2449 KB0 KB200020262026Benamara, OuardaBenhaya, AbdelhamidBenyahia, KaddourGuidoum, Arsalane Chouaibštevilka:4letnik:60str. 635–644DOI:10.17222/mit.2026.1733ISSN:1580-2949COBISSID_HOST:290036227URN:URN:NBN:SI:doc-U51ZZSTBenInštitut za kovinske materiale in tehnologijeMateriali in tehnologijedeposition angleelectrical transportelektrični transportGLADGLAD postopekkorelacija med strukturo in lastnostmikot nanašanjananostructuresnanostruktureoptical propertiesoptične lastnostisilicon thin filmsstructure-property relationshiptanki silicijevi filmiDeposition angle as a continuous parameter: automated glad growth and structure–property correlations in silicon thin films| Kot nanašanja kot zvezni parameter: avtomatizirana rast pod spremenljivim poševnim kotom in korelacije med strukturo in lastnostmi silicijevih tankih plasteh|Revija Materiali in tehnologije je znanstvena serijska publikacija, ki objavlja izvirne in tudi pregledne znanstvene članke ter tehnične novice, ki obravnavajo teoretična in praktična vprašanja naravoslovnih ved in tehnologije na področjih kovinskih in anorganskih materialov, polimerov, vakuumske tehnike in v zadnjem času tudi nanomaterialov. Revija, ki je nadaljevanje publikacije Kovine zlitine tehnologije, izhaja od leta 2000 in ima tudi elektronsko izdajo. Izdaja jo Inštitut za kovinske materiale in tehnologijeTEXTznanstveno časopisjejournalsSlovenian National E-content AggregatorNational and University Library of SloveniaInštitut za kovinske materiale in tehnologije