<Record><identifier xmlns="http://purl.org/dc/elements/1.1/">URN:NBN:SI:DOC-6BT9NC0O</identifier><date>2024</date><creator>Huo, Honglei</creator><relation>documents/doc/6/URN_NBN_SI_doc-6BT9NC0O_001.pdf</relation><relation>documents/doc/6/URN_NBN_SI_doc-6BT9NC0O_001.txt</relation><format format_type="issue">1</format><format format_type="volume">54</format><format format_type="type">article</format><format format_type="extent">str. 65-73</format><identifier identifier_type="ISSN">0352-9045</identifier><identifier identifier_type="DOI">10.33180/InfMIDEM2024.106</identifier><identifier identifier_type="COBISSID">245622787</identifier><identifier identifier_type="URN">URN:NBN:SI:doc-6BT9NC0O</identifier><language>eng</language><publisher publisher_location="Ljubljana">Strokovno društvo za mikroelektroniko, elektronske sestavne dele in materiale</publisher><source>Informacije MIDEM</source><rights>BY</rights><subject language_type_id="slv">heterovratni dielektrik</subject><subject language_type_id="slv">negativna diferencialna upornost</subject><subject language_type_id="slv">poljski tranzistor z negativno kapacitivnostjo</subject><subject language_type_id="slv">visoka dielektrična konstanta</subject><title>Analysis and mitigation of negative differential resistance effects with hetero-gate dielectric layer in negative-capacitance field-effect transistors</title><title>Analiza in ublažitev učinkov negativne diferencialne upornosti s hetero-vratno dielektrično plastjo v poljskih tranzistorjih z negativno kapacitivnostjo</title></Record>