URN:NBN:SI:doc-ITDMY1S92014Kiefer Juvan, ErikMožek, MatejPečar, BorutResnik, DragoVrtačnik, Danilodocuments/doc/I/URN_NBN_SI_doc-ITDMY1S9_001.pdfdocuments/doc/I/URN_NBN_SI_doc-ITDMY1S9_001.txt334articlestr. 4-90351-971610907988URN:NBN:SI:doc-ITDMY1S9slvDruštvo za vakuumsko tehniko SlovenijeVakuumistInCisotropic etchingizotropno jedkanjeksenonov difluoridsilicon dry etchingsuho jedkanje silicijavacuum systemvakuumski sistemixenon difluorideSistem za suho jedkanje silicija s ksenonovim difluoridom