju šire temperaturno područje rada i vecu imunost na zračenje i slične vanjske utjecaje. RIZ Tvornica poluvodiča dovršila je prije nekoliko godina razvoj više familija JFET-a. Značajno je napomenuti da je taj razvoj izvršen samostalno, tehnologijom koja je razvijena u Tvornici poluvodiča.* Sada su ti tipovi JFET-a u proizvodnji i mogu se normalno naručivati. Kako se radi o specijalnim produktima potrebno je do-voljno unaprijed (nekoliko mjeseci), uputiti zahtjev kad se radi o vecim količinama. Navedeni su tipovi JFET~a prema JEDEC registraciji, odnosno prema registraciji firme SILICONIX, koja je na tom području jedna od najjačih u svijetu, a čije ekvivalente Tvornica poluvodiča ima u proizvodnom programu. * I.Gložinic, Z.Bendekovič: "Realizacija kvazisimetričnog difuzio-nog profila i njegova primjena u proizvodnji JFET-a". Zbornik referata X Jugoslavenskog savjetovanja MIEL '82. Banja Luka, (269-275) 38 Osnovni tip 2N 42'2'OA 2N 4221A 2N 4222A 2N 5556 2N 5557 2N 5558 2N 3819 2N 3823 2N 4223 2N 4224 2N 3824 2N 3821 2N 3822 2N 4220 2N 4221 2N 4222 2N 5457 2N 5458 2N 5459 Osnovni tip J 111 J 111-18 J 112 J 112-18 J 113 J 113-18 PN 4391 PN 4391-18 PN 4392 PN 4392-18 PN 4393 PN 4393-18 U 201 U 202 U 1897 U 1897-18 U 1898 U 1898-18 U 1899 U 1899-18 2N 5564 2N 5565 2N 5566 Osnovni tip 2N 3S70 2N 3971 2N 3972 2N 4091 2N 4092 2N 4093 2N 4391 2N 4392 2N 4393 2N 4856 2N 4856A 2N 4857 2N 4857A 2N 4858 2N 4858A 2N 4859 2N 4859A 2N 4860 2N 4860A 2N 4861 2N 4861A 5638 2N 5639 2N 5640 2N 5653 2N 5654 Osnovni tip 2N 5018 2N 5019 2N 5114 2N 5115 2N 5116 J 270-18 J 270 J 271 J 174 J 174-18 J 175 J 175-18 J 176 J 176-18 J 177 J 177-18 P 1086 P 1086-18 P 1087 P 1087-18 U 304 U 305 U 306 U Tvornici se planira da se ove godine razvoj proširi na još nekoliko familija JFET-a, tako da bi nakon završetka tog razvoja bili usvojeni gotovo svi tipovi koj i su standardni u svijetu. 39