URN:NBN:SI:doc-TQNIGS132012Amon, SlavkoDolžan, TineMožek, MatejPečar, BorutResnik, DragoVrtačnik, Danilodocuments/doc/T/URN_NBN_SI_doc-TQNIGS13_001.pdfdocuments/doc/T/URN_NBN_SI_doc-TQNIGS13_001.txt232articlestr. 4-70351-97169312596URN:NBN:SI:doc-TQNIGS13slvDruštvo za vakuumsko tehniko SlovenijeVakuumistInCetch ratehitrost jedkanjaMEMSprofil jedkanjaprofileRIEselectivity of etchingselektivno jedkanjeReaktivno ionsko jedkanje (RIE) silicija na osnovi SFspodaj6/Ospodaj2-kemije