URN:NBN:SI:DOC-T2RZTAW02018Guo, HuiHou, YiKuang, XupingLiu, TiejunTian, JiliZhang, Huayudocuments/doc/T/URN_NBN_SI_doc-T2RZTAW0_001.pdfdocuments/doc/T/URN_NBN_SI_doc-T2RZTAW0_001.txt252articlestr. 119-12313948581580-2949URN:NBN:SI:doc-T2RZTAW0engInštitut za kovinske materiale in tehnologijeMateriali in tehnologijeInCconventional thermal annealingICPkonvencionalna termična obdelavaNi nanodotNi -nanopikeSi nanopillarSi-nanostebričkiFeasible method to fabricate a nickel-nanodot mask on a silicon substrate with conventional thermal annealingIzvedljiva metoda konvencionalne termične obdelave za izdelavo mask na osnovi nikljevih nanopik na silicijevi podlagi