13 KB619 KB11 KB199219991994Jenko, MonikaKosec, LadislavSteiner Petrovič, DarjaVodopivec, Francštevilka:1/2letnik:285 stranistr. 125-129ISSN:1318-0010COBISSID:17119749URN:URN:NBN:SI:doc-Y9BQF9SUslInštitut za kovinske materiale in tehnologijeŽelezarna JeseniceŽelezarna RavneŽelezarna ŠtoreKovine zlitine tehnologijeelektropločevinajeklorekristalizacijasilicijRast rekristaliziranih zrn v razogljičenem jeklu z 1,8% Si in 0,052% Sb|Cilj raziskave je bil določiti vpliv antimona na kinetiko rasti rekristaliziranih zrn v neorientirani elektro pločevini. Vzorce dveh jekel, primerjalnega jekla brez antimona in jekla, mikrolegiranega z 0.052% antimona,smo žarili v svinčevi kopeli v temp. območju od 700 do 800°C pri različnih časih, od 1 do. 60 minutTEXTznanstveno časopisjejournalsSlovenian National E-content AggregatorNational and University Library of Slovenia