KRALJEVINA JUGOSLAVIJA
UPRAVA ZA ZAŠTITU
Klasa 12 (6)
INDUSTRISKE SVOJINE
Izdan 1 decembra 1932.
PATENTNI SPIS BR. 9305
Dr. Blanc Gian Alberto, Rim, Italija.
Poboljšanja u postupcima za uklanjanje koloidalnog silicijutna oksida iz izmešanih rastvora, dobijenih za vreme prerade silikata kiselinama.
Prijava od 22 avgusta 1930.	Važi od 1 decembra 1931.
Traženo pravo prvenstva od 23 avgusta 1929 (Italija).
Poznato je iz prakse koliko se ima teškoća prilikom uklanjanja kcloidalnih sup-štanca prisutnih u nekom rastvofu. Jedan od tih teško izvedljivih koloida jeste i si-licium oksid, kada se u kolcidalnom stanju nalazi u nekoj tečnosti, pa bilo da je u obliku mutljaga ili u obliku sluzaste mase.
U stvari, gde je koloid prisutan u tečnosti u obliku želatinoznog agregata, filteri se zagušuju, a kad je to slučaj sa koloidal-nim silicijum oksidom, koji se uz to nalazi i u vrlo razžidenom stanju, onda on prolazi i kroz filter, te tako zagadi filtrovanu tečnost.
Poznat je jedan moj postupak po kojem se dobijaju soni rastvori skoro potpuno slobodni od koloidalnog silicijum oksida, i ako se kompleksni silikati tretiraju kiselinama, kao na primer što je slučaj sa leu-citom (kalijum-aluminium silikat).
Vrlo pažljivim proučavanjem fizičko-he-miskih fenomena, koji prate dejstvo kiselina, došao sam u mogućnost da utvrdim, da čvrsti silikatni ostatak, dobijen od nekih takvih silikata, na primer leucita, ima izvesnu osi binu da zadržava i prikuplja ko-loidalni silicijum oksid, koji se nalazi u suspenziji u nekoj tečnosti, kada ta tečnost dođe u dodir sa takvim ostatkom. Važnost ovog mog pronalaska leži u tome, što o-mogućava da se vrlo korisno mogu upo-trebiti i oni materijali, koji do sada nisu mogli biti upotreblejni usled sadržanog silicijum oksida.
Poznato je, na primer, da silikati uopšte, a naročito silikati, koji sadrže materijala,
koji megu imati dosta veliku vrednost, ako bi se dobili bez silicijum oksida, (na primer aluminijum oksid dobijen iz leucita) mogu biti podvrgnuti preradi pomoću kiselina, kao što je gore rečeno, tako da se dobije skoro potpuno uklanjanje silicijum oksida iz sonog rastvora, iz koga se može potreban materijal izdvajati. Ipak, u postupku koji je napred bio pomenut, potrebno je bilo da se sav, odnosno, najveći deo materijala nalazi u zrnastom stanju, što je iziskivalo naročito prerađivanje materijala mehaničkim putem, pri čemu je vrlo velika količina materijala dobijana, koja nije mogla biti iskorišćena, jer je zrnevlje bilo i suviše sitno da bi se korisno moglo upotre-biti u postupku, pošto je postupak iziskivao upotrebu materijala u zrnastom stanju i to u zrnevlju izvesne određene krajnje veličine, ispod koje se nije smelo ići, a koja je veličina bila dosta znatna u slučajevima izvesnih kiselina. Međutim, dejstvo kiselina na mineral u zrnastom stanju mnogo je sporije i mnogo se teže izvodi nego kada bi materijal bio u prašku.
Iz gornjega izlazi, da bi postupak, koji bi omogućavao da se potpuno ukloni sili-cijum oksid, koji se nalazi u koloidalnom stanju u tečnosti, dobijenoj tretiranjem nekog silikata (kao leucita) pomoću raznih kiselina, i ako se taj materijal prerađuje u vrlo sitnom stanju ilj u obliku praška, bio od vrlo velike koristi.
Postupak za postizavanje gornjeg cilja, do kojeg sam došao posle dugih istraživanja i proba, sastoji se u sledečem:
Din. 5.
Izvesna količina silikatnog ostatka, koji je dobijen posle prerade kiselinom nekog silikata u zrnastom obliku (na primer leu-čita) i pošto je uklonjen soni rastvor, koji je postao usled te prerade (i koji se može u druge svrbe upotrebiti) stavlja se u neki sud sa rešetkastim dnom, tako, da se obrazuje jedan za tečnost probojni sloj, kroz koji se uzastopno propušta kiselina dokle god se ne uklone sve baze koje se mogu rastvoriti, posle čega se kroz njega propušta tečnost, koja se ima osloboditi od ko-loidalnog silicijum oksida, koji se u njoj sadrži u suspenziji.
Apsorbujuća snaga ovog sloja prema ko-loidalnorn silicijum oksidu tako j(e velika, da on može prikupiti velike količine kolo-idalnog silicijum oksida iz srazmerno vrlo velikih količina rastvora, dobijenog preradom silikata (na primer, leucita) u zrnastom, sitnom stanju, odnosno, i u obliku praška, koji se materijal ne bi mogao inače upotrebiti bez ovog mog postupka.
Drugi način za primenu ovog postupka jeste da se tretira izmešani materijal na primer, silikati u zrnastom i u vrlo sitnom stanju — prašku — usvajajući izvesnu srednju granicu u pogledu finoće tog materijala, tako, da propusni prostor u sloju bude taman dovoljan da tečnost može proći kroz njega. Na taj se način stvori jedan sloj materijala, koji će se prerađivati, i koji će ipak moći propuštati tečnost da prođe kroz njega, tako da ta tečnost, kada se prerada materijala dovrši, može da prode kroz mašu silikatnog ostatka, koji će na taj način zadržati i izdvojiti koloidalni silicijum oksid, sadržan u toj tečnosti.
Ja sam takođe utvrdio da su glavni faktori, koji utiču na brzinu izdvajanja koloida u suspenziji, koncentracija sone i kisele tečnosti, a takođe i njena temperatura, i brzina delovanja rasti uporedo sa pojačavanjem ili povećavanjem gornjih faktora.
Prema tome, moguće je udesiti za svaki silikat, za svaku veličinu zrnevlja i za svaku upotrebljenu kiselinu, najbolje uslove i odgovarajući stepen koncentracije sone i kisele tečnosti uz odgovarajuću temperaturu, radi potpunog uklanjanja koloidalnog silicijum oksida pomoću gornjeg postupka, a da se pri tom ne reskira da se dotera do granice zasićenosti, za ma koji od so-nih sastojaka u tim točnostima.
Postupak za izdvajanje koloidalnog silicijum oksida iz nekog rastvora, u kome se on sadrži u suspenziji, može se takođe pri-meniti i na druge koloidalne supstance koje se nalaze u tečncstirna u suspenziji, propuštajući tu tečnost kroz promočivi sloj koloidne mase, koja će delovati na sličan način, kao ostatak, dobijen preradom zrnastog leucita pomoću kiselina.
Patentni zahtevi:
1.	Postupak za uklanjanje koloidalnog silicijumoksida iz rastvora, dobi jenih tretiranjem silikata kiselinama, naznačen time, što se izvesna količina nekog silikata u zrnastom obliku stavlja u sud sa rešetkastim dnom, tako da se obrazuje sloj, kroz koji se uzastopno propušta kiselina dokle god se ne uklone sve baze, koje se mogu rastvoriti, posle čega se kroz njega propušta tečnost, koja se ima osloboditi od koloidalnog silicijum oksida, koji se u njoj sadrži u suspenziji, da bi sloj apsorbovao sav koloidalni silicijum oksid.
2.	Postupak za utvrđivanje koloidalnog materijala sadržanog u nekoj tečnosti u suspenziji, naznačen time, što se sastoji u tome, što se tečnost propušta kroz jedan sloj od zrnastog, i time i za tečnost pro-pustljivog materijala, koji se sastoji od istog koloida ili od nekog drugog koloida, koji ima osobinu da fiksira (utvrđuje) koloidalne čestice sadržane u suspenziji.