URN:NBN:SI:DOC-K8TCLKG22025Biswas, SayoriBose, AnindyaSengupta, Sarthakdocuments/doc/K/URN_NBN_SI_doc-K8TCLKG2_001.pdfdocuments/doc/K/URN_NBN_SI_doc-K8TCLKG2_001.txt255articlestr. 103-1140352-904510.33180/InfMIDEM2025.204281477379URN:NBN:SI:doc-K8TCLKG2engStrokovno društvo za mikroelektroniko, elektronske sestavne dele in materialeInformacije MIDEMBYcinkov oksidelement gonilnika zaslona prihodnostifuture display driver elementlitografija brez maske prihodnostimaskless lithographyRF magnetron sputteringRF magnetronsko brizganjetankoplastni tranzistorthin film transistorzinc oxideRazvoj izboljšanega tankoplastnega tranzistorja iz cinkovega oksida za naslednje generacije tehnologij za predvajanje na pametnih telefonihDevelopment of an improved zinc oxide thin film transistor for next-generation smartphone display technologies