13 KB251 KB12 KB198120222003Mozetič, MiranVesel, Alenkaštevilka:1letnik:233 stranistr. 16-18ISSN:0351-9716COBISSID:17494567URN:URN:NBN:SI:doc-88GQU5UKslDruštvo za vakuumsko tehniko SlovenijeVakuumistionske črpalkevakuumska tehnikaMagnetronska ionsko-razprševalna črpalka| Magnetron sputter-ion pump|In this contribution we describe a new type of sputter-ion pump that consists of a combination of Penning and magnetron cells. The dependence of discharge current versus the anode voltage and the pressure was investigated. Results showed that a stable discharge was established in the pressure range between 1x10 sup-8 mbar and 1x10sup -6 mbar. At low voltage the dependence of discharge current versus pressure was linear, while at high voltage the curve broke at the pressure of 1x10sup -7 mbarV prispevku prikazujemo konstrukcijo novega tipa ionske-razprševalne črpalke, ki je sestavljena iz kombinacije Penningovih in magnetronskih celic. Raziskovali smo odvisnost razelektritvenega toka v novi črpalki od delovne napetosti in tlaka. Rezultati so pokazali, da dobimo stalno razelektritev v območju med 1x10 nad-8 mbar in 1x10nad -6 mbar. Pri razmeroma nizki napetosti je odvisost toka od tlaka linearna, pri višji napetosti pa se karakteristika zlomi pri tlaku okoli 1x10nad-7 mbarTEXTznanstveno časopisjejournalsSlovenian National E-content AggregatorNational and University Library of SloveniaDruštvo za vakuumsko tehniko Slovenije