10
januar 1986
GLASILO DRUŠTVA ZA VAKUUMSKO TEHNIKO SLOVENIJE
VSEBINA
-	Antirefleksna pokritja
-	Vakuumsko dlfuzij^iko kromanje itiehkega železa za releje
-	Seja Izvrineija ocftora JUVAK
-	Vakuumski te&aj v novembru
-	tUVSTA v Üeörecenu
-	TreCji skupni vakuurreki kortjres Madžarske, Avstrije- In Jugoslavije
•	Colloquium spectroacopikum Internationale
-	Prva evropska konferenca o uporabi metod za analizo površin
-	Visokovakuumski sistem tip VVS-6} Multivak
-	Koledar po memo niti vakuuniskih prireditev
•	In mernoriam: Karlo Gratiek
-	Kratke novice
ANTIREFLEKSNA POKRITJA
1.	IZVLEČEK
Delo otiravnava dielektrična antirefleksna pokritja za vidni del EM spektra. Opisani so enosloji«, dvoslojno ter tri in večsloj-no antirefleksno pokritje. V bkri-Center za elektraoptiko delamo vse nalcete vrste AR pokritja. Podani so teoretični izra-čuni in praktični izinerki teh pokritij. Ujemanje teorije s prak-so je dobro.
2.	UVOD
Vsakokrat, ko svetiotia "prestopi" mejo dveh sredstev, ki imata različen lomni količnik (na primer meja zrak - sleklo pri leči).
se nekaj svetlooe odbije. PropiJst<x)3t optične KoiTiponente je zato veJno manjša od ena (T 1), čeprav aDsorpcije v Jeliinern delu spektra ni. i^rupustnost ßK-7 stekla je	SF-i3 ste<ia
pa saino dSi. Uptičnl sistem vsetuje več opličnjh <n:npocient, tako da |e skupna traremisija lahko zelo majhna. L/ei odoite svetlobe od različnih površin tudi lahko doseže fokosno ravnino. To donimo narcis, ki zmani^a «ontrasi slike.	naitetecja
moramo zmanjiatl odOul svattoOe na puvrširidti optičnih komponent nekega sistema. To naredimo s t^koImenovanimi o.JtJojni-mi (antlrefleksniml) pokritji. Pokritja so Uhko ercslojna z od-□ojnostjo R J za eno vdlovno dolZIno, ali -Jvo In veC .lojna, ki iinajo R s O oziroma H iJ na večjefn valovnem ohriX)čJu. Sloji so Iz dlelektričnih neabsorptivnih materialov ( k J). Ločimo

AR pokritja za podloge - substrate z rtfzklm lomnim koliinll<om (n od 1,5 cto 1,9) in 2 vlsokitn lomnim koliSnikom (i\ ^ i), pokritla obsegajo bilinji ultravijolični (NUV), vidni in bli<n)i Infrardeči (NIR) del spektra, dri^a pokritja pa infrardeči (IR) del spektra. Razlika med obema vrstama pokritij je v tem, ds v prvem primeru zmanjšujemo odbojnost površine z nekaj % (4% - Si) na manj kot 0,5%; v drugem primeru pa s 30% in več na lit do 2 t. V nadaljevanju se bomo omejili na AR pokritja za materiale z n od 1,5 do 1,75.
J. ENOSLOJNA POKRITJA (1)
terima Jobimo oobojnost K s U, za eno valovno doliiixj za substrate z n^ I,d2. Enosiojni AR je kompromis med obstojnitn trdim pokritjem in nizko odbojnostjo.
Odbojnost steklene dieiektrične površine za normalni vpad sve* t lobe je
R =
(n . n )' * o s
(n ^ n )' o s
SI.i.: V-AK, izračunane refleksije na podloji n^ - l,id 7 n| -. I ,V) in n| 2 1,5il
Hq je lomni količnik vhodnega sredstva (običajno zrak), n^ pa lomni količnik izhodnega sredstva (steklo).
Odbojnost Oielektrične površine z enoslojnlm pokritjem, ki ima lomni količnik nj, je (velja za poljubni vpad):
R s
ajCos'	* a2Sin'
ajcos' J-, * a^sln' ^^
kjer so: a, = (n^ - n^)'
aj = (n^
a^ = {"I

In
2frn,t,
'-X-
; je debelina sloja
Ce je n,t[ '	"^l °	•
Odbojnost je v tem primeru	enaka odbojnosti ^ole površine. Ce je nj t| = —^t —^ itd., je odbojnost ali minimalna ali maksimalna
(n', - n^n^)'


kjer je m Uho število. Ns zanimajo samo minimumi, ki jih dobimo, ko je ^	^g	^^^ '^o 1, n^ s I, velja drugi pogoj. Odbojnost je nič R s O, ko je

1/2
i. UVÜSLOJNA POKRITJA (4)
HAosloji« pOKrltje je "boljše" od enosiojnega, «er lahko i razpoložljivimi materiali ozlrama kninCinacijo c)veh macerialov Jobimo odbojnost R = O za eno valovno dolJino tuoi za substrate z n l.äZ. Karakteristična matrika je zmnožek posameznih ina-trlk slojev v pravilnem vrstnem redu:
('•sin 6[)	p. (i-sin J^J '	" ■■
I
I rij cT,
•i
J",
cos C
'2
i n^J^
.cT,
•I i
J
B
kjer je n^ lomni količnik substrata, n^ lomni količnik prvBja sloja, n| lomni količnik drugega sloja in S^ = i'iT
Pogoj za odbojnost r : j je, da je optična admitarvra y enaka lomnemu količniku vhodneya sredstva (običajno zrak).
cl
Y =
= n^
L'^J
Realni In imaginarni del Izenačimo posebej, i nekaj matematičnimi operacijami pridemo 00 dveh kvadratnih ennCb za i.
in norarno or^ivilno sestavi-
In tj. Uobljene vrednosti za tj
ti (t rešitev prve in - rešitev druge enačbe), da dobimo Jsa para rešitev za debelini, ki data odbojnost nič (R ^ 0) za valovno öol?irc X.
Večina optičnih materialov, ki [ih običajno uporabljamo v NUV, vidnem in NIR delu spektra, ima lomni količnik n^ med 1,5 in 1,75 (2). Da dobimo odbojnost R » O za določeno valovno dol-Jlno moramo napariti debelino m (m je Uho število) in lomnim količnikom n^ 1,22 in 1.50 (če je n^ = I - zrak) Materialov za naparevanje s temi lonviimi količniki ni (3). Cb-stojata materiala 2 ion-inim količnikom n^ s 1,35 in 1,38, s ka-
Dvoslojno AR pokritje je zelo ozko in ga prantično uporabljamo v optičnih sistemih lam, kjer 2elirno dobro propustnost le zaeno valovno dolžino (laserji). Teoretična rešitev je dokaj enostavna. Težave nastanejo ori praktični izvedbi - odstopanje .jijonieirij-skih debelin slojiA od izračunanih, neujernanje loiimih količnikov s teoretičnimi vrednostmi. Rešujemo jih na razne načine (5, 6). Na sliki 2 vidimo V-AR narejen v Iskri CEÜ.
R I%1
?-
800
I 1 iiiril
SI.2.: V-AR 1,06 ^m na steklu rij = 1,52 z materialom n^ = 1,97 in rij » 1,46
500	500	700 AI fir 1 BOO
51.5.: Širokopasovni antlrefleks (B-AR) oJ 4bi] mn do 65Ü nm; podloga n^ = 1,'>2, materiali nj = 1/Jl, n^ = 2,06 in
nj - i.Ja.
računamo s Sneilovim zakonom:
N sin 9. f N sin d o 0 r r
5. TRISLOJNA IN n-SLOJNA POKRITJA
Ce ielinx) nlzko odbojnost na širšem intervalu valovnih iloI2ln,j8 potrebno dvoslojnemu pokritju dodali enega ali več slojev. V primeru, da dodamo en sloj z lomnim kaiičnikom n^, ki je med lomnima količnikoma n^ In r\2, doDimo trislojno AR pokritje z odbojnostjo enako nič (R s 0) pri clveh valovnih dolžinah A.^ in A^. Debelini dvoslojnlka je treOa spremeniti (7, 8, 9, ID). Na sliki } vidimo trislojno širokopasovni AR (B-AR) ta vidni del EM spektra, narejen v Iskri CEO.
Z malo Jaljšim računom dobimo iiraz za oiÄojnost R (4)
(n^ = 1 - zrak)
R =
(d-C) (d-C)"
Hiter izračun lastnostni n-slojnika (debeline slojev z danimi lomnimi količniki, odDojnost pokrltj.i Z3 različne valovne dolžine) je možen le i računalnikoin. V literaturi Je problem oblikovanja In optimlzlranja večslojnin pokritij doOro obdelan (II, 12, 13, 14, 13), MoKna sla dva načina pristopa (16, 17, Id):
Karakteristična matrika tri oziroma n-slojnika je (4) (n je celo število 3)
n
r
r=l
kjer je rf, =
(i sin
1	n^ sin cos
2	IT l^r 'r ®r
A
"f = N^ cos cTp za s polarizacijo

I.	Analitska obdelava, s Katero pridemo do začetne oblike pokritja. Nato numerično obdelamo - optimiziranio lieoeline slojev.
II.	Iterativna metoda. Izoeremo prlbliJek za ieler» po<critje. fsa-to računamo občutljivost odbojnosti na spremeiT^bo aeDelin in lomnih količnikov slojev pri valovnin ooižinah. Na podisgi izračunov spremenin« vrednosti debelin In lomnih Količnikov, če se Izkaže, da doDimo t»l|li priOllžeK. To delamo taKO dolgo, da smo zadovoljni s kvaliteto rešitve oziroma, doKler ni več opaziti izboljšave rešitve.
n = r
cos cT^
za p polarizacijo
N^ je lomni količnik r-tega sloja.	je lomni količnik pod-
loge. Ce Imamo podan vpadni kot lahka vrednosti za tJ^ iz-
S pomočjo obeh načinov smo v Iskri CEO izselali "design" tren vrst AK pokritij, ki jili uporabljamo v prnizvoJufi namene:
A) Širokopasovno AR pokritje (t!-AR) od 45Q nm do 650 nm z R<:a,5-]t (glej sliko 4)
RM 3-
SI.4.: H-AR ( -praktični Izmerek,
-----teoretična krivulja)
450
500
550
'600
650

700	750	BDO Mm]
SI.5.: D-AR (-praktični limerek,-----teoretična Krivulja)
1200
SI.6.: SB-AR (-praktični izmerek,-----teoretična krivulja)
Q too 500 600 700 BOO 900 1000 1100 1200 Hnm)
B)	IDuaiin AR pokritje (Ü-AR) z R < 0,5% oa 45D nm c3o 65Q nm in pri i06a nm (glej sliko 5)
C)	Super äiroko AR pokritje {Si3-AR) r R < 1% od 450 nm do ilUO nm (glej sliko 6).
V «eh treh primerih gre ja rešitve z več kot tremi sloji in s trenil materlall z lomnimi količniki nj = 2,32, n^ = 1,46 in Hj s 1,38. Reiitve so stabilne, kar pomeni, da rezultat (velikost odbojnosti R za posamezne vakivne dolžine) ni občutljiv na n^ajhne" spremembe geornetrljsklh debelin slojev in lomnih količnikov posameznih materialov.
Vsa pokritja so narejena za normalni vpad svetlobe (9 s 0°) in podkige z lomnimi količniki od 1,5 do 1,75. Sloji so neabsorp-tivnl in trdi. Odgovarjajo naslednjim standardatn:
a)	vlažnost	MIL-C-675C in MiL-C-4öft97
b)	adhezija:	M1L-C-675C in MIL-C-48497
c)	^razija z gumo:	M1L-C-675C in MlL-C-43497
d)	kemična odpornost: M1L-C-675C in MIL-C-48<i97
e)	temperaturno cikliranje: M1L-M-1J508C
Na slikah 4, 5, 6 vidimo praktično dobljene oaboji>3sti za posamezna pokritja. Opazin^ manjSa odstopanja izmerjenih odbojnosti od izračunanih. Praktični rezultat je sl^ii od teoretičnega zaradi ne dovolj natančnega merjenjega geometrijskih aebelin slojev s kvarčnim kristalom in ne dovolj dobrega poznavanja lomnih količnikov materialov med samim procesom nastajanja pokritja. Vsekakor je ujemanje praktičnih rezultatov s teoretičnimi Izračuni dobro,
6. ZAKLJUČEK
Površinski odboj lahko teoretično zmanjšamo na nič le za nekaj diskretnih valovnih dolžin. Praktično niti to ni mogoče Mseči. Za ponovljivost procesa so važni začetni pogoji (vakuum, temperatura sistema, priprava materialov), kvaliteta podloge -substrata ter poznavanje vrednosti lomnih količnikov In geometrijskih debelin slojev med nastajanjem pokritja. Največji problem je poznavanje točnih vrednosti lomnih količnikov ter natan-
čno merjenje geometrijskih debelin s kvarčnim merilcem. Težave rešujemo z optičnim merilcem, kjer imarro sprotno ir>!ofiiia-
cljo o optični debelini siola. Za končni rezultat je pomembno, da se optične debeline ujemajo 2 izračunanimi. V lsl<ri CEÜ smo probleme proizvodnje AR slojev uspešno rešili. Rezuitdt so AR pokritja, ki s svojo kvaliteto dosegajo ravsn svetovnih proizvajalcev,
LITERATURA
(I) Summer Couree In Modem Methods of Optical Design, Summer 1963, The Institute of Critics, University of Rochester Schottov katalog št. 3050 in 3060/72 Balzersov katalog: Aufdampg- und Zerstaubungsmaterialen, Verdamspfungsq uelen, Ausgabe 64/86
H.A.Macl_eod, Thin Film Cfctical l=^liters, Adam Hllger Ltd., London 1969
CJ.van der Laan In HJ.Frankena, Production of High Cjua-llty V-Coatings, Applied Optics, August I9d2, Vol.2i, No.!5 J.Mouchart, J.Begel In S.CIialot, Thin Film Optical Coatings 7: Two-Layer Coating close to An tire flee tio n, Applied Optics, April 1979. Vol. 18, ö
J.Mouchart, Thin Film Optical Coalings, 5: Two-Waveiemjlh Antlreflectlon Coatings, Applied Uptics, November 1977 J.Mouchart, Thin Film Optical Coatings, 6: Design Method for two given Wavenlength Antlreflectlon Coatings, Applied Optics, May 1978, Vol. 17, Nto.9 J.Mouchart, Thin Film Optical Coatings, 2: Three-Layer Antlreflectlon Coating Theory, Applied Optics, October 1977, Vol. 16, rvio. 10
(2)
(3)
(4)
(5)
(6)
(7)
(a)
(9)
(10)	Sun Wei-Ren, A Superior üroatJOand AK Coating, uptlcal Spectra, July 1930
(11)	Proceedings of SPiE, Thin Film Technologies, Volume <iQI, April 1993
(12)	J.Mouchart, Thin Film Optical Coatings, 4; Multilayer Antlreflectlon Coatings, Applied OpUos, December 1977, Vol. 16, No. 12
(13)	C.L.Nagendra In G.K.M.Thutup3Ü, Three-Layer Antireflec-tion Coatings: A new l^lethod lor Design and Optimization, /^plied Optics, Oecember I9d3, Voi. 22,
(14)	K.Raöinovitch in A.Pagis, Multilayer Antlreflectlon Coatings: Theoretical Model and Design Parameters, Applied Cities, June 1975, Vol. 14, No.6
(15)	K.Rabinovitcn In M.Orucker, Parameters for Optimization of Multilayer Antireflection Coatings, Applied Optics, February 1979, Vol. Id, N0.4
(16)	J. A. Uo brow o Is k 1 in S.H.C.PiotrowsKi, Refractive Index as a Variable in the Numerical Design of Optical Thin Film Sy-Slerrs, Applierl C<)lics, April I9ti2, Vol. 21, Nii.d
(17)	J.A.iJoörowolski , l.unipletely A.itoniatic Syntlii>,is of Hi-ticai Thin Film Systeirs, Applied Uptics, Adjust 1965, Vol. 4, NO.0
(10) J.F.Tang, Automatic Design of Optical Thin Film S/sterrs - Merit Function and f-ijmerical C^itimization Method, J, Opt. Soc. Am., November 1982, Vol. 72, No.99
Andrej uemäar, Jipi.inj.
ISKra CtU, LjuBlians
VAKUUMSKO DIFUZUSKO KROMIRAhUE MEHKEGA 2ELEZA ZA f^LEJE
L UVOD
Raziskali in osvojili smo tehnologijo vakuumskega dlfuzljskega kromlranja za zaSčlto delov 2elezneqa magnetnega kroga her-ntetičnih relejev. Najvažnejša prednost nove tehnologije je, da z enim samim postopkom dobimo dobre magnetne lastnosti, dobro površinsko trdoto, dobro varivost In veliko korozijsko obstojnost.
Difuzljsko kromiranje je proces, ki temelji na difuzijskem na-slčenju površinske plasti kovine s kroniom. Pri visoki temperaturi nastane plinska faza, ki vsebuje atome Cr, kateri se absorbirajo na povrSIni ieleza In nato difundlrajo v notranjost. Najbolj znani so postopki v trdnem s halogenidl.
Vakuurrsko difuzljsko kromlranje pa temelji na sorazmerno visokem parnem tlaku kroma, ki je pri temperaturi nad lOOO^C
približno lOO-krat večji od parnega tia^a železa. Parni tlak kroma znaša pri 1000 °C okoli 10 mbar, pri 1200 °C pa 10'^mbar; parni tlak železa je pri IOOO°C lO'^moar, In pri 12D0°C la'^'mbar.
Cisto železo se pri 9iO°C trarsformira iz alfa v gama irodifi-kacijo; iz ferita nastane avstenit. Ker poteka difuzijsko kromi-ranje pri višjih temperaturah, je železo v začetku postopka v gama modifikaciji. Na si. ! je binarni sistem Fe-Cr, ki kaže, da povečanje kroma zapira področje gama Železa med 910° in 1400°C. Med 12-13% Cr je zanka, ki omejuje gama področje, zaprta in zlitine z več kot 13% Cr so feritne od sobne temperature do tališča.
Ferit se pri difuzijskem kromlranju začne tvoriti, ko količina Cr na povrJini preseže IJ'i. NaOaijevaiiie difuiljsKöqa Kronii-rnnj.i pvozrof.j pomikanje meje alfa-natDa v rwtranjosl. Pri
ohlajevanju ostane feritna struktura kromirane povrSine plasti nespremenjena, avstenitna struktura notranjosti pa se spremeni v feritno. Prek ris ta I iz sc I Ja notranjega področja i manj kot 13% Cr povzroCi, da |e pri metakigrafskem pregledu nteja s 1}% cto-bro vläna. Globino, v kateri je ta meja 12% Cr, smo prevzeli kot globino difjzijskega kromiranja.
Difuzija krornoviti atorrxiv v alfa kristalni rnreü je mno<jo hl-trejSa kot v gama mreži. To pripomore k večjemu kopičenju kroma v feritni plasti In večjem premikanju al<a-gama me|e v notranjost. Za (o mejo je v gama mreži padec koncentracije Cr zelo hiter.
/al"- j C-10 20 '30 «O SO iO K aö
Cr ■%
SI. 1.: Fazni diagram Fe-Cr
«01- \
O.bs 00 D« Raždalja od oovrš.
51.2.: Koncentracija Cr v difuzijsko kromirani plasti čistega Fe v odvisnosti od razdalje od površine.
Količina krama na površini in s tem velikost gradienta kroma od povrSine do 13% Cr je odvisna v največji meri od koncentracije Cr atomov na povrSInl in od difuzije kroma skozi plast stabilnega ferlta - skozi debelino difuzijske plasti.
IL EKSPERIMENTALNI OEL
Vzorčne železne kose smo zasuli s čistim kroniom granulacije 100-i90 ^m in termično obdelali v vakuumski peči; pri vakuumu 1.10"^ do 1.10"^ iTOar in temperaturah 950°, 1000°, 1050°, 1100° in 1150°C ter različnih časih 3, d in 12 ur. Vzorčne ploščice 20 X 50 mm so bile različnih deQelin od 0,25 do 1,4 mm.
Globino kromirane plasti sff« merili metaiogratsko tia prečnem preseku vzorcev. Kot smo Je omenili, je ta jiobina nieja s 13% Cr. Koncentracijski profil kroma v kromovi plasti smo določali z elektronskim mikroanaiizatorjem Jeol JSM-35.
Potek trJnte od povrSine navznoter smo merili po Vickersovern postopku z obremenitvami 100 graniov.
Od magnetnih lastnosti srno kontrnlir.^ii le koercUivno silo s koercimetrom Metrix. Za ugotavljanje orJpornusti kromiranih delov proti koroziji smo uporabili korozijske teste z üeionizi-rano vooo, s solno kislino, z <1olgotrajno vla^o, hiter test z vlago in Cest s slano vlago.
III. REZULTATI RAZISKAV
A. VPLIV ČASA IN TEMPERATURE
V	diagramu ia je prikazana globina difuzijske Kromirane plüsti v odvisnosti od časa difuzije za temperature 1000, lOSO, 1100 in 115U°C.
V	diagramu JO, ki je doDljan iz meritev v 3a, je prik^ana globina difuzijske kromirane olasti v odvisnosti nd temperature za čase: 3, d in 12 ur.
O 2 4 _ 6 8 10 '2 UgsO !000 1050 1100 UbO Čas v uroft Temperatura v °C C)_d)
O 20 io SO 30 m 0,2 n.4 a« QB I,O ic
nebelma di/ plasti(~'3%Cr) vfjm Dobr^rja viorcj v mm
SI.3.: GioDlna dif. kromirane plasti v odvisnosti od čsa (a)
in temperature (O). KoercilJ/na silj v odvisnosti od ile-Deline Uif. kromirane pidsti (c). Koercitivni siia raziič-110 deoelih vzorcev pri enaki del^elini dif. kromove plasti 25 yum (d).
B. MAGNETNE LASTNOSTI
D. KONCENTRAClOSKi PRUFIL! Cr
KaerciCivna sila v odvisnosti od deOeline kramirsne plasti za različne debeline vzorčnih ploSčic )e prikazana v diagramu na si. Jc.
V diagramu 3d je prikazano, Katere koercltivne sile lahko pričakujemo pri različno debelih vzorcih, če |ih kromiramo do enake debeline plasti 25^um.
Koncentracijske profile Cr in Fe v diluzljsko Kromiran: plasti, prikazanin na slikah 5 In 6, smo določali z eieKtrorsKiiT mikro-anatizatorjem Jeol JSM-J5 na štih vzorcih, na kateri!^ so Dile le narejene prej opisane metaio.jrat$^e preiskava,
Zaradi razlik v Jsoplinah kromiranih pid^ti sno joorabljali različne povečave, kar je treoa upoštevati pri priinarjavi slik.
C. METALOGRAFSKE PREISKAVE
Posnetki metalografskih obruskov difuzi^ko kromiranih vzorcev v vakuumu so prikazani na sliki 6. Debeline kromiranih plstl smo merili na več mestih na ploSčicah vseh debelin. Ker debelina ploščice ne vpliva na globino kromiranja, so rezultati za vsako temperaturo In čas povprečje SO meritev.
Z dlfuzljsklm kromiranjem pri 950°C tudi po daljših č«ih količina Cr na površini ne doseže 15%, zato kromirane plasti ni videti. Pri 1000 °C se že tvori nekaj ^m debela kromirana plast, ki se s podaljšanjem postopka le malo spreminja. Piast je valovita, neenakomerna, na posameznih mestih celo preki-njena. Pri temperaturi lOSO^C In časih kromiranja 3 do 12 ur nastopa enakomerna dif. plast debeline 13 do 32^m.
Pri dlfuzijskem kromiranju 12 ur na 950 C je pod površi.-o približno 2,5% Cr, kar (e premalo za nastanak feritne plasti (si. 5a). Pri dif. kromiranju 12 ur na lOOO^C nastaja t<inkd feritna plast, debela le nekaj ^m (si. 5b).
Primeri koncentracijskih profilov za a-urno kromiranje na 1050, 1100 in IISO^C SÜ prikazani na sliki Posobna zanimivost je, da je koncentracijski profil v feritnem oelu kromirane plasti položen, gradient Cr v tem delu je nizek. S posamičnimi kvantitativnimi meritvami smo ugotovili, aa je Količina Cr proti koncu feritne kromirane pl«ti 12,5 do 13% Cr, kar se ujema s podatki iz faznega diagrama Fe-Cr. Nagib profUs Cr oö površine do konca ieritne plasti pa znaša na sliki 6 okoli 2 do 3» Cr, tako da lariko ugotovimo, da je gradient krama v feritni kromirani plasti povprečno ud I6i Cr no fiovršifil do 13% Cr na koncu feritne plasti. Ta gradient je sorazmerno r.iajhen, večinoma dosegajo pri drugačnih difuzijskih (»stopkih tik pod površino tudi prek 50fc Cr.
Na sliki 4 (a-h) so prikazane dlfuzijsko kromirane plasti, dobljene pri 1050®, 1100° in 1100 "c.
*NBJ ,„. I MRCI 3750! t Pa P.I.rr.;VeRiUMtl*
/ -.'S' ■•'.■
Af rnm
SI.4.: Metalografeki obruski dlfuzijsko kromiranih vzorcev železa jedkani z nltalom kažejo globino dlfuzijsko kromiranih plasti pri I050°C (a) 3h, {b) Bh, (c) I2h; liOO°C - (d) 3h, (e) 9h, (f) I2h;' 1!50°C - {g) 3h, (h) 8h.
Optimalno debelino kromirane plasti 25 ^m smo določili na osnovi merjenja koercitivne sile in korozijskih preizkusov. Tako piast dosežemo z vakuumskim dlfuzijskiiTi kromiranjem pri I050°C - 6 ur; llOO^C - 3 ure ali H50°C - I uro.
SI.5.: Koncentracijski profil Cr po 12 arah difuzijskega kromiranja na 95pa°C in 1000 °C. Povečava 3751.
S1.6.: Koncentracijski profil Cr po 8 urah ditu2i|skega Kromira* nja r»a 1050°C, povečava 1500; na IIOO^C, povačava 750 in na IISO^C, iMvečav^ 375.
Za feritno plastjo, torej v globinah, v katerin je bila pri temperaturi kromiranja gaina struktura, je padec kroma 2elo nagel, kar je razumljiva glede na precej manjfo 'lifuzijsko hitrost kro-movih atomov v gama kristalni mreži. Krom se zniža od 13% do nič na razdaljah 5 fjm pri iOSO^C, 9,5 yjm pri I100°C in iZum na I150®C
ska oDraoa. Na si. 7 so prikazane tri krivulje poteka irdot v difuzijsko kromiranih plasteh, dobljenih v ra?liCnih raznierah dltuzijskega kromiranja. Trdota mehkega železa v notranjosti |e okoli 100 HV, trdota kromirane plasti pa je v oornočju 170 do 180 HV. PodoDno kot pri koncentracijskem gradientu Cr se na meji stabilnega ferita trdota strmo zniža.
E. TRDOTA OIFU2U5KO KROtvlIRANIH PLASTI
Trdota na površini relejnih delov ima lahko poseben, pomen v primeru gibljivih deiov aH površin, na katerih je možna mehan-
V ^ t« 10 us eo
Razt^alja od novrSire
SI.7.: Trdota difuzijsko Kromiranih plasti železa v odvisnosti razdalje od površliie pri različnih razmerah kromiranja
F.	KORUZIJSKI TESTI
Izvršili smo jih z deionizirano vodo, s solno kislino, z dolgotrajno vlago, s hitrim testom z vlago in s testom na slano meglo po priporočilih lEC in po zahtevah MiL-STD-2ü2. Vsi vzorci z globino kromirane plasti nad 2,5 ^m so \äpe&no prestali navedene korozijske teste in zadoščajo zahtevam standardov za releje MlL-R-39016 in MlL-R-5757.
G.	UPORABA
Opisani postopek kromiranja smo uporabili pri pilotni proizvodnji subminiaturnih relejev. Kvaliteto teh relejev ugotavljamo z izvajanjem dolgotrajnih preskusov kritičnih parametrov po MIL standardih. Preskusi kažejo na uspešnost uporabe nov£ tennolc-gije difuzijskega kromiranja sestavnih delov suomimaturnin re-lejev. Izboljšale so se magnetne lastnosti ieleza oo izCKiijšani korozijski zaščiti njeijove površine. Dosegli sr.vi boljše parametre relejev in podaljšali njihovo življenisKo Jopo. Z uporaoo te-ga postopka smo bistveno zmanjšali izmet, potuijšaU ponovljivost izdelave releja in povečali njinovo zanesljivost, i^ostopek vakuumske'ja dituzijskega Kromiranja mehKega železa za reieje uporabljamo tudi pri razvoju novih vrst ner'f'etičnlh relejev tako na Inštitutu za elektroniko in vakuumsko tehniko kot tudi v Iskri - TELA.
IV. ZAKLJUČKI
Sistematično smo raziskali postopek vakuumskega difjzitskega kromiranja.
-	Raziskave smo vodili pri temperaturah: 950°, 1300°, IIOO" in li50°C, pri vakuumu od 10"^ do iO'^ntjar in časih 3, a in 12 ur.
-	Pri vakuuriJskem difuzljskem krotniranju se tvori stabilna feritna plast z izrazito feritno a«tenitno mejo da globine
i OP ^m .
z ozlrom na anakomernost kromirane plasti, magnetne lastnosti in dobro korozijsko zaščito smo cki'loCiil debelino kro-mirane plasti 2S yum .
Optimalno debelino kromirane plasti 25 dobimo z vakuumskim alfu2l)skim kromiranjem pri sleOeiirt pogojih: IÜ50°C - 6fi, 1100°C - 5h, ilSO^C - ih.
Koncentracliski profil kroma v stabilni feritni plasti je presenetljivo poloien; na povrlini je okoli 1^-16% Cr, na koncu stabilne feritne plasti pa 12,5 do 13%. Z drugimi difjzijskl-ml postopki dosegajo tik pod površino tudi prek 50% Cr. Polo2en koncentracijski profil Cr omogoča odlično točkovno varjenje delov železnega magnetnega kroga relejev. Uporaba kromiranih sestavnih delov pri pilotni proizvodnji hermetičnih relejev je pokarala, da so se izboljials magnetne lastnosti in korozijska obstojnost povrSine. S tam se je zmanjSal Izmet, izboljšala se je ponovljivost izdelave ter povečala zanesljivost delovanja relejev.
V. UTERATURA
1.M.	Jenko, A. Kveder, K.Tavzes, E.Kareky: Diffusion Chromium Coattnj of Iron Magnetic Circuit Parts for Relays, Journal of vacuum scl.tech. A, Nov/Uec 19B5 (v tlsku)
2.	G.N.btiblnin; Diffuzionne hromirovanie splavov, MaŠinostroe-nle, l>1oskva 196^
J.A.Rudvik, Ü.L.Ljubireky, Tehnologija miniatjurnyh rele, Energoizdat, Leningrad i9d2
а.A.H.SuHy,	t.A.Brandes, Chromiujn. ijytterworth, London, 1967, str.7
5.R.L.Samuel, N.A.Locklnqton, Met. Treat. Id, J54, 407, i&O, 19^1
б.R.L.Samuel,	N.A.Lockington, H.Dorner. Met.Treat. 22, 2d9, 3J6, 1955
7.L.L.Sheir, N.A.LocKin3ton, Corrosion, VoL2 Butterwortn, London J 978.
iiiaj. Monika Jtlf'iKU, Jipi.iiij. levT LjuQlj.^iia
SEJA IZVRŠNEGA ODBORA JUVAK
V Beogradu je bila k. 12. 1995 v prostorih Društva za vakuumsko tehniko Srbije 3. seja Izvršnega odbora Zveze društev za va-kuurrsko tehniko Jugoslavije. Na seji je bilo prisotnih 10 članov 10 JUVAK, ki so sicer člani republiških vakuumskih društev Slovenije, Srbije in Hrvaške. Dnevni red seje je obsegal: pregled zapisnika 2. seje 10 JUVAK (20. 6. HÜ5 v Zagrebu), organizacijo X. jugoslovanskega vakuumskega kongresa, poročila republiških društev za vakuuneko tehniko v času od 20. 19d5 do h. 12. 19d5, poročila strokovnih komisij JUVAK v času od 20. junija 1985 do decembra 19S3, poročilo o 3. združeni vakuumski konferenci Madžarske, Avstrije in Jugoslavije, ki je bila od 7. do 9. oktobra 1985 v Debrecenu na Madžarskem, poročilo o delu lUVSTA, finančno stanje JUVAK in razno. V tem prispevku bom omenil nekaj najvažnejših dogovorov, zaključkov in novic, pomembnih za nadaljnji razvoj vakuumske tehnike v Jugoslaviji In delo JUVAK v bližnji prihodnosti.
Na seji smo Izbrali čas jubilejnega X. jugoslovanskega vakuumskega kongresa, ki bo od 25. do 27. junija I9Ö6 v čieogradu, v prostorih Zveze inženirjev In tehnikov Jugoslavije, ürydtiizator kongresa je Društva za vakuumsko tehniko Srbije. Izbrani so že člani organizacijskega in strokovnega odbora kongresa. Trenutno poteka akcija za pridobitev več priznanih tujih stroKovnJa-kov, ki naj bi Imeli na tem kongresu 45-mtnutna uvodna predavanja. Črtali predavatelji bodo imeli na razpolago 15 minut z dodatno 5-minutno diskusijo, predvidene pa so tudi predstavitve strokovnih del v poster sekcijah. Üb tej priliki bo izdan zbornik referatov, ki morajo Imeti naslov in povzetek tudi v angleščini. Dogovorili smo se tudi za cene reklamnih oglasov domačih in tujih firm, ki bodo objavljene v zborniku. Druge
podrobnosti boste vakuumisti našli v prvem obvestilu. Ki ga oo organizator razposlal v januarju tega leta.
Najbolj dejavni republiški društvi za vakuumsKO tehniko sta i_iVT Srbije in ÜVT Slovenije,v zadnjem času pa so povečali ^vojo aK-livnost tudi člani DVT Hrvaške. Kolegi iz Zagreoa trenutno pripravljajo tečaj iz Lstiov vakuuniske tehniKe, ki ga nameravajo imeti oo koiicu lebruarja 1996. Clanl repuoiišKln društev delujejo tudi v strokovnih Komisijah JUVAK. Komisija za izooraže-vanje in strokovno problematiko je predlagala, da di v oKviru JUVAK izdali knjigo z naslovom Vakuumske tehnologije. Komisija za eksploatacijo in vzdrževanje vaKuurrske opreme ie neKöj časa evidentira vakuun-sko opremo v Jugoslaviji. Oe)o v Koriiisi-jI za napredek gospodarstva pa se za secaj še ni /ačelo.
Podroonosti o delu lUVSTA, o katerem je na seji poročal dr. Gasperič, tu ne navajam. Ker so ta poročila ponavadi oojdvlie-na v VAKUUMISTU kot samostojni članKi.
Člani ID JUVAK so se strinjali, oa ndi bi bila i'aslerji;,.i Zdru-Jena vakuumska konferenca Avstrije, Jugoslavije in MadžarsK'.-leta 1987 v Avstriji, r'redlog lUVSTA, naj oi ta KO-iferenca prirasla v Evropsko vakuuirsko Konferenco lü JUVAK naielona podpira, vendar je v zvezi s tem še več nejasnosti in z-i dokončno odločitev je potreben še posvet s oredstavni»! Mvitrijsxe zveze za vakuumsko tehniko in VakuumsKa seKCije pri madžarskem fizikalnem društvj RoUnd Edtvds.
Nd) navedein še nekaj kratkih novic. RepuOiiiKa društ-d oodo v kratkern prejela več izvodov prvih oi?vestii za 10. mednarodrii
vakuumski kongres, ki Do 0(3 27. do 31. oktobra I9S6 v Balti-moru. Na seji je biio predlagano, naj bi v letu 1986 JUVAK organiziral strokovno ekskurzijo k firmi 8aUers. Govora je bilo tudi o oro^ramu EUREKA; poznavalci pravijo, c3a ta program posebej omenja potrebe po znanju iz fizike vakuuma.
Naslednja seja JUVAK do od koncu feoruarja ali v začetku marca I9d6 v Ljubljani.
A./..
VAKUUMSKI TECAJ V NOVEMBRU
Od 5. do 7, novembra 1985 je bil na lEVT tečaj iz osnov vakuumske tehnike. Organizator je Dil druStvo za vakuumsko tehniko Sbvenije. Bilo je 31 udeležencev, kar je priblUno največje Število, ki Se omogoča normalen pot^ tečaja. Udeležencev Qi bilo lahko več, vendar smo morali nekatere pozne prijave odkloniti oziroma prestaviti na naslednji tečaj, ki bo koncem januarja 1986. Sodelovale so naslednje delovne organizacije:
Delovna organizacija	Število udeležencev
1.	iskra Žarnice, LJubljana	5
2.	lEVT, LjuDljana	4
J. SAVA, Kranj	3
A. iskra Avtomatika, LjuDljana	3
5.	iskra CEO, Ljubljana	2
6.	Iskra Kondenzatorji, Semič	2
7.	LEK, Ljubljana	2
8.	Krka, Novo mesto	2
9.	Energoinvest, Sarajevo	2
10.	Iskra SEM, Ljubljana
11.	Metalna, Maribor
12.	Soko, Mostar
13.	Slovenijaies, Ljubljana
U. Iskra Elek troop tika, Ljubljana
15. Iskra, Ljubljana
Struktura udeležencev je bila zelo raznolika, vendar to pot kar visoka.
Visoka izobrazba	17
Srednja izobrazba	6
KD, VKO	a
Iz pogovorov z udeleženci tečaja (tudi prt prejšnjih tečajih) srno ugotovili, da je nujno čimprej organizirati poseben teCaj za v2drž»alce, ki bi slušatelje temeljito seznanil predisem z osnovnimi črpalkami (rotacijska, dUuzijska, membranska), nekaj pa bi zvedeli tudi o vakuurrskih merilnikih, sistemih in enotah. Za leto 19136 smo le predvideli, da pričnemo s takimi tečaji; tečaji iz osnov vakuumske tehnike pa Di ostali t3k< kot doslej in 01 Dili namenjeni bolj poglobljenemu spoznavanju z osiwamj vakuumske tehnike. 2e pri zadnjem tečaju sn-o deloma reorganizirali vaje. Nal cilj je, da Di vaje opravljali direktno udeleženci sami, da ne bi bile le praktičen prikaz nekega področja vakuumske tennike. Zato smo skrčili število udeležencev pri vsaki vaji na največ 4 do 5. Skušali bon« tudi kmalu pripraviti zbornik vaj.
Raslo ZAVAžNlK aipl.inj. lEVT Ljubljana
lUVSTA V DEBRECENU
Izvrini odDor Mednarodne unije za vakuumsko znanost, tehniko In aplikacije, njene sekcije in komiteji so se to pot zDraii v Oebrecenu na Madžarskem (3. do 7. 10. 85), nekaj dni pred združeno vakuumsko konferenco Madžarske - Avstrije in Jugoslavije.
V tem sestavku bom navedel le tiste sklepe oz. dogovore, ki so pomembni za lirSI krog vakuumistov. Te pomembnejše zadeve pa navadno izviraja iz sklepov komitejev in sekcij, ki jih nato sprejema (ali tudi ne) Izvršni odbor. Ker pač sodelujem že vrsto let v komiteju za vzgojo, vem o tem še največ povedati.
Ta komite že vrsto let pripravlja vizualne pripomočke (diapozitive in opise) za poučevanje vakuumske tehnike. Do seda) imamo Je pet kompletov v angl^člni, ki so jih nekatera nacionalna društva že prevedla In izdala v svojem jeziku (npr. Spanci kompletno, ÜVT Slovenije - delno pripravljeno, OvT Srbije končuje priprave za izdajo). Sesti kon^iet (Leak detekcija) je tik pred izidom, sedmi (Zgodovina vakuumske znanosti), ki ga pripravlja prof. Lafferty, je v zaključni fazi (člani komiteja pravkar pregledujemo končni osnutek). Osmega, o vakuumskih materialih, pripravlja Indijsko vakuumsko društvo (prvi osnutek prej ledu jeitio). Vse članice lUVSTA koristno uporgpliajo te pripomočke pri izvajanju tečajev.
v Debrecenii smo tudi sprejeli predlog dr. Jose|a de begovie, da Oi organizirali mednarcdne letne iole za val(jum5l<o tehniko v raziičnih državah, najprel pa v Španiji. V tej zvezi je Oiia o-menjena tudi Jugosiavija. Z dr. Meurerjem (ZRN) bova pripravila osnutek slovarja strokovnih izrazov Iz vakuuii^ke tehnike v treh [ezikiii (angi. - nem. - franc.). Prt tem gre za dopolnitev starejših, podobnih Izdaj z novejšimi Izrazi. Predlog, ki sem ga dal !e na enem izmed preflnjin zasedanj komiteja, ima tudi tehnični značal. V slovarčku naj bi bil tudi prazen prostor, v katerega bi lahko dotisnill le ustrezne izraze (smiselne prevode) v nacionalnih Jezikih, kar bi izredno znianjSalo tiskarske stroške.
i^vost naSih srečanj, ki so sicer organizacijskega značaja, je popestrilo poročanje prei^ednikov strokovnih sekcij o najnovejših področjih raziskav In njihovih smereh. Prvi "mini" simpozij je organiziral dr. Manfred Kaminsk/ (USA), ki je govoril o tu-zljsklh raziskavah v letošnjem ietu v svetu. Dr. Van Uostrom (Nizozeri«ka) nam je predstavil stanje znanosti o površinah, prof. Chopra (Indija) o smereh razvoja tankopiastne tehnike, R. Lobrozemsky o rotacijskih črpalkah, ki lahko obratujejo v najleljih razmerah, medtem ko nam je dr. Uhere (ürazill-ja) pripovedoval o vakuumski aktivrosti v Braziliji.
Večina udele2encev je podaljšala bivanje v Debrecenu za nekaj önl, ker smo imeli že omenjeno združeno vakuumsko konferenco.
Precej članov iivrineja odbora iUVSTA |e i"nein na njej uvodna oz. pregledna predavanja.
Naši madžarski gostitelji so se izjemno potvu.Jili. Ja ie bilo na-le M. srečanje v organizacijskem poijledu orezhibno, kar ^re potivala našim kolegom in le posebej izredna sposoC~-emu direktorju In vodilnim delavcem nuklearnega inštituta ATOMKi iz Oebrecena. Vsi naši sestanki so bili na tem Inštitutu, Ki s.to si ga lahko tudi ogledali. Zame je bil zanimiv predvsem njihO' vakuuiieki program, novi pospeSevainik, izredno navoušiia pa me je zagnanost njihovih raziskovalcev in velika družbena skrb za znarstveni in tehnololkl napredek v tej deželi. Tudi v "prostem programu" so Dili nali madžarski kolegi nenadkriijivi, pomagala pa jim ja le toplo oktoorsko sonce.
Na sejah izvršnega oobora smo največ razpravljali o Baltimor-skem 1Ü. mednarodnem kongresu (IVC-iÜ), ki Do oo 27. do JI. oktobra 19S6 skupaj s 6. mednarodno Konferenco o trolri površinah (iCSS-6) In s iS. simpozijem a'nerilkega v.ikuurnske-ga društva. Ur. Beavis tn dr. I^aday (ZUA) sta razdelila neka» primerkov prvega obvestila za kongres. Društva jih boJo razdelila svojim članom takoj zatem, ko jih bo poslal orga-nizator v večjem številu. Organizacija kongresa ooDro napreduje, saj so strokovne sekcije IUVSTA že izbrale -jvodne preoavatelje in teme.
:if. Joža (-.asperič IL.v r wjju.ia.w
TRETJI SKUPNI VAKUUMSKI KONGRES MAOZARSKE, JUGOSLAVUE IN AVSTRUE
Od 7. do 9. oktobra I98S je bila v Uebrecenu na Madžarskem strokovna prireditev, na kateri so sodelovali s svojimi deli tudi jugoslovanski vakuumistl. Na kongresu je bilo okrog 160 udeležencev, ki so predstavili 79 strokovnih del. Organizator jih je razdelil na uvodna predavanja in na delu predstavljena v poster sekcij. Poleg vakuumistov iz omenjenih treh držav, ki so kongres organizirali, je bilo prisotnih še več strokovnjakov Iz 11 drugih, tudi izvenevropskih držav. Strokovna dela, pre<fetavljena na tem kor^resu, bodo objavljena v angleški reviji Vacuum.
Kakšen je bil delež jugoslovanskih vakuumistov na tem kongresu? Razen tega, da smo sodelovali v organizacijskem komiteju, je potrebno posebej omeniti dve uvodni predavanji, ki sta jih imela dr. E. Kansky (lEVT) in prof. M. Kurepa iz Beograda. Poleg tega je bilo 9 del predstavljenih v poster sekciji, od tega kar 6 iz lEVT.
Splošna ocena kongresa je, da je bil na visokem strokovnem nivoju in organizacijska dobro pripravljen, brez velikih spodrslja-
jev. (Pričakovali smo oekoiiko večje število o08lež«ncev iz ju;i>-siavije. Verjamemo, da je v JugcKiavijI še več vaKuumistov, ki Qi imeli- kaj pokazati na taki mednarodni strokovni prireoitv;, vendar je majhno število naših uoeležencev povezano tudi s šibko ekonomsko situacijo naših inštitutov in raziskovalnih u odel-kov delovnih organizacij. Na ta način se seveda zmanjšuje pretok strokovnih Informacij, kar se nam bo že v bližnji bodočnosti (menim, da se nam že sedaj) močno maščevalo.
Ze na kongresu v Uetirecenu je predstavnik italijanske zveze za vakuumsko tehniko (član iUVSTA) izrazil željo, da se že na naslednjem tovrstnem kongresu, ki bo čez -J^e leti v Avstriii aii pa morda v Jugoslaviji, pridružijo še italijarski vakuumisti. V zadnjem času pa je prišlo celo Jo resnega predloga, oa ta konferenca preraste v evropsko vakuumsko konferenca, kot protiutež vakuumskih konferenc, ki jih orjanizirajo v ZDA in na Japonskem. Lahko bi rekli, da je duh EUREKi-1 opaziti t.jüi na vakuumskem področju.
Zanimivo Di bilo vedeti, kako si v bodoče nekateri odgovorni l|udje na repuDllški in zvezni ravni Qredstavi|ajo sodelovanje Ju* goslovanov pri organizaciji takih in podobnih strokovnih prireditev. 2e za organizacijo kongresa v Debrecenu si je bilo potrebno pomagati z zasebnimi deviznimi sredstvi za streike bivanja, ker je že tako šibka devizna srecfetva Društva za vakuum-
sko tehniKo Slovenije banka ernstavno oJvzela in zamenjala v dinarska sredstva. To vsekakor sodi v skupino KratkoviJnin jkrepov, kakrlen fe bila pred leti tudi omejitev nakuaa tuje strokovne literature.
maj. Anton ZALAR, dipl.ing, IfiVT LjuDl(flna
COLLOQUIUM SPECTROSCOPICUM INTERNATIONALE XXVI
CollOLiulum Spec tras cop i cum internationals je sestanek spektro-skopikov z vsega sveta, ki ga vsaki ilve leti organizira druga država v skladu $ pravilnikom In dogovorom s komitejem kolokvijev in sklepi sestanka nacionalnih delegacij. Od lela 1965 je kolokvij združen z Internacionalno konferenco o atomski spektroskopiji. Progran^ kolokvijev sega od bazične teorije In metod .:lo analitskih aplikacij za specifične probleme. Vsak kolokvij ima običajno tudi vodilno misel. Spremljajo ^^a redno rastave Instru-mentaclje In literature In druge strokovne prireditve.
Letošnji kolokvij je bil v ZRN v Garmisch-Partenkircnenu od 15. do 21. septembra. Kolokvij je orjaniziralo Društvo nemškin kemikov (GDCh) in sicer njegova sekcija za uporabno spektroskopijo In Institut für Spektrochamie und Anqev»aniJte Spektroskopie v Dortmund« pod okriljem YLPAC-a. Udeležilo se ga je 891 aktivnih udeležencev Iz 42 dežel In ii razstavi j al cev. Bilo je 61 vabljenih predavanj, ostalih 340 prispevkov pa so bill posterji, ker je bila le tako možna predstavitev vseh prbpevkov. Razširjeni abstraktl posterjev so zbrani v 4 knjigah, skupaj dOO strani, medtem ko bodo vabljena predavanja izšla v posebni številki revije Fresenius Zeitschrift für Ar^alytische Chemie. Jugoslovani smo se udeležili kolokvija z dvema vabljenima predavanjl-ma in 11 posterjL lEVT je sodeloval z dvema prispevkoma s področja spektfometrije kovin, ki jih je predstavila E. Perman.
Prispevki s podobno tematiko so bili zbrani v zaokrožene skupine. Vsaka skupina, in teh je bilo 40, je Imela vodjo, ki je vodil tudi tematsko diskusijo. Istočasno so organizirali otsežno razstavo Ins trum en tac I je za veliko število področij, strokovne oglede, razgovore o nerešenih problemih v atomski in nvlekul-skl spektroskopiji i.p.d.
Na kolokviju so bila obravnavana naslednja področja:
Bazična teorija In metode:
-	atomska emisijska spektroskopija
-	atomska absorpcijska spektra metri ja
-	atomska fluorescenčna spektrometrlja
-	emisijska in fluorescenčna spektrometrlja X-žarkov
-	metode površinske In profllne analize
-	infrardeča in Ramanska spektroskopija
-	molekulsKa spektroskopija lUV in VIS)
-	jedrska magnetna resonanca (NMR)
-	detektorji sevanja, zapis in obdelava podatkov, avtomatizacija
-	laserska spektroskopija
-	masna spektroskopija (organska in anorqansKa)
-	aktivacijska analiza
-	standardni referenčni materiali ItJ.
Anallbka aplikacija za specifične probleme:
• analiza kovin
-	analiza raznih industrijskih produkotv
-	geokemijska analiza
-	biološka, klinična in farmacevtska analiza
-	analiza v kmetijski In živilski kemiji
-	analiza okolja
-	priprava vzorcev.
V naši problematiki so najzanimivejše metode aton-ske in rentgenske spektroskopije, zlasti v področjih zelo niznih Koncentracij. V atonskl spektrtukopiji so avtorji največkrat ooravnavali pereči prooiem določevanja sledov elementov predvsem v zvezi s kontrolo čistoče materialov, onesnaženja okolja, živil, farmacevtskih preparatov, v medicini ipd. Za nas je posebno zanimivo tudi to, da se v zadnjih letih na tem Kolokviju i«e bolj pojavljajo tudi metode površinske analize. Nadalje so na kolokviju posebno poudarili neizbežnost interdisciplinarnega pristopa k reševanju analitskih probletnov.
Razstava je pokazala, da si v moderni spektroskopski tehniKi ne moremo več zamisliti učinkovitega dela brez povezave z računalniki. Taka povezava nesluteno poveča uporabnost posameznih metod.
Naj zaključimo z uvodno rnislijo kolokvija, ki se nanaša na delo analitika. Ta ne more delovati kot ločeni dvtomat za rezultate, temveč mora biti vključen in soudeležen pri reševanju problematike. Poznati mora tehnologijo in zgodovino vzorca ter namen a-nalize. Brez nJega tudi nI možna racionalna interpretacija rezultatov. Torej Je neizbežen in enakovreden člen pri reševanju konkretnega problema.
dr. tva r'ERMAN it-VT :_juDljdna
PRVA EVROPSKA KOFERENCA Q LPORABI METOD ZA ANALIZO PüVRSiN ( ECASIA 05 )
Iz poslavlja sta bfia dva jdelelenca - palej mene še pred-stavnik bkra Elek troop tika, tov. A. Demšar, dipl.fizik, ki je zbiral informacije o teh analitskih metodah ir> tehnologijah v elektroniki. Na kongresu sem pretfetavll dve deli s oodroija spektroskopije Augerjevlh elektronov - eno samoslolno In drugo skupno, ki je re2ultat sodelovan|a z raziskovalno yrupo dr. Barne Iz Budimpešte. Strokovna dela so bila razdeljena v skupine, Imenovane z naslednjimi Izrazi: adhezlfa, kataliza, keramika, korozija, elektronika, študij okolja, metalurgija, polimeri, kvantifikacija, tehnike v razvoju, tanke plasti in polprevodniki In trlbologija. Vsa dela iz oralnih sekcij bodo objavljena kot članki v angleški reviji Surface and Interface Analysis, tista iz poster sekcije pa kot razširjeni abstrakti v isti reviji. Kot zanimivost naj povem, da so bili posterji predstavljeni na kongresu v času od 20. do 22.50 ure. Ni potrebno posebej poudarjati, da so se posamezne strokovne diskusije potegnile tudi pozno v noč. To pa seveda nI bila ovira, da ne bi .naslednji dan večind udeležencev prisostvovala že prvim jutranjim predavanjem, ki so se pričela 2e ob osmi uri.
Vzporedno s kongresom je potekala tudi razstava raziskovalne opreme za analizo površin. Najnovejše instruniente je razstavljalo 24 proizvajalcev tovrstne opreme. Na kratko rečeno: zmožnost aparatur se povečuje, večina je opremljena z računalniki, veli-
kost aparatur se zmanjšuje, cene zanje pa vratolomno naraščajo. Ob koncu kor^resa so na posebni se|i izbrali še kraj lO čiis naslednje tovrstne konference. ECASIA d7 oo čez dve leti, v mesecu oktotjru v Stuttgarts. Po podatkih, ki |ih imam, so začetne priprave za ta konqres v ituttgartu že stekle. Ce želimo, da bo strokovni prispevek Jjgo^slovannv na tej konferenci večji kot v Velahovnu, bi morali na to mtsiitl že danes. Sicer Cx> pred časom predvajana televizijska reklama znanega slovensKega giganta na področju elektronske Industrije, ki pravi: "Ml mislimo na bodočnost" ostala v spominu samo kot slaba šala.
Od lA. do Id. oktobra 1985 Je bila v Veluhovnu.na Nizozemskem skem Prva evropska konferenca o uporabi inetoJ za analizo površin - točneje European Confereiice on Applicatlois of Surface and Interface Analysis - ECASIA dS. Konferenca je bila organizirana pod pokroviteljstvom Kraljevetja društva Nizozeniske za kemijo. Organizatorje Je presenetilo Izredno veliko štcrvilo udeležencev - prek 55U. ^^rišli io i7 ceieija sveta; i? evropskin držav pa Jih Je bilo največ iz Nizozemske, ZRN, An-jlije in Francije. Predstavljenih Je bilo tlizu iQü stroKovnlh del in sicer v oralnl in poster sekciji; od tega je bilo 12 vabljenih predavanj.

VISOKOVAKUUMSKI SISTEM TP VVS-663 MULTIVAK
Z dolgoročnim in načrtnim razvojem posameznih elementov nam je na lEVT uspelo izdelati sodobne kovinske črpalne sisteme, ki delujejo z nominalno črpalno hitrostjo difuzijskih črpalk 150 i/s oz. 600 l/s in s končnim totalnim tlakom okoli I.iO'^mbar.Vsi elementi teh sistemov ustrezajo mednarodnim standardom in so izmenljivi z elementi drugih proizvajalcev vakuumske opreme.
Crpainl sistem predstavlja osnovo za razvoj druge opreme, ki Je potrebna za izvedbo tehnoloških procesov v vakuumu. Pri tem skušamo zadovoljiti specifične želje in potrebe naročnikov, omogočamo pa tudi vzdrževanje in servisiranje te vakuumske opreme.
Kot zgled navajamo visokovakuunsko univerzalno laboratorijsko črpalno napravo MULTIVAK, ki ima vgrajen visokovakuumski črpalni sistem z dvo (eno)stopenjsko rotacijsko črpalko, vodno hlajeno tristopenjsko oljno difuzijsko frakcionlrno črpalko zvjra-jenlm lovilnlkom povratnih oljnih par ter z ročnim visokovakuum-skim In dvopotnim predvakuuirskim ventiloni. Igelna dozlrna ventila na visokovakuun-iski In na predvakuumski strani sta predvidena za vpuičanje čistih plinov oz. zraka. Poleg električnih elementov za vklop in izklop črpalk, signalizacijo in zaščito ima MULTIVAK še poseben električni napajalnik za ionsko čiščenje
podlag (substratov) in za naparevanje v visukem vakuumu, 'i kateremu spadata tudi visokonapetostni (čiščenje s pl-izmo) in nizkonapetostni (naparevanje) transformator. Za merjenje va-^uuriia uporabljamo Pirani-Penning vakuummeter z ineriinlm oomočjem od atmosferskega tlaka do visokega vakuuma I.t0~^mbar, '>>e-
rimo pa ga lahko na predvakuumski strani z eno merilno glavo in z dvema na visokovakuumski. V okvirju, kjer sta vakujm-

i' M
ShecTia visokovakuurreke črpalne naprave MULTIVAK
1,	frwl^r^AlhA............... J V HI M V10)
2.	Oljna diluzlj^ke ..............D»
RAcipt^nl
4.	VrpdvHkijuniski rpclpl.'nt....
5.	>ilt>IJIv9 cev
lovilnih [nvrAlnili i)l)nih pai (vt|ia|iHi k |>»7, 7. V<»irK)Stni i-l. iii.iiiiH'tn) •••mil fMV '11
K.	v<-n(il.......... \ • .tv
'(- Visokov.ikuiKii-.li v.'ulH .. \ v lt>. V<*iitil	'I ........... I-MV III
11.	................. ............................|hM rrv 11 '
12.	hii'lni 'I.I7II III v>>iiii1........ 1>VI 10
meter in napajalnik, je predviden tudi prostor za najmanj Se eno aparaturo (npr. ionizacijski vakuummeter ali programaior procesa ipd.}.
Recepient, tj. visokovakgumski prostor oz. posoda, ima osnovno kovinsko ploičo s priključki in stekleni poveznik ter zaščitni pokrov iz pleksi stekla. C6em priključkov na osnovni plošči je ra* znovrstnlh: dva za naparevanje iz Wrspirale ali ladjice, vrtljiva zslonka, visokonapetostna elektroda za plazemsko čiščenje, priključek za vpuščanje plinov ali zraka, priključek z devetimi električno izoliranimi kovinskimi prevodnicami, nosilca za podlage Ipd.
Nekatere priključke lahko poljutjno zamenjairio z drugimi, pri-mernejšimi za poskuse, ki jih nameravamo opraviti j visokem vakuumu. Tudi stekleni poveznik lariko odstranirro in na osnovno ploščo privijačimo drugačne črpalne nastavke.
Poleij 2e omenlenih lastnosti osnovnega vakuumskega črpainega sistema naj navedemo Se nitro in enostavno sestavijivost oz. razstavljivost. Vsi elementi so večinoma izdelani iz domačih materialov.
Naš razvoj na tem področju gre v smeri avtomatskega krmiljenja tehnoloških procesov.
Vinko RE8EC !EVT Ljubljana
KOLEDAR ZA LETO 1986
25. - 27. marec
VACUUM 36 • Vakuumska znanost, tehnologije in uporaba; na Škotskem, Glasgow; Univerza v Strathclyde; informacije: The Ire ti tu te of physics, 47. Beigrave Square, London, Anglija
7. - IQ. april
4. KONFERENCA O IONSKIH CURKIH NIZKIH ENERGIJ; Univerza v SuBsexu, Anglija
13. . 17. ^ril
2. MEDNARODNA KONFERENCA O MATERIALIH ZA FUZIJ-SK£ REAKTORJE; Chicago, II. ZDA; Informacije: Dale Smith, Argonne National LatMratory, Argonne, lil. 606}9, USA
I«. • 17. aprlJ
9. EVROPSKA KONFERENCA O ZNANOSTI POVRSiN (ECUSS-8) Juhch, ZRN; Informacije: KFA Juhch GmbH Conference Service, P.O.B. 1913, 5170 Jülich, ZRN
rrtaj
7. MEDNARODNA KONFERENCA Ü DOGAJANJIH MED PLAZMO IN POVRŠINO; Princeton, J.J., ZDA, Informacije: Sam Cohen, Princeton Plasma Physics Laboratory, Princeton, NJ, USA
9. - II. [unij
VAKUUMSKA METALURŠKA KONFERENCA O PCSESNOSTIH IN TEHNUlOGUAH TALJE^JA; Odbor za vatjurrsko metalurgijo pri Arieriškem vakuunsKem društvu; Pittsburgh, Pennsylvd-nia, ZDA
25. - 27. Junij
X. JUGOSLOVANSKI VAKUUMSKI KUNGRES; JeogrbJ; Intor-macije: DVTS, LJubljana
- 30. svgifit
MEDNARODNA KONFERENCA O JEDRSKI FIZIKI, hiarrogate, Anglija; Informacije: The Institute of Physics, 47 Heigrave Square, LonJon, SWIX 9QX. UK.
7.	- ID. september
4. MEDNARODNA KONFERENCA O EPITAKSIJI Z MOLEKULARNIM CURKOM (MSE-iV); Univerza v VorKu, Ancjlija; Infor-macife: dr. G.J. Davles, Conf. Sec., British Telecom Research Laboratories, Ktintlesham Heath, Jpswlch IPS 7RE, UK
8.	- 11, septen^er 1986
ESSDERC - 36: 16. EVRCPSKA KONFERENCA O RAZISKAVI
NAPRAV IZ TRDNE SNOVI; The Institute pt Ph/sics, 47 del-grave Square, London SW1, SOX, England; Cartibridge, Anglija
27. - 30. oktober 1987
12. SIMPOZIJ O PROJEKTIRAhJU ZA FUZUO; Princeton, New Jersey, ZDA
27. - 31. oktober
X. MEDNARODNI VAKUUMSKI KONGRES (iVC-IO) in VI. MEDNARODNA KONFERENCA O POVRŠINAH TRDNIH SNOVI (ICSS-č) v povezavi z vakuurnsklm simpozijem Vakuurrekega društva ZDA; Baltimore, ZDA.
17. november
TEČAJ ZA POVRŠINSKO KEMIČNO ANALIZU V POVEZAVI S Ü5A4; Teddimjton, Anglija; Informacije; Ur. Graham Smith, National Physical Laboratory Teddington, MlOdlesex, TW II OLW, U.K.
IB. - 20. noven^er
Ü. MEDNARODNA KONFERENCA U KVANTITATIVNI POVR-SlNSKI ANALIZij Teddington, Anglija; informacije: Dr. Graham Smith, National Physical LaCioratory. Taddirqton, Middlesex, TW II OLW, UK.
IN MEMORIAM: KARLO GRAHEK
Na Zaiah smo se 5. decemtira za vedno poslovili od dolgoletnega delovnega i^lana Slovenskega vakuumskega društva, tovariša Karla Grahka. Njegovo življenje predstavlja verigo prodornih uspehov in dejanj, ki odražajo njegov osaDnI značaj in prispevek k razvoju naše družbene skupnosti.
Zadnje mesece vojne in začetek miru do Konca 1945. leta je tovariš Grahek opravljal dolžnost šefa kontrolne službe prometa in traiisporta korpusa narodne obrambe FLRJ oziroma tSKratne-ga Ministrstva za promet v Beogradu za celotna osvobojeno o-zemlje Jugoslavije.
Rodil se je leta 1917 v Črnomlju. Svoja mladostna leta je preživel v Novem mestu. Poklicno delo je začel 1933. v takratni največji radiotehniški delavnici v Sloveniji na Miklošičevi cesti v Ljubljani. Tu so se med drugim ukvarjali tudi z ozvočevalniini in k i no-napravami, vključno z njihovo montažo in vzdrževanjem. Po nasvetu svojega brata, ki je bil tehnični vodja te delavnice, se je Karlo odločil za področje kinematografije. Leta 1939 sta skupaj z njim odšla v Cačak v takratne vojnotehnične zavode, kjer je Karlo prevzel vodstvo transformatorske navijalnice. Po okupaciji naše domovime se je vrnil v Ljubljano, kjer se je zaposlil kot klnooperater v kinu Sloga. Ob kapitulaciji Italije je odšel v partizane, kjer se je začela njegova svojevrstna odlsejada.
Svoj prvi prispevek je namenil obsežnemu zbiranju radio tehniškega materiala, ki je on-ogočll nadvse učinkovito delovno zasnovo za največjo partizansko radlotehnično bazo 99 D v Starih žagah. Po sili razmer je moral prevzeti funkcijo celotne oskrbe bazes tehničnim materialom In prehrano Številnega delovnega kolektiva. Ugled, ki si ga je pri tem delu pridobil In Izvirne izkušnje so prispevale k odločitvi glavnega štaba NOV in PO Slovenije, da ga je koncem leta 1944 imenoval za zveznega oficirja pri zavezniških oskrbovalnih in transportnih bazah v južni Italiji. To delikatno nalogo je opravit z njemu lastno prodornostjo in naravno Inteligenco in uspešno premostil vse ovire, ki so mu jih postavljali posamezniki v zavezniških enotah, ki niso bili naklonjeni novi Jugoslaviji. To obdobje v Italiji je zaključil s formiranjem pravega avtotraivportnega konvoja, ki |e bil napolnjen s tehničnim materialom, ga z ladjami pripeljal do albanske obale in se z njim prebijal skozi zasnežene albanske gore na že osvobojeni del jugoslovanskega ozemlja - vse do Beograda. To je bil resnično edinstven podvig Karla Grahka, ki sam po sebi jasno govori 0 njegovih organizatorskih sposobnostih In osebnih kvalitetah.
Svoje izredne sposobnosti je po de mobilizaciji decembra 1943 posvetil razvoju kinematografije. Na položaju direktorja je 19 let opravljal od<jovorna dela pri ictanavljanju mreže ljubljanskih kinematografov in uspel dvigniti njihovo tehnično raven na evropsko višina. Tudi na tem mestu je pokazal svoj posluh za najnovejše tehnične dosežke v svetu.
Leta 19S3 so ga njegovi osebni prijatelji in znanci iz partizanskih časov, ki so bili zaposleni na takratnem Inštitutu za eieK-trozveze (lEV) in Inštitutu za eleKtronlko in vaKu^n^ko tenniKo (lEVT), anjažirali za izvedbo preselitve kompletne tovarni; žarnic, ki jo je lEV kupil v Trstu. Celotno oeio dernoniaže, caKi-ranja in transporta v Ljubljano mu je uspelo opraviti v pičlin li dnevih. To je bil hkrati prvi akt okvirnega spoznavanja vakuumske opreme.
Po preteku tega burnega ustvarjalnega delovanja se je poKojni Karlo Grahek končno odločil za proizvodno dejavnost kot samostojni oortnik. Ot) sodelovanju z lEVT si je opremil leta 1970 delavnico za vakuun^ko naparevanje plastičnih in kovinskih izdelkov. To ga je pripeljalo v vrsto društva slovenskih vaKujmi^-tov, v katerem je sodeloval vse do svoje prezgodnje smrti. Soglasno je bit Izvoljen za člana Izvršnega odbora društva. Več let je uspešno opravljal dolžr«stl podprecsecinika. Svoje delo je opravljal zavzeto in Izrazito konstruktivno. Njegovi predlogi so odražali težnjo po spoznavanju tehničnega napredKa in njegovega posredovanja širšemu krogu uporabnikov vaxjumskih tehnologij. Redne se je udeleževal vseh sestankov društva in njegovih strokovnih tečajev, domačih in nekaterih inozemskih simpozijev (Cannes, Madrid). Njegova privrženost se je odražala tudi z občasno Finančno pomočjo, ki jo je nesebično nudil ob finančnih zadregah društva.
Globoke ürazde njegove neumorne aktmosti je 2apL(stil tjdi v razvoju oortniSke delavnosti v oočini LjuOljana Center in kot krajan v svoji krajevni skupnosti, o čemer pričajo prejeta priznanja.
Vsi njegovi društveni sodelavci - vakuumisti - se ga bomo spominjali kot Izredno delovnega partnerja, ki nam je s svojimi
preJlO'ji znal posredovati svoje Cmqale življenjske Izkušnje in nas vzportbujati v strokovnem In druStvenern Uelovrtiiju. ÜHKAN1LI LiA aUMÜ V TRAJNtM 3PÜM1NUI
Sodelavci in člani društva za vakuuirsko tpnniko Slovenije
KRATKE NÜVICE
RAZPIS WELCH-STPENDYE ZA LETO 1987
TECAJ "OSNOVE VAKUUMSKE TEHNIKE"
Šolanje se plača za eno šolsko leto z začetkom I. septemora 1986. Ce ima kandidat objektivne razloge, se lariko nastop prestavi za tri mesece. Višina štipendije znaša okrog IJ.OOO L$ In se izplača v treh delih: 3000 U$ na začetku, 4500 po 6 mesecih in SQD US po predloiitvi poročila. Kandidate naprolajo, da izOerejo laOoratarij, ki jim najbolj ustreza ir> sicer v tujini, kjer doslej še niso delali. Kandidati na{ imajo vsaj stopnjo diplomiranega in2eniria, zaželen je doktorski naziv. Forrnsl iosti za prijavo naj bodo opravljene do 1^. aprila Informacije dobite v UVTS ali direktno pri Scholarship from Che lUVSTA Welch FolvtdaUon-Adminš era live Office. Dr. JJ>.Hoteon
Olvision of Electrical Engineering Room 162, Building M-SO National Research Council Ottawa - Canada KIA0R6
DELOVAKIE DVTS V LETU 1985
-	šest sej izvršnega odtnra
-	več sestankov ožjega izvršnega odbora
-	občni ztjor društva 2J. 5. 1935
-	uspešno delovanje za prIdoQitev in ureditev lastne pisarne
-	strokovno predavanje z diapozitivi lUVSTA: Meritve vakuuma in vakuummetri (2.7,85)
-	sestanek za pripravo novih vaj Iä.9.d5
-	delo za pripravo knjige Tart<e vakuurreke plsti - vse leto
-	sodelovanje na vakuumskem kortgresu Avstrije, Jugoslavije in Madžarske
-	Izdaja ch-eh Žtevllk VAKUUMiSTA {februar in avgtst)
• dva tečaja CBnove vakuumske tehnike (januarja 27 udeležencev In novembra 31 udeležencev)
-	dva terminološka sestanka o poerutenju strokovnih vakuumskih Izrazov.
Društvo Z3 vakuuneko tehniko Slovenije je v zadnjih letih organiziralo več tečajev iz Osnov vakuumske tetmike. Zaradi velikega zanimanja nameravamo tečaj ponoviti v dneh od 28. do 30. januarja 1986. Tečaj oo v prostorih inštituta za elektronika In vakuumsko tehniko, Teslova 30, Ljubljana. Lbsegal bo 23 ur predavanj z naslednjimi temami.
1.	Pomen in razvoj vakuumske tehnike
2.	Fizikalne osnove vakuumske tehnike
J. Vakuunske Črpalke (membrai^ke črpalke in črpalke s tekočinskim obročem) Rotacijske črpalke
5.	Kinetične črpalke na pogorisko tekočino, paro oz. plin (ejektorske in difuzijske črpalke)
6.	Sorpcijske črpalke
7.	Vakuumski spoji in tesnilke
8.	Vakuumski sistemi
9.	Vakuummetri
10.Odkrivanje netesnih mest (leak jetekcija)
11.Vakuumski	materiali in Jelo z njimi
12.Vakuunske	tankoplastne tehnologije IJ.Pomen površin v vakuu':Bki tehniki in njihova
karak terizacija H.VakuuiTiska higiena in čisti postopki
15.Loziranje,	čiščenje in preiskave plinov
16.šest	ur vaj in ogled Inštituta.
Tečaj je namenjen tako vzdrževalcem in razvijalcem vakuumskih naprav kot tudi raziskovalcem, ki pri svojem razvojnem oziroma raziskovalnem delu potrebujejo vakuumske pojoje. Kotizacija za udeležence Iz organizacij združenega dela Je 25.000.- din. Vsak udeleženec prejme zbornik predavanj OSNOVE VAKUUMSKE TEHNIKE. Prijave sprejema organizacijski odbor (Pavli, Nemanič, Zavašnik, Pregelj), ki daje tuoi vse dodatne informacije. Tel. (06i) 263-461.
4. XJGOSLOVANSKt SINfOZü O ANAL12NI KEMUI
Jugoslovanski analitiki so s6 latos zbraJi na 4. juijosiovanska'n simpoziju o anallznl kemi|i od 9. do 12. oktobra v Splitu. Sim-pozlf je organizirala Zveza kemikov In tehnologov Hrvaške In Hrvaško kemijsko društvo. Kako veliko je zanimanje za to strokovno kemijsko vejo, priča veliko število prljavljencev. Bilo je okrog 5il0 udeležencev, posterjev je Dllo 268, pet plenarnih in deset sekcljsklh predavanj. Zastopani so bili analitiki iz najrazličnejših industrijskih in raziskovalnih laOoratorijev, ki so predstavili svoje prispevka v sedmih sekcijah iz naslednjih poJročij:
Scfccija A: Vzorčevanje, priprava vzorcev, separacija in
koncentriranje Sekcija B: Kromatografska analiza Sekcija C: Foto metri ja in spektrometri ja Sekcija U: Ltjoraba računalnikov, obdelava podatkov in
avtomatska analiza Sekcija F: Analizna kemija v zaščiti okolja Sekcija G: Ostale merilne tehnike In področja uporabe.
Poleg strokovnih prispevkov so bila tudi srečanja v zvezi s problemi standardizacije materialov za kemijsko analizo, i^rl reševanju analiznih problenuv so močno zastopane tjdi spektroskopske metode. Iz lEVT se je udeležila simpozija E. Perman s prispevkom iz emisijske spektrometrije aluminijevih zlitin. Presenetljivo je dejstva, da se kljub kriznim časom industrija kolikor toliko uspe opremljati z novejšimi anallznlmi aparaturami, tako da se je tiatl zaostajanja raziskovalnih laboratorijev za IndLBtrijsklmi. Tudi pri nabavi tuje literature je industrija na boijšem, ker lahko odvaja lastna devizna sredstva za nabavo strokovne literature in je ne vežejo sporazumi.
Prodor računalniško vodenih aparatur z obdelavo sijnala je tudi pri anallzni instrumentaciji ogromen. Vendar pa so innoji udeleženci opozorili na nujna predznanja o naravi, zgodovini In drugih posebnostih anallznega vzorca zaradi artefaktov, ki jih lahko prinašajo preveliki poudarki na avtomatizaciji.
Zaradi raznolikosti prispevkov ni mogoče potegniti skupne misli skozi teme simpozija. Iviorda bi poudarila veliko prisotnost mladih na vseh strokovnih področjih simpozija, kar kaže na naraščajoče razumevanje in podpiranje te strokovne veje, ki je tako pomembna za reševanje problemov kvalitete, tehnologije onesnaženja okolja, bazičnih raziskav I.dr.
M I E L - 8 6 (prvD obvestilo)
BEOGRAD, 14. - 16. maj 1996
MIEL-86, XIV. Jugoslovansko posvetovanje o mikroelektroniki z mednarodno udeležbo, pretttavlja tradicionalni sestanek strokovnjakov s področja m ikro elektronike Iz vse Jugoslavije.
Referati na temo industrijskih raziskav s področja mlkroeiektro-
nike naj bi zajemali mikroelektronsku temologijo vse od funda-mentalnlii In aplikativnih raziskav, razvojd m projektiranja .Jo prenosa v proizvodnjo monolitnih in hlDrlUNlh integriranih vezij, kakor tudi diskretnih komponent In njin zanesljivosti.
Posvetovanje bo zajemalo naslednja tematska podroCja:
-	optoelektronika
-	senzorji
-	pasivni elemenll na bozI površinskih vdiov
-	novi polprevoJniški materiali
-	Integrirana vezja na bazi GaAs
-	mikrovalovni hibridi
-	'nolekularna elektronika
Prijavljeni referati bodo sprejeti na osnovi lazširjeie krame vsebine v obsegu 2 tipkanih strani.
Uradni leziki posvetovanja s.o vii jugosiovansKi in dr»}iBščiria.
Posvetovanje oo spremlfala razstava proizvodov in opreme s področja mlkroelektronlRS. Razstavljavci naj se prijavijo or-janizatorju najkasneje do 10. februarja ii'db .
Namesto kotizacije je obvezen naKup 7bur"ika referatov, ki oo izšel pred posvetovanjem, po ceni din lü.Ji)a,00 Jin (za inozemske udeležence i IQJ).
Prijave pošljite na naslov: Elektrotehniška zveza Slovenlje-MIEL 61001) Ljubljana, Titova >0, žiro račun: 50iai-678-A87A8
informacije daje sekretar posvetovanja: Pavle Tepina -la Istem naslovu (tel. 061- 316-Ö36 ali 329-955).
Pl_AN DELA OVTS ZA I.ETÜ 1986
Na zadnji seji v lanskem letu je (O aruštva spreiei nas.e^nji okvirni program akcij v letu 19Ö6:
a)	ÜRUANIZlKAt-ilE TtCAJEV
-	CSnove vakuuiiske tehnike 26. - 3Q. Ijšh (in rezervni rok Id. - 20. 2. do)
-	tinove vakuuiiBke tehnike - november
-	Vzdrževanje vakuuirske opreme - maia l'^bö
-	Vzdrževanje vakuunske opreme • oktobra 1936
-	Tanke vakuumske plasti - jeseni d6 {oKtoBer' • Leak delekclja (ix)v tečaj) - Junija I98b
-	Leak detekclja - novembra 1986
b)	ORHAMiZlRANJE JAVNIH PREDAVANJ (2 no 3 v letu 19a6}
c)	UKC.ANIZIRANJt HK:iKUKZlJ za člane CVT'j, eno v tujino eno v Jugoslaviji (Balzers, Saturnus...)
Č) SODELOVANJE PRI ORGANIZACIJI X. JUG. VAK.KONGRE-SA (v Beogradu junija 1986) in udeležba z referati
d)	IZDAJA KMJIGE: Tanke vakuumske plasti	ČLANARINA
e)	DOKONČNA UREDITEV DRUŠTVENE PISARNE na lEVT
f)	IZDAJA DVEH ALI TREH ŠTEVILK VAKUUMISTA in	^liane driiStv.i rrosi-r«-, Ua vplaiajo eiannriiio letu ISHS, ki vseoinska obogatitev našega lista	jua^a jjr,. Cldnarino nakalita na iiro račun pri SOK Lju-
g)	PRPRAVA VSEBINE ZA NOVA TEČAJA: Vzdrlevanje In	oij^i,^ 50101-678-52240 oziroma oseoro vplačajte v UVTS na Leak (Jetekcija	inštlt.jtu za elektroniko in vakuumsko tehniko, faslova 30,
h)	PRIPRAVA ZBORNIKA VAJ ZA TEČAJ Ctenove vakuunske	LiuOljana (pri tov. Marku Zuniru, Jiol.inr).;. tehnike
VAKUUMIST - Glasilo Društva za vakuumsko tehniko Slovenije, Teslova }0, 6111 Ljubliand, Telefon 26^-461. ureja uredniški odbor: Andrej Pregelj, Ivlonika Jenko, Peter Pavli, riorut Praček, Ludvik Pipan, Milan Tasev-skl. Zlata Roš, Janez Setina, Anton Zalar, Marko Zumer.